Добавил:
Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:

Технология многослойных печатных плат

..pdf
Скачиваний:
41
Добавлен:
15.11.2022
Размер:
9.99 Mб
Скачать

рого поколения имеют программное управление, увеличенное чи­ сло шпинделей и повышенную точность отработки координат. Па­ раметры и особенности конструкций этих станков: большая час­ тота подач шпинделя (до 2000 подач/мин); высокая скорость по­ зиционирования (5 10 м/мин), которая достигается в результа­ те применения малоинерционных двигателей; высокие точностные характеристики (точность отработки координат ± 5 ... 7,5 мкм и сверления ±12,5... 25 мкм); применение в качестве приводных двигателей отработки координат двигателей постоянного тока; на­ личие обратной связи, обеспечивающей отработку запрограмми­ рованной координаты; широкий диапазон выбора числа оборотов (0 ... 80 000 об/мин).

В настоящее время выпускаются сверлильные станки третье­ го поколения с программным управлением и сложной системой команд. Совершенствование сверлильных станков ведется в сле­ дующих направлениях: увеличение числа шпинделей, скорости их подачи и вращения; упрощение методов фиксации плат на пло­ щадке стола и их совмещения; автоматизация смены сверла; уменьшение шага перемещения, увеличение скорости привода; создание систем, предотвращающих сверление отверстий по незапрограммированной координате и повторное сверление на преж­ ней координате; переход на непосредственное управление станка от ЭВМ; повышение точности отработки координат.

При сверлении МПП было обнаружено наволакивание смо­ лы на кромки контактных площадок, что значительно усложнило металлизацию сквозных отверстий. Наволакивание приводит к появлению на меди барьерного слоя, препятствующего электри­ ческой связи между контактной площадкой и металлизацией в отверстии (межслойные соединения). Этот дефект трудно обна­ ружить. Наволакивание — следствие местного перегрева слоис­ того материала при сверлении. Эпоксидное связующее становит­ ся пластичным и наволакивается на торцевые медные поверхно­ сти в результате нагрева, давления и трения. Для визуальной оценки состояния торцов контактных площадок платы после свер­ ления обрабатывались в полисульфидном растворе. Исследования установили, что:

при заточке сверла с углом при вершине, равном 82°, наблю­ дается максимальное наволакивание смолы, но износ сверла мак­ симален. Исходя из экономических предпосылок, исследователи считают, что стандартный угол при вершине, равный 118°, с оп­ тимальной степенью остроты заточки дает наилучшие результаты;

сверление под водой резко снижает эффект наволакивания;

применение затылованных спиральных сверл и сверл с зани­ женным диаметром нерабочей части, которые не соприкасаются с

отверстием после прохождения материала, не уменьшает навола­ кивания.

Использование подводного сверления связано с рядом тех­ нических трудностей. Прежде всего, необходимы специальные

112

сверлильные станки, которые были бы надежно защищены от коррозии, особенно в шпиндельной группе и приводе стола. Та­ ких станков нет, а обычные станки © результате коррозии резко теряют точность.

Отечественной промышленностью разработан метод сверления в водяном тумане. Специальное приспособление вокруг сверла создает водяной туман. Этот метод дал заметный эффект сниже­ ния наволакивания смолы на торцах контактных площадок, не­ сколько повысилась стойкость инструмента. Однако даже незна­ чительное попадание воды в механизмы станка вызывает корро­ зию. Ряд зарубежных авторов предлагает с целью устранения на­ волакивания использовать двойное сверление. Первый проход вы­ полняют сверлом диаметром на 0,05 мм меньше, чем при втором сверлении. Но такой метод сверления резко снижает производи­ тельность. Термообработка после сверления приводит к уменьше­ нию содержания влаги в заготовке.

Обычно при сверлении глубоких отверстий (МПП из 24 сло­ ев) применяется метод предварительного сверления, в котором сиерление производится в три приема: первым сверлом с корот­ кой рабочей частью (для позиционирования и уменьшения отно­ шения высоты к диаметру), затем сверлом большей длины и да­ лее— еще более длинным сверлом. Каждым сверлом просверли­ вается не более 1000 отверстий. Затем сверло затупляется, уве­ личивается нанос смолы, ухудшаются условия очистки отвер­ стий. Классификация дефектов металлизации отверстий ПП, при­

чиной которых является неправильный выбор режимов

сверле­

ния или дефекты инструментов:

 

 

 

 

 

В озм ож ная причина

С п особ

уст ранения

Шероховатые стенки

Износилось I(затупи­

Проверить

и

заменить

отверстия

лось) или сломалось

сверло

 

 

 

Деформировано от­

сверло

Уменьшить подачу. Уве­

Неправильный режим

верстие; контактные

 

личить число

оборотов

площадки смещены;

 

сверла

 

 

 

наволакивание смолы

 

 

 

 

 

в отверстиях

 

 

 

 

 

Посторонние включе­

Стружка стеклотекс­

Увеличить

шаг

спирали

ния в осажденном

толита не удалена

сверла и

давление

воз­

слое меди

из отверстия. Невер­

духа при

продувке

пла­

 

ный шаг спиральной

ты после сверления

 

 

канавки сверла

 

 

 

 

Канавки забиваются стружкой. После сверления канавки не очищаются

Широко применяются режимы сверления со скоростью реза­ ния 40 ... 50 м/мин. Новые сверлильные станки с программным уп­ равлением, которые предлагают зарубежные фирмы, оснащены шпинделями, имеющими 30 ... 90 тыс. об./мин, например англий­ ский станок фирмы «Веро».

Штамповка становится наиболее приемлемой операцией, если отверстие имеет не круглую форму.

Сверление прецизионных МПП. Этот процесс включает две опе­ рации: сверление переходных отверстий малого диаметра 0,2 ...

... 0,3 мм и сверление отверстий при соотношении высоты и ди­ аметра отверстия, значительно превышающем 3.

Получение переходных отверстий малого диаметра связано с проблемой создания сверл малого диаметра. Ряд зарубежных фирм («Хавера», ФРГ; «Эксселона», США и др.) освоили изго­ товление сверл малого диаметра — до 0,2 мм. При сверлении от­ верстий такого диаметра необходимо соблюдать следующие ус­ ловия: толщина плат не должна превышать четырех диаметров сверл; скорость резания должна оставаться 0,03... 0,05 мм/об.; чистота обработки сверл должна быть, по крайней мере, на класс выше (VII и выше). Однако даже при соблюдении этих условий процесс изготовления сверл уменьшенного диаметра связан с большими трудностями. Так, по данным фирмы «Хавера», если выход годных сверл диаметром 1 мм составляет 80% и более, то для сверл диаметром 0,2 мм — лишь 30%. Низкий выход годных сверл малого диаметра вызван многими причинами, например высокой зернистостью твердых сплавов (до 20 мкм).

В нашей стране производство сверл малого диаметра пока не освоено, поэтому разработан новый метод получения отверстий

малого диаметра — лазерное сверление.

Для получения отверстий

с повышенным соотношением высоты

к диаметру используется

метод предварительного сверления отверстия коротким сверлом, что позволяет иметь направление для последующего сверления и уменьшить соотношение высоты к диаметру. Поэтому для обеспе­ чения процесса механического сверления прецизионных МПП не­ обходимо: повышение точности позиционирования сверлильных станков до ± 5 мкм; увеличение частоты вращения шпинделя до 100 тыс. об./мин; уменьшение биения сверла до 5 мкм; организа­ ция производства твердых сплавов с малой зернистостью (до

7мкм).

Сцелью управления качеством металлизации в программе сверления предусматривается фиксация момента затупления свер­ ла по значению энергии, затрачиваемой на сверление. После свер­ ления отверстий в МПП производится термообработка их при 120... 130° С в течение 1,5... 2 ч. Цель этой операции — снять внут­ ренние напряжения. Если раньше основными проблемами при сверлении МПП был эффект «шляпки гвоздя» (расплющивание

торцов внутренних проводящих слоев, в результате чего медь за­ крывает поверхность диэлектрика, резко ухудшая условия трав­ ления стенок), то в настоящее время этот дефект почти не встре­ чается благодаря улучшению качества сверл и свершенствованию сверлильных станков. Позиционная точность отечественных и не­ которых зарубежных станков для сверления отверстий в ПП при­ ведена в табл. 8.1 [3].

Позиционная точность сверлильных станков

 

Марка станка

Позиционная

Среднеквадратическое откло­

 

точность

 

нение,

мм

(страна-изготовитель)

(паспортные

 

 

 

 

 

 

данные, мм)

расчетное

\

фактическое

 

 

 

 

ОФ-72

(СССР)

+0,05

0,017

 

0,023

СФ-4

(СССР)

+0,03

0,01

 

0,017

КД-36

(СССР)

±0,025

0,008

 

0,023

АВ-24

(ФРГ)

+0,03

0,01

 

0,012

«Шмоль»

(ФРГ)

 

сАлфа-3>

(США)

±0,015

0,005

 

0,004

Считается, что частота поломки сверла возрастает линейно при увеличении длины сверл и в третьей степени при уменьшении их диаметра. Ряд предприятий успешно используют луч лазера для изготовлений малых отверстий. Для создания плат с большой плотностью электронных контактов приходится изготовлять пла­ ты с соединениями внутренних слоев, не выходящими на поверх­ ность МПП, либо с соединениями внутренних слоев с отдельными внешними слоями. Такие соединения называют слепыми и выпол­ няют на отдельных ступенях технологического процесса, когда со­ единяются соответствующие слои МПП. Эта система, использую­ щая лазер, весьма перспективна, с ее помощью рассчитывают до­ вести диаметр отверстий до 0,1 мм, в том числе и при изготовле­ нии слепых отверстий [15].

Внашей стране попытки использования лазеров для получения отверстий в ПП проводились с середины 70-х гг. Однако жела­ ние получить отверстие в многослойной структуре металл — ди­ электрик — металл приводило к значительному повышению мощ­ ности заряда лазера при пробивке металла. Последующий мощ­ ный импульс пробивал диэлектрик и обугливал края отверстий, что не позволяло в дальнейшем их металлизировать. Поэтому с целью получения отверстий малого диаметра в диэлектриках про­ водится вытравливание фольги в центрах будущих отверстий с двух сторон, а затем пробивается отверстие с помощью лазера. Для получения отверстий используется лазер на углекислом газе мощностью 60 Вт, обеспечивающий малую расходимость излуче­ ния.

Внастоящее время проводятся экспериментальные исследова­ ния по получению глухих отверстий малого диаметра, когда фоль­ га на обратной стороне не вытравливается, а оставляется в каче­ стве отражающего экрана и исходного материала для осаждения металла с целью осаждения на стенках отверстий. Освоение тако­ го процесса позволило бы исключить операцию химического мед­ нения и ускорить процесс изготовления. В [16] показано, что для получения отверстий диаметром 0,2 мм в стеклотекстолитовых заготовках ПП толщиной 0,15 мм использовались импульсы мик-

росекундной длительности с мощностью в импульсе около киловат­ та в области длин волн 10,6 мкм. Установлено, что существуют

оптимальные серии импульсов (длительность серий 0,01... 0,1 с), обеспечивающие минимальную конусность отверстий и неокисляю­ щие материал платы на краях отверстий. При уменьшении плот­ ности лазерной мощности заметно увеличивается время форми­ рования отверстий и ухудшается их качество. Отверстия, сфор­ мированные лазерными импульсами, хорошо покрываются хими­ чески медью из раствора и никелем из газовой фазы, что в пер­ спективе дает возможность использовать их в качестве переходных отверстий в ПП.

9. ПОДГОТОВИТЕЛЬНЫЕ ОПЕРАЦИИ ПЕРЕД ХИМИЧЕСКИМ МЕДНЕНИЕМ

9.1. СЕНСИБИЛИЗАЦИЯ

Обычно, чтобы придать диэлектрику способность к металлиза­ ции, проводят две специальные подготовительные операции —

сенсибилизацию и активизацию. Цель операции сенсибилизации — создание на поверхности диэлектрика пленки из ионов двухвалент­ ного олова, которые являются впоследствии восстановителями для ионов палладия. Обработанная в растворе двухлористого олова плата промывается в воде, при этом происходит гидролиз соли по схеме

I ступень

SnCl2 + H20-+Sn(0H)Cl + HCl

II ступень

Sn (ОН) Cl + H20->Sn (ОН) 2 + НС1

Продукты гидролиза SnCl2 обладают сильными восстанови­ тельными свойствами. Раствор SnCl2 во избежание образования коллоида готовится следующим образом: навеска SnCl2 растворя­ ется в концентрированной НС1, а затем разбавляется водой. Опти­ мальный состав раствора для сенсибилизации (г/л): SnCl2—10; НС1—40. Слишком малые количества Sn2+ в растворе сенсиби­ лизации приводят к неравномерности покрытия металлизируемой поверхности и снижению силы сцепления. Постепенное разбав­ ление сенсибилизирующего раствора водой, остающейся после промывки, предотвращают, предварительно погружая заготовку в 10%-ную соляную кислоту. В результате окисления раствора кисло­ родом воздуха и под действием света происходит частичное образо­ вание четырехвалентного олова БпСЦ, которое весьма склонно к гидролизу в кислой среде, вследствие чего раствор мутнеет:

3SnCl2+ l/202+ H 20-*SnCl4+2Sn (ОН) Cl;

SnCU+H20-*Sn(0H )C l3 + HCl.

Для предотвращения этого явления рекомендуется в раствор опустить несколько гранул металлического олова, в присутствии которого четырехвалентное олово медленно восстанавливается

116

до первоначального двухвалентного состояния Sn4++Sn°->- ->-2Sn2+. Поверхность меди должна быть практически без окисных включений, на которых может адсорбироваться большое ко­ личество олова. Увеличение содержания олова в растворе сенси­

билизации

может явиться причиной недостаточной адгезии меж­

ду фольгой

(например, торцами контактных площадок) и химиче­

ски осажденной медью.

Как показали электронно-микроскопические исследования, гид­ роокись двухвалентного олова адсорбируется отдельными пятна­ ми (доменами) на расстоянии, соизмеримом с размером домена и практически вся поверхность равномерно покрыта Sn(OH)2. До недавнего времени считалось, что накопление в растворе сенсиби­ лизации ионов четырехвалентного олова оказывает неблагопри­ ятный эффект, поэтому растворы сенсибилизации защищаются от окисления, т. е. от воздействия прямого солнечного света и кис­ лорода воздуха. Однако в последние годы установлено, что луч­ шим является раствор сенсибилизации, в котором наряду с ионами двухвалентного олова находятся ионы и четырехвалент­ ного. При сенсибилизации необходимо обеспечить прохождение раствора через отверстия в заготовках плат. С этой целью обычно производится покачивание подвесок с платами в растворе.

При травлении стеклотекстолита могут образовываться группы HSO+з, получающиеся в результате взаимодействия серной кисло­ ты с ионами водорода подложки (схема сульфинирования диэлект­ рика) :

Затем в растворе сенсибилизации происходит ионообмен — ионы водорода двух групп HSO~3 замещаются на ион двухвалент­ ного олова:

Вредной примесью в растворе сенсибилизации является ион Fe3+, так как в результате реакции 2Fe3++ S n2+-»-2Fe2++ S n4+ снижается концентрация SnCl2. После сенсибилизации платы про­ мываются и обрабатываются растворами солей благородных ме­ таллов (активация).

9.2. АКТИВАЦИЯ

Драгоценные металлы наиболее пригодны для этой цели, так как они легко восстанавливаются, относительно плохо пассивиру­ ются и являются хорошими проводниками. Наиболее широко ис­ пользуются соли палладия, например двухлористый палладий. Раствор стандартного состава содержит PdCl2 0,25... 1 г/л; НС1 (пл. 1,19) 2 ... 3 мл/л.

Структура PdCl2 характеризуется наличием цепеобразных группировок:

Так как в солянокислых растворах хлористый палладий нахо­ дится в виде соединения H2PdCl4, то реакция активации может быть представлена в виде уравнений:

Sn (ОН) Cl + H2PdCl4 + HCl-*-Pd+H2SnCl6+ Н20;

Sn(0H )2 + H2PdCl4+2HCl->Pd+H2SnCl6+2H 20.

Концентрация палладия в растворе активации чаще всего оп­ ределяется экспрессным методом по оптической плотности. С этой целью отбирается 1 мл исследуемого раствора в мерную колбу емкостью 50 мл, доливается дистиллированной водой до метки и перемешивается. Затем измеряется оптическая плотность раство­ ра на фотоколориметре ФЭК-56М и кювете шириной 10 мм со светофильтром № 3. Одновременно измеряют оптическую плот­ ность эталонного раствора, приготовленного так же, как иссле­ дуемый раствор.

Содержание

палладия определяется по

формуле

С*=СЭтА*/

D3r, где Сэт —

концентрация палладия

в

эталонном

растворе;

Ат — оптическая

плотность исследуемого

раствора; Аэт — оптиче­

ская плотность эталонного раствора.

Активирование обычно проводится при комнатной температу­ ре, и лишь иногда используется подогрев раствора PdCl2 до 40 ...

60° С. Для улучшения смачиваемости плата во время

обработ­

ки

в растворе подвергается ультразвуковой вибрации с частотой

20

40 кГц в течение 2 мин. Эффективность активации

пропор­

циональна

количеству палладия, оставшегося на травленой по­

верхности.

Необходимо, чтобы минимальное количество

палладия

118

на поверхности диэлектрика было 1 • 10 3 г/см. При обработке стандартным раствором, содержащим РбС1г и НС1, стенок отвер­ стий МПП, состоящих из чередующихся слоев фольга — диэлект­ рик — фольга — диэлектрик, протекают следующие параллельные

реакции:

на диэлектрике SnCh+PdCh-xPcP + SnCU;

торцах контактных площадок Cu+PdClj-^-PcP+CuCb. Сначала рассмотрим реакцию, протекающую на поверхности

диэлектрика при активации: ион палладия под действием двух­ валентного олова, предварительно адсорбированного на стадии сенсибилизации, переходит из ионного состояния в металлическое, придавая диэлектрику способность к металлизации. На поверхно­

сти изоляционного материала

вследствие адсорбции образуется

тонкая сетка частиц металлического палладия

порядка 1 • 10-9

м,

расположенных одна от другой

на расстоянии

1 • 10-9 ... 2 - 10-9

м.

Связь частиц палладия с подложкой определяется их внедрением в поры диэлектрика, а также образованием ковалентных связей между металлом и химическими структурами, возникающими в процессе обработки поверхности. Можно предположить, что при

этом имеет место обмен ионов олова

на

ионы

палладия:

so3

 

 

 

so3

 

 

 

Восстановление палладия завершается

в ванне

химического

меднения и фиксируется визуально — на

покрываемой поверхно­

сти образуется черный мелкодисперсный

осадок металлического

палладия. Для исследования процесса активирования применяют радиоактивные изотопы палладия, что позволяет легко обнаружи­ вать образование зародышей палладия. В качестве радиоактивно­ го изотопа обычно применяется чистый Pd109, испускающий |3-лу- чи, который получали при облучении стабильного изотопа PdltiS тепловыми нейтронами. Сравнительное измерение излучения Pd139 проводили с помощью р-сцинтилляционного счетчика с электрон­

ным регистратором. При проведении эксперимента

изотоп

Pd109

добавляли в

раствор травления — смесь бихромата

калия

(нат­

рия) и серной

кислоты. Установлено, что концентрация драгоцен­

ного металла в последующих стадиях активирования и травления снижается, однако она остается достаточно большой, чтобы гаран­ тировать образование зародышей. Для сохранения постоянной скорости процесса активации необходимо поддерживать концент­ рацию палладия на уровне, указанном в рецептуре, при снижении на 30% производить корректировку, которая обычно выполняется

концентрированным раствором, например состава PdCb 50 г/л; НС1 25 мл; вода — до 1 л.

Рассмотрим побочную реакцию, происходящую на торцах кон­ тактных площадок. Эта реакция нежелательна. Обусловлено это

тем, что палладий, выделившийся на торцах медных контактных площадок, препятствует прочному и непосредственному сцеплению медной фольги со слоем химически осажденной меди. Являясь клас­ сическим поглотителем водорода, он захватывает водород, кото­ рый выделяется в процессе химического меднения, образуя^ гидри­ ды палладия. Пленка палладия, разделяющая торец медной фоль­ ги и химически осажденной меди, вследствие поглощения водорода становится все более рыхлой. Это приводит к снижению прочности сцепления химически осажденной меди и, главное, к высокому и нестабильному переходному электрическому сопротивлению. Кон­ тактное выделение палладия имеет место и при металлизации обычных (не многослойных) ПП, но это не приводит к резкому снижению качества, так как в этом случае обеспечивается боль­ шая площадь контакта между фольгой и слоем химически осаж­ денной меди. Проводятся работы по устранению контактного вы­ деления палладия на медных торцах переходных отверстий ПП. Так, применяется предварительное оксидирование медных торцов контактных площадок. Эта обработка повышает потенциал по­ верхности металла, что препятствует осаждению на ней палладия.

Оксидирование поверхности, однако, не всегда позволяет надежно устранить контактное выделение палладия на торцах фольги. Для удаления палладия с поверхности медной фольги, в том числе и с торцов, применяется электрополировка (анодное растворение палладия). Раствор для удаления палладия электрополировкой:

Ортофосфорная кислота Н3Р 0 4, (пл. 1,7), мл/л

760 ... 780

Бутиловый

спирт,

мл/л

 

70 ... 100

Плотность

тока

при электрополировке

10 А/дм2

Этим способом

не удаляется

палладий с внутренних

слоев

МПП. Для удаления палладия

с внутренних слоев необходимо

обеспечить подключение всех цепей к аноду, что далеко не всегда возможно; после выполнения электрополировки требуется произ­ вести разобщение цепей (обычно механическим способом — рас­ сверливая участки), при насыщенном монтаже сложно качествен­

но, не повреждая цепи на других слоях, выполнить их прерыва­ ние.

Предложен способ активации заготовок раствором ацетилацетона палладия, который обладает способностью при нагреве раз­ лагаться, выделяя металлический палладий. Такие органические соединения палладия можно хранить и транспортировать в су­ хом виде, что удешевляет процесс активации. Однако использо­

вание органических соединений является неблагоприятным фак­ тором.

9.3. о б р а б о т к а в с о в м е щ е н н о м р а с т в о р е

Для улучшения качества металлизации и сокращения техноло­ гического цикла фирма «Шиплей» предложила совмещенный раст­ вор для активации диэлектрика, где используются коллоидные

120