Добавил:
Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:

2794.Электронно-лучевая сварка

..pdf
Скачиваний:
24
Добавлен:
15.11.2022
Размер:
33.7 Mб
Скачать

Из чистых металлов вольфрам обладает лучшими свойствами – эмиссионная способность и низкая скорость ионного травления. Недостаток – хрупкость при нагреве.

Тантал является пластичным и хорошо подходит для механической обработки, что легко позволяет изготавливать нагреватели сложной формы.

Частый выбор в качестве материала катода для технологических электронных пушек – LaB 6. Его рабочая температура не очень велика, что является преимуществом из-за уменьшения мощности нагрева, но конденсация на эмитирующей поверхности катода паров или распыленных молекул тугоплавких металлов (из обрабатываемого материала) резко снижает его эмиссионную способность. Исходя из этого эмиттеры из LaB6 не применяются в сварочныхмашинахдлясваркиизделий из тугоплавких сплавов.

Реальная диодная система имеет вольт-амперную характеристику, показанную на рис. 1.31, б. При напряжении Ua ≤ 0 ток все равно отличен от нуля (область начальных токов, что обусловлено Максвелловским распределением эмитированных электронов по скоростям). При больших значениях напряжения наблюдается так называемый эффект Шоттки. Эмиссии электронов из металла препятствует потенциальный барьер. Эффектом Шоттки называется снижение этого барьера по мере увеличения прилагаемого внешнего электрического поля. Этот эффект не нужно путать с автоэлектронной эмиссией, которая имеет место при электрических полях порядка 108–10 9В/м с острия: когда потенциальный барьер становится очень узким и наблюдается туннельный переход свободных электронов. При автоэлектронной эмиссии катод не нуждается в нагреве. В результате плавного перехода от области «закона 3/2» к области насыщения термоэмиссионного тока в вольт-амперной характеристике (в результате эффекта Шоттки и вследствие существующей шероховатости и неоднородности эмитирующей поверхности) реальные характеристики эмитируемого тока точно не подчиняются теоретическому уравнению (1.27) для плотности насыщенного тока.

71

С учетом эффекта Шоттки уравнение (1.27) может быть переписано как

2

 

 

eφ

 

e

eE

 

 

je = ATк

exp

 

exp

 

 

 

 

.

 

 

 

4πε

 

 

 

 

kTк

kT

0

В области ограничения тока пространственным зарядом вольт-амперная характеристика в первом приближении соответствует уравнению Чайлда – Ленгмюра, которое для плоского диода с расстоянием между электродами d и начальными скоростями эмитированных электронов V0 = 0 может быть записано как

4ε

0

2e

3/ 2

 

1

 

6 Ua3/ 2

j =

 

 

 

 

Ua

 

 

 

= 2,334 10

 

 

 

.

9

 

m

d

2

 

d

2

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Здесь d измеряется в сантиметрах, j (A/м2). Это уравнение относится к эмиссии моноэнергетических частиц с нулевой начальной скоростью. Пространственный заряд эмитированных электронов значительно влияет на распределение потенциала вблизи поверхности катода и может привести к образованию потенциального минимума вблизи эмиттера. Максимальный ток эмиссии, ограниченный пространственным зарядом, контролируется распределением потенциала между электродами диода. Градиент потенциала (т.е. напряженность электрического поля) вблизи поверхности эмиттера становится нулевым вместо равномерного распределения между плоскими электродами диода в вакууме в отсутствие электронной эмиссии. В случае эмиссии электронов с распределенными начальными скоростями некоторые электроны будут способны долететь до анода при нулевом или даже запирающем электрическом поле, что является главной причиной отличия реального тока эмиссии. Проблема эмиссии электронов с Максвелловским распределением по скоростям была решена Ленгмюром [25].

72

Для оценки универсальной функции распределения потенциала перед катодом можно принять безразмерные координаты. Запишем для безразмерного потенциала

η=

Ua Umin

,

(1.28)

 

 

kTк / e

 

где Umin – минимум потенциала. Безразмерное расстояние от катода можно записать как

ξ = 2β (z zmin ) ,

(1.29)

где zmin – расстояние между катодом и потенциальным минимумом; β – функция плотности тока j и температуры эмиттера Tк, которая дается выражением

β2 =

1

 

πm

. j(

kTк

)3/ 2 .

(1.30)

0

2e

 

 

 

 

e

 

Функция η (ξ ) может быть табулирована (и/или доступна в виде аппроксимации) для двух областей ξ ≤ 0 и ξ ≥ 0 (расстоя-

ния до и после потенциального минимума) На рис. 1.35 представлена функция безразмерного потенциала от безразмерного расстояния η (ξ ) в соответствии с уравнениями (1.28) и (1.29).

Ток, ограниченный температурой, может рассматриваться как часть максимального тока эмиссии, рассчитанного по формуле (1.27). Если перед катодом существует запирающее электрическое поле, обусловленное разностью потенциалов Ur, в результате Максвелловского распределения скоростей эмитированных электронов плотность тока определяется как

j = jS exp (eUr kTк ).

Высота потенциального барьера равняется Uk Ur , и, используя формулу (1.28), можно найти

73

Рис. 1.35. Распределение потенциала для ограниченного пространственным зарядом пучка с эмитированными электронами с Максвелловским распределением

по скоростям

j jS = exp (−η k )

и

η k= ln ( j jS ).

От η k и η ξ( ) для отрицательных значений ξ можно перейти к ξ k , тогда с использованием β из формулы (1.30) и при известном расстоянии анод – катод безразмерная величина ξ a находится как

ξa ξc = d ,

как и безразмерный потенциал η a .

74

В этом случае при принятой части плотности тока насыщения потенциал анода может быть найден. Зная множество значений j, можно рассчитать соответствующие значения Ua и построить вольт-амперную характеристику.

1.2.2. Геометрия электродов сварочной электронной пушки

Электронно-оптические системы разрабатываются со времен создания первого электронного микроскопа (E. Ruska, 1931), рентгеновских трубок и многочисленных электронных приборов, используемых в телевидении, телекоммуникации и радиолокации. Электронные пушки для сварки имеют мощность порядка 1–100 кВт и невысокие значения вакуума в дрейфовом пространстве, в котором проходит генерация пучка. Но сам луч должен быть узким и переносить энергию на большое расстояние.

Для создания интенсивного пучка катод нагревается напрямую или косвенно проходящим током, термической радиацией или электронной бомбардировкой. Существуют электронные пушки с плазменным эмиттером или с холодным катодом, работающим в режиме вторичной эмиссии, но значения плотности тока пучка для этих пушек обычно значительно ниже значений плотности, требуемых для сварки, в связи с чем эти электронные пушки в дальнейшем в книге рассматриваться не будут.

На рис. 1.36–1.39 показаны некоторые основные виды электродных конструкций электростатических частей электронных пушек, которые использовались для технологических целей.

Ускорение эмитированных катодом электронов и формирование пучка выполняются электрическим полем, созданным перед катодом. В зависимости от числа металлических электродов с различными потенциалами, создающими это поле, различают диодные и триодные электронные пушки. По существу, это относится к электростатической части электронной пушки. Дополнительно в технологических электронныхпушках для сварки имеются

75

Рис. 1.36. Диодная пушка,

Рис. 1.37. Электронная пушка

создающая сходящийся

(конструкция Роговского): K и A

электронный пучок с дальним

катод и анод; F и S – это венельт или

фокусом (конструкция

управляющий электрод. Если

Штайгервальда)

потенциал S меняется, пушка

 

триодная; если Uf = Uk, пушка

 

диодная и электрод обозначен как F

Рис. 1.38. Электростатическая

Рис. 1.39. Диодная пушка

часть триодной сварочной пушки

(конструкция Баса). Отсутствие

с LaB6 эмиттером в виде

соосности анода и катода

таблетки и нагреватель из

предохраняет эмитирующую

вольфрамовой спирали

поверхность катода от ионной

 

бомбардировки

76

 

фокусирующие и отклоняющие электромагнитные системы. Обычно желаемые свойства пучка могут быть достигнуты с помощью одной фокусирующей линзы. Иногда используются дополнительные обмотки для исправления геометрии пучка

сцелью отстранения аберрации и асимметрии пучка. Управление местом попадания пучка на обрабатываемый металл выполняется отклоняющими обмотками. Возможность отклонения пучка с высокой частотой является преимуществом электроннолучевой сварки. В технологических применениях используются пушки с большим первеансом.

Базовый подход при конструировании электронных пушек

синтенсивными пучками предложен Пирсом (Pierce), рис. 1.40. Целью является электростатическая часть пушки, обеспечивающая прямолинейные траектории электронов. Идея подхода будет понятной, если допустить, что первоначально пучок был неограниченным, созданным в планарном диоде или для сходящихся пучков в коаксиальных цилиндрических или сферических диодах.

Можно принять, что одна часть этого пучка работает как действительный электрод, а остальную часть виртуального бесконечного пучка заменить электродами с подходящими потенциалами и расположением так, чтобы не изменить баланс электростати-

Рис. 1.40. Геометрия электродов и пучка в электронной пушке Пирса

77

ческих сил и границ выбранной части пучка. Таким образом, потенциальное распределение на границах сконструированного пучка будет такое же, как для бесконечного пучка; производная от потенциала здесь будет равной нулю (что означает отсутствие расширения пучка), и распределение потенциала вне пучка будет подчиняться уравнению Лапласа. Электродная конфигурация, получаемая при такомподходе, показананарис. 1.41, 1.42.

Рис. 1.41. Профиль электродов

Рис. 1.42. Профиль электродов

пушки Пирса при угле схождения

пушки Пирса при угле схождения

пучка 5°

пучка 30°

Здесь сходящийся пучок формируется в части сферического диода, внешний электрод которого является катодом, а внутренний – анодом. Угол граничных траекторий созданного пучка – 2 θ. Луч представляет конус с пространственным углом при вершине 2θ. Эффект пространственного заряда рассматриваемой части виртуального пучка заменен электростатическим полем, созданным фокусирующими электродами и анодом, которые имеют подходящие форму и ориентацию. Профили электродов при выбранных углах θ и различных соотношениях между радиусами сферы эмитирующей поверхности – Rк и анодной

78

поверхности – Rа. Можно отметить, что угол между граничной траекторией и неэмитирующей частью катода (обычно называемой фокусирующим электродом – ФЭ) – около 67,5°. Как правило, эти трудные для технологической обработки профили заменяют аппроксимирующими сегментами конусов.

Связь тока пучка Ib с параметрами электростатической части конструируемой электронно-оптической системы (θ и Rк/Ra) и с ускоряющимнапряжениемUa даетсяуравнениемсферическогодиода

Ib

= 29,34 106

sin(θ

/ 2)

 

Ua3/ 2 ,

 

/ R )]

2

 

[α (R

 

 

 

 

к

a

 

 

где α (Rк / Ra ) – функция, показанная на рис. 1.43. Дефокуси-

рующий эффект анодной диафрагмой оценен как для дефокусирующих линз (рис. 1.44). На следующем рис. 1.45 показана зависимость угла граничной траектории (огибающей) на выходе электростатической части пушки γ от θ. Можно заметить, что

при Rк/Ra > 1,45 на выходе пушки будет сформирован сходящийся луч с γ < θ. Этот угол, как видно из рис. 1.45, – функция и от значения первеанса p, так как p дефинируется от θ и (Rк/Ra).

Рис. 1.43. Зависимость α2(Rк/Ra)

Рис. 1.44. Зависимость γ(θ)

от Rк/Ra

при разных Rк/Ra от 1,45 до 3,0

79

Рис. 1.45. Зависимость γ (θ) при разных значениях p:

1 – 0,063; 2 – 0,316; 3 – 0,732; 4 – 1,58; 5 – 3,16; 6 – 7,32

Поведение граничной траектории после анода в случае отсутствия электрических и магнитных полей зависит от θ и отношения Rк/Ra. Максимальное расстояние минимального поперечного сечения пучка (кроссовер) можно найти при Rк/Ra ≈ 2,2. Оптимальный угол сходимости граничных траекторий в такой пушке–

θ ≈ 0,37 p , если измерен в радианах, или θ ≈ 21 p при измере-

нии этого угла в градусах. Соответственно, γopt ≈ 0,16 p рад или

γopt ≈ 9,15 p град. В этом случае zmin ≈ Rк и rmin 0,2Rк.

При увеличении первеанса при неизменном угле сходимости отношение Rк/Ra уменьшается, так что при постоянном Rк ускоряющий электрод (анод) приближается к катоду. При этом дефокусирующий эффект анодной диафрагмы возрастает. При приближении анодной диафрагмы электрическое поле в близости катода изменяется и распределение эмитированного тока становится неравномерным со снижением в центральной части катода. Эффект заметнее при больших углах сходимости, огибающей 2θ. В то же время число электронов, бомбардирующих анод, и аберрации анодной диафрагмы растут. Действительный

80