Добавил:
Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:

книги / Оптические методы контроля интегральных микросхем

..pdf
Скачиваний:
15
Добавлен:
12.11.2023
Размер:
14.8 Mб
Скачать

ПРИЛОЖЕНИЕ Т

и производственного брака И С, методы их анализа и используемое рубежным данным)

Возможные причины

Методы анализа

Основное (вспомога-

тепьиое) оборудование

Загрязнение

ионными

Испытание схемы

включениями в

процессе

Вскрытие и исследова­

обработки и (или) при

ние зондовым методом

корпусироваиии

 

Исследование транзи­

Нарушение координат­ сторов по отдельности,

ных шагов на начальном

включая

испытательный

этапе

разработки схемы

транзистор

порогово­

или неверный выбор ша­

Измерение

гов при создании метал­

го

напряжения

и

под­

лизации затвора

 

тверждение

визуальным

Неправильное

наложе­

контролем

корреляции

ние маски

 

 

низкого

порогового

на­

 

 

 

 

 

пряжения и

неправиль­

 

 

 

 

 

ного наложения маски

 

 

 

 

 

Определение присутст­

 

 

 

 

 

вия примеси с помощью

Наличие большой

сту­

Оже-спектроскопин

зон­

Проверка

схемы,

пени в

структуре поли­

дирование

 

контроль

кристалл — окисел—уча­

Визуальный

сток

металлизации

над

на

подтверждение нали­

сформированной ступень­

чия

замыканий

и(или)

кой окисла, которая

об­

обрывов и контроль кон­

разуется

при

создании

тактных

площадок с по­

контакта

 

 

мощью РЭМ с целью ис­

 

 

 

 

 

следования качества

по­

 

 

 

 

 

крытия окисла

и метал­

 

 

 

 

 

лизации

 

 

 

 

Микроскоп С

вертикальным ос­ вещением (МВО> с увеличением

200—300х (зон­ ды, Оже-элек- тронный спектро­ метр)

Микроскоп с вертикальным освещением с уве­ личением 300—

500х (РЭМ, тес­ тер, зонды)

Статический разряд по­

Измерение

характери­

рядка Е -10—6 Дж

или

стик входного прибора

больше

кон­

Визуальный

контроль

Несовершенство

до и после удаления за­

тактной площадки (ма­ щитной окисной пленки лое поперечное сечение и травления металлиза­ проводящей зоны, ко­ ции

торое может вызвать излишнее нагревание и, следовательно, расплав­ ление алюминия)

Графопостроитель, фазокон­ трастный МВО с увеличением 200—

300х

101

Продолжение прилож. 1

Возможные причины

Методы анализа

Основное (вспомога­

тельное) оборудование

глассивации

с

контакт­

 

 

 

 

 

ной поверхности

систе­

 

 

 

 

 

новые

свойства

 

 

 

 

 

мы

металлизации

с

до­

 

 

 

 

 

бавлением

 

компонентов

 

 

 

 

 

к алюминию

(например,

 

 

 

 

 

системы

металлизации

 

 

 

 

 

тантал

 

нитрид

.—

 

 

 

 

 

хром — золото)

[37, 38]

 

 

 

 

 

Отклонение

соедини­

Электрические

измере­

Микроскоп

и

тельных

проводников

от

ния между каждым вы­

РЭМ (осциллограф

контактных площадок на

водом и подложкой

и оборудование для

малый

 

угол

вследствие

Визуальный

контроль

вскрытия

корпу­

использования

 

метода

после вскрытия

корпуса

сов)

 

 

«обратной

сборки» (ме­

и микрофотографирова­

 

 

 

тод 2010 MIL-STD-883

ние

 

 

 

 

не допускает отбраковки

 

 

 

 

 

таких ИС)

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Наличие малых прово­

 

 

 

 

 

дящих

частиц

в

герме­

 

 

 

 

 

тичном корпусе

проводя­

 

 

 

 

 

Притяжение

 

 

 

 

 

щих

 

частиц

силовыми

 

 

 

 

 

выводами

 

 

проводя­

 

 

 

 

 

Попадание

 

 

 

 

 

 

щих частиц в

простран­

 

 

 

 

 

ство между соединитель­

 

 

 

 

 

ными

проводниками

и

 

 

 

 

 

подложкой

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Малый

угол

 

между

Электрические

измере­

Микроскоп

и

проволочными

соедине­

ния на каждом выводе и

РЭМ (осциллограф,

ниями

 

и

контактными

подложке

контроль

оборудование

для

площадками

вследствие

Визуальный

вскрытия

корпу­

применения

«обратной»

после вскрытия корпусов

сов)

 

 

методики

 

выполнения

Микрофотографирова­

 

 

 

проволочных

соединений

ние

 

 

 

 

(приварка сначала к вы­

 

 

 

 

 

воду, а затем к контакт­

 

 

 

 

 

ной

площадке

кристал­

 

 

 

 

 

ла)

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Возникновение «бугор­

 

 

 

 

 

ков» кремния по

краям

 

 

 

 

 

кристалла

после

опера-

 

 

 

 

 

109