книги / Надежность в микроэлектронике
..pdfшевле, сульфид кремния еще дешевле. Технология кремниевых солнечных элементов дорога: стоимость не большой кремниевой пластины составляет десятки цен тов, а изготовленный из нее солнечный элёмент — уже несколько долларов. Дороги и вещество и технология получения элемента из него. Для удешевления стои мости материала желательно использовать очень тон кие слои. А если можно использовать дешевые тонкие слои, то это еще выгоднее, чем объясняется интерес к солнечным элементам из сульфида кадмия. Ширина запрещенной зоны сульфида кадмия равна приблизи тельно 2,5 эВ, что обеспечивает более низкий предель ный КПД по сравнению с материалами, имеющими ширину а!апрещенной зоны в 1,4 эВ и обеспечивающи ми наивысший КПД при освещении солнечным светом. Осажденные из газовой фазы или вакуумным напыле нием слои имеют очень малую толщину (15 мкм) и ее можно сделать еще меньше (примерно 1 мкм). Далее электролитически осаждается сульфид меди.
КПД лучших приборов из сульфида кадмия дости гает иногда 8%. Большая стоимость достижения высо кого КПД заставляет отдавать предпочтение менее эффективным приборам. Например, японские специали сты не намерены биться за КПД кремниевых элемен тов в 22%, считая, что уже 16% удовлетворяют требо ваниям рынка.
Основные недостатки солнечных элементов из суль фида кадмия уже отмечались: они подвержены влия нию паров воды, кислорода и света, наличие большого числа дефектов затрудняет получение воспроизводимых образцов. Проводятся работы по повышению воспро изводимости и стабильности солнечных элементов. Упорные исследования привели к обнадеживающему результату, именно оказалось, что имеется пороговое
напряжение |
деградации гетероперехода |
сульфид ме |
ди — сульфид |
кадмия в 0,33 В, ниже которого солнеч |
|
ный элемент |
будет стабилен. В учебных |
заведениях, |
а не в промышленности, исследуются солнечные эле менты на теллуриде кадмия. Он оптимален по ширине запрещенной зоны, образует гетеропереходы с сульфи дом кадмия и дешев.
Имеется еще много-много полупроводников, пригод ных для солнечных элементов, но не используемых: ар1ТПИД бора (Eg = 1,46эВ ), антимонид алюминия (Eg =
1,6 эВ); тройные соединения: InGaP, GaAsP, ZnSeTe, CdSTe и среди них может быть материал, более подхо дящий для изготовления надежных солнечных батарей, чем все существующие. Так что проблема нахождения оптимального материала не решена. А далее идут дру гие проблемы, например прочность батарей. Тонкие слои кремния хрупки (толщиной 0,1 мм), так же хруп ки будут и микронные слои арсенида галлия. Вот поче му встает вопрос об осаждении монокристаллических слоев на металлическую или сапфировую подложки, однако это очень дорого сегодня, поэтому и испытыва ют КПД солнечных элементов из поликристаллического кремния. Дешевизна изготовления солнечных батарей на основе диодов Шоттки, при котором требуется толь ко нанесение двух слоев — металла и полупроводника, обусловливает непрекращающиеся поиски.
Противоотражающие покрытия, а также покрытия солнечных элементов, обеспечивающие их надежную работу в различных атмосферных условиях, также пред ставляют собой нерешенные проблемы.
Гетеропереходы тоже не сказали еще последнего слова. Ведь максимальный КПД гомогенного электрон- но-дырбчного перехода из арсенида галлия достигнут только в лабораторных условиях. Может быть неодно родное легирование полупроводников сможет поднять эффективность преобразователей.
В этой небольшой брошюре мы попытались расска зать о некоторых задачах современной полупроводни ковой микроэлектроники, мы попытались заглянуть в будущее микроминиатюризации, мы пошли по хорошо протопанным дорогам и увидели, что они становятся не очень ясными тропинками в будущем.
Так привычная надежность, наверное, будет отхо дить от оценки надежности приборов интенсивностью отказов и будет приближаться к оценке надежности га рантированным временем работы до первого отказа (конечно с вероятностью, близкой к единице, с извест ным доверительным интервалом). Это произойдет не скоро. Для этого привычная технология будет заме няться новой технологией, синтезом и осознанным при менением современных физики, физической химии и хи мии. И если на вопросы «можно или нельзя?» ответят фундаментальные законы, то на вопросы «как?» отве тят конкретные дисциплины и специалисты, знающие
широко основы наук и глубоко свою узкую специальность. Такие специалисты, объединенные в коллекти вы, оснащенные современной физической аппаратурой, резко продлят «время жизни» до отказа полупроводни ковых приборов и интегральных схем. Это продление жизни происходит уже сейчас незаметно, но повседнев но. Мы подчеркнули некоторые причины ограничения микроминиатюризации: геометрические пределы прибо ров вследствие физических ограничений, понижение на дежности; мы подчеркнули, что микроминиатюризация электронной аппаратуры вступает в противоречие с со бой из-за необходимости охлаждения. Дальнейшим раз витием микроминиатюризации всей радиоэлектронной аппаратуры в целом будет высокотемпературная мик роэлектроника, и в первую очередь полупроводниковая. На вопросы — можно ли создать такую микроэлектро нику и какими средствами — имеются положительные ответы. Существуют не только много пригодных слабо изученных материалов, но гоедстоит еще много иссле дований с арсенидом галлия, с приборами на его ос нове; есть и такой развивающийся технологический метод, как метод осаждения из газовой фазы при про текании химических реакций, наиболее подходящий для получения только с его помощью высокотемпера турных приборов и интегральных схем. Но пока высо котемпературных интегральных схем нет. Будут ли они? Будут. Как раз последний раздел брошюры является поучительным примером развития приборов, подтверж дающим будущее внедрение высокотемпературной по лупроводниковой микроэлектроники. Полупроводнико вые фотопреобразователи появились в 50-х годах, тог да же была определена зависимость их КПД от вели чины ширины запрещенной зоны. Они были использо ваны в дорогих космических аппаратах. Энергетический
кризис дал второе дыхание разработкам этих |
приборов |
в капиталистических странах. (Планомерное |
развитие |
науки и техники в нашем государстве исключает такие броски и гарантирует наши неизменные успехи).
Любопытно, что все поиски и решения, имеющие
цель получить эффективные, |
дешевые |
преобразователи, |
|||
основаны на теоретических |
выводах |
50-х |
годов. |
Для |
|
ццпериментальной |
проверки |
теоретических |
предпосы |
||
лок использовались |
последние результаты |
физических, |
|||
<| тико-химических |
исследований и необходимы |
боль |
шой научный и технический потенциалы и, наконец, большие капиталовложения. Это объясняет то, что не каждое государство может вести исследования по но вым полупроводниковым материалам и новым полупро водниковым приборам. Что делать было известно, не известно— как это сделать конкретно. Выполненные за последние годы (точнее месяпы) работы по созданию эффективных фотопреобразокятелей заставляли вно сить уточнения в текст брошюпы во время работы над ней: написанное вначале о предполагаемом КПД пре образователей из арсенида галлия на гетеропереходах было исправлено на достигнутый КПД в 20%. Бесспор но, полупроводниковые фотопреобразователи займут достойное место среди источников энергии. Высокотем пературная электроника нахппится в зачаточном со стоянии. Ее фундамент закладывается. Мы мало знаем о свойствах реальных материалов и полупроводников при высоких температурах. Эти свойства станут понят ными до конца в результате характерных исследований последних лет: физико-химическое изучение, использу ющее в первую очередь чисто физические методы и нацеленное на решение конкретных задач; причем од ним из главных направлений будет изучение поведения дефектов в твердом теле при повышенных темпера турах.
Какой-то вклад в развитие высокотемпературных приборов из арсенида галлия внесут достижения в об ласти фотопреобразователей из этого перспективного материала. Но какой, пока еш£ рано говорить.
Несомненно, широкие и глубокие исследования при ведут к созданию электронных машин без принудитель ного охлаждения, к микроминиатюризации всей аппа ратуры в целом. Но для этого, конечно, требуется вре мя, и не малое, как и для дальнейшего резкого улуч шения надежности обычных полупроводниковых прибо ров и ИС.