книги / Микроэлектроника. Базовые матричные кристаллы и программируемые логические матрицы
.pdfЛогическая |
и принципиальная схемы тактируемого |
D -триггера, формируемого на основе данной ячейки, приве |
|
дены на рис. |
2.13. |
Для изготовления матричных БИС среднего быстро действия используются БМК, в которых ячейки матрицы состоят из И2Л или И3Л-структур. Большой практический интерес представляют такие БМК для изготовления анало го-цифровых матричных БИС. Технология изготовления кристаллов с И2Л-структурами хорошо совмещается с технологией изготовления кристаллов с обычными би полярными транзисторами (рис. 2.14), поэтому на одном кристалле может быть сформировано две матрицы, одна из которых используется для изготовления цифровых узлов и блоков (матрица с И2Л-структурами), а другая — для изготовления аналоговых узлов и буферных элементов,
хорошо |
совмещаемых с БИС, |
построенными по |
ТТЛ-, |
/г-МОП- или КМОП-технологии. Использование |
Под |
||
структур позволяет достигнуть высокой плотности |
компо |
||
новки |
элементов в цифровых |
устройствах. |
|
В БМК на основе И2Л-структур широко применяется ячейка, топология которой изображена на рис. 2.15. В ячей ку входят трехили четырехколлекторные И2Л-структуры, каждая из которых представляет собой логический элемент НЕ с разветвлениями по выходу. Максимальное число коллекторов И2Л-структуры определяется минимально
допустимым коэффициентом передачи по току |
В г = |
/ ю/Уб, |
где Ук<— ток t-го коллектора; Уб — полный |
ток |
базы |
[1,51. Число И2Л-структур в ячейке определяется набором элементов самого сложного функционального узла библио теки (тактируемого D -триггера). Инжекторы обеспечивают питание двух зеркально расположенных И2Л-структур.
Примеры схемно-конструктивного исполнения функцио нальных узлов приведены на рис. 2.16, 2.17. Из топологий узлов видно, что внутриузловые электрические связи осуществляются внутри поля ячейки. Окна в оксидной пленке формируются с помощью первого заказного фото шаблона. Это позволяет проводить линии связи над незадействованными коллекторами И2Л-структур. Контакты к базам формируются в промежутках между коллекторами. На рис. 2.16, 2-17 контакты к коллекторам и базам обозна чены жирными точками.
Цифровые устройства на основе И2Л-элементов реализу ются из схем Монтажное И и многовыходных инверторов. На рис. 2.17,6 схемы Монтажное И обозначены штриховыми
Рис. 2.13. Схемы тактируемого D-триггера:
• —.логическая; б — принципиальная
1
п |
» |
|
|
|
|
11 |
_•—1 |
P' |
п |
П Г1 |
ю |
11 |
J_ |
LS |
|||
11 |
i |
LJ |
|
||
| | |
—1 |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
7>77777/77777777777^ 777777///У /////////У у
Рис.I2.14. Схемно-конструкторское исполнение биполярных транзисторов и И2Л-структур в одном кристалле
контурами. Методика проектирования И2Л БИС и рекомен дации по разработке их топологии приведены в [2, 3, 5].
Для согласования И2Л-элементов с ТТЛ-элементами используются буферы, электрические схемы которых при ведены на рис. 2.18. Быстродействие буферов повышается благодаря диодам Шотки. Пример топологии ячейки, на основе элементов которой можно сформировать как входной, так и выходной буферы, приведен на рис. 2.19. Для форми рования сложного буфера с тремя состояниями необхо-
2 Зак. 2304 |
33 |
fiR i
I □
4.;
□
|
|
□ |
1 |
|
|
□ |
|
|
|
|
6 f |
|
|
A-A |
; 3 |
5 |
6 6 |
^ |
^ |
|2)Г1 |а ё ] и Н и Ы 1а1 и @ а |
Рие-*-« - Топопогия ячейки БМК на логических элемен-
ТдХ И^Л!
1 — области баз |
р-типа; 2 — области контактов к |
базам; 3 - кол- |
|
лакторныа |
области п+-типа; 4 — инжекторы р-типа; |
5 — вь.соколеги- |
|
Р ванная |
область |
л+-типа; 6 — перемычки Л+-типа; |
7 — эпитаксиаль |
ный слои |
Л-типа; |
8 — подложка л+-типа |
|
Рис. 2.16. R S - триггер на И2Л-элементах:
« — логическая схема; б — принципиальная схема; « — топология
[ Щ - |
В — [□] |
— |
|
-»в1-- Щ - |
---а |
Иttl |
||
|
|
|
|
— |
|
|
|
|
|
m |
—В " |
г-| |
—а |
m |
□ |
m ^ |
|
1 в - г -э— |
-■-О--)- |
—а |
э~ - |
|
:D |
|||
|
|
□ |
|
□ |
□ |
|
||
□ |
|
—а |
□ |
* |
||||
|
|B f- |
|
[□] |
|||||
|
|
—а — |
|
ID |
||||
Тл |
тг |
Г, |
Г« ' |
Г, |
Г5 |
Г7 |
7, |
ш |
в)
Рис. 2.17. Тактируемый /^-триггер:
а — логическая схема; б — принципиальная схема; в — топология
димо использовать элементы соседних ячеек. Контактная площадка формируется на толстом слое оксида над изоли рованной я-областью для повышения производственной надежности БИС. Рядом с контактной площадкой располо жена /7-область защитного диода, который используется во входном буфере.
Пример организации БМК с И2Л-структурами представ лен на рис. 2.20. В центре кристалла из материала /7-типа расположена изолированная я-область, в которой формиру ется матрица ячеек из ИаЛ-структур. В конструкциях, изготовляемых по эпитаксиально-планарной технологии, участки между соседними И2Л-структурами заполнены мате риалом я+-типа [1,5]. Это позволяет устранить паразитные
2' |
35 |
инжекционные связи, повысить коэффициенты передачи то ков я-/7-/г-транзисторов, снизить сопротивление для токов, протекающих в общей эмиттерной области, упростить процедуру выполнения омических контактов к п-области. В конструкциях, изготовляемых по изопланарной техно логии, промежутки между И2Л-структурами заполняются
толстым слоем |
оксида. В промежутках |
между рядами |
и по периферии |
изолированной /i-области |
остаются вы |
соколегированные п+-области в качестве токоведущих шин. Перемычки /г+-типа формируются в изолированных областях /7-типа, которые должны быть заземлены для устранения транзисторного эффекта при экстракции дырок, инжектированных соседними /7-областями при положитель
ном напряжении.
Рис. 2.18. Принципиальные электрические сх&мы буферов БМК на
основе И2Л-элементов:
п — входной буфер; б — выходной буфер на два состояния; в — выходной буфер на
три состояния
|
Rim2,5K |
Ъ*2,5К |
|
|
|
(^чччччччч/*чччччч^у^ |
чччччччлчччччч^$| |
|
|
|
|
I |
D . я 1П К |
о ш m is |
|
|
|
|
|
|
*5 |
|
*6 |
|
|
|
|
1 |
|
|
б) |
|
а) |
|
|
Рис. 2.19. Ячейка буферного элемента: |
|
|
|
||
а — принципиальная схема; |
6 — топология; 1 — область подключения |
напряже |
|||
ния |
питания; 2 — область разделительной диффузии р+-типа |
(шина |
заземления); |
||
3 — изолирояанная область |
л-типа с контактной площадкой |
(КП); |
4 — П-обла- |
||
сти |
коллекторов транзисторов Т\, То; S — диод (Д) |
|
|
|
|
Буферные элементы, изображенные на рис. 2.19, |
распо |
||||
ложены по периферии |
кристалла в общей изолированной |
от подложки /г-области, на которую подается положитель ное напряжение источника питания + t / Hn. Эта область используется в качестве шины питания буферных элементов.
Контактные |
площадки |
для |
подключения |
напряжения |
|||||
+ Ulln формируются |
в |
центре |
боковых |
периферийных |
|||||
областей. |
Рядом расположены |
группы резисторов, с по |
|||||||
мощью которых |
задается |
требуемый |
ток |
в |
инжекторы |
||||
И2Л-структур. |
Величина |
сопротивления устанавливается |
|||||||
с помощью металлических |
перемычек между |
контактными |
|||||||
областями |
резисторов. |
Методика расчета |
параметров ре |
||||||
зисторов рассмотрена |
в [5]. |
Другие |
примеры построения |
||||||
БМК на основе |
И2Л-структур |
приведены |
в [4,51. |
Рис. 2.20. Организа ция БМК с И2Л-струк- турами:
1 — буферные |
ячейки; |
2 — |
|||
области |
контактных |
пло |
|||
щадок ■ буферных |
ячей |
||||
ках; |
3 — ячейки |
матрицы; |
|||
4 — р+-область |
|
(шина |
за |
||
земления); |
5 — матрица |
||||
токоэадающих |
резисторов; |
||||
6 — область |
|
контактной |
|||
площадки |
для |
|
подключе |
||
ния |
напряжения |
источника |
питания +Uun; 7 — изо
лированная р-л-переходом область п-типа (карман)
§2.4. Базовые матричные кристаллы на основе полевых транзисторов
сизолированным затвором
Внастоящее время в микроэлектронной аппаратуре разрабатываются и применяются базовые матричные крис таллы, содержащие до 10 000 логических элементов, на основе я-канальных МОП-транзисторов и комплементар ных МОП-структур (КМОП), .сформированных на подлож ках из кремния или структурах КНС (кремний на сапфире). Базовые матричные кристаллы на основе я-МОП-транзи- сторов имеют высокую плотность компоновки элементов.
Среднее |
время задержки |
логических элементов составляет |
1 — 20 нс. |
|
|
Логические элементы |
на КМОП-структурах при малых |
|
частотах |
переключения |
потребляют минимальную по |
сравнению с другими логическими элементами мощность, имеют время задержки 2 — 10 нс и высокую помехоустой чивость. На основе КМОП-структур можно реализовать как цифровые, так и аналоговые схемы. Замена подложки
из |
кремния сапфиром уменьшает время задержки до 1—3 нс |
и |
менее на элемент. |
|
Конструкции БМК на основе я-канальных МОП-тран |
зисторов с металлическими и поликремниевыми затвора ми. Использование транзисторов с самосовмещенными поли кремниевыми затворами существенно улучшает характери стики БМК и БИС на их основе. Лучшие электрические характеристики (быстродействие, потребляемая мощность) имеют логические элементы, в качестве нагрузки которых используются я-канальные МОП-транзисторы с техноло гически встроенными (ионно-легированными) самосовмещен ными каналами.
На рис. 2.21 приведен пример топологии и схема соеди нения элементов ячейки БМК с я-канальными МОПтранзисторами, где кружочками обозначены заранее сформированные контактные окна к соответствующим об ластям полупроводниковой структуры. Удлиненные поликремниевые затворы и внутренняя я+-область с двумя контактами используются в качестве перемычек. Алю миниевые шины питания формируются одновременно с сигнальными цепями. Трассы прокладывают с заранее установленным шагом. Кристалл-полуфабрикат покрыт алюминиевой пленкой. Для выполнения электрических связей необходим один заказной фотошаблон.
g
g
g
6
5 П
ГП.П