Добавил:
Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:

книги / Микроэлектроника. Базовые матричные кристаллы и программируемые логические матрицы

.pdf
Скачиваний:
2
Добавлен:
12.11.2023
Размер:
3.21 Mб
Скачать

Логическая

и принципиальная схемы тактируемого

D -триггера, формируемого на основе данной ячейки, приве­

дены на рис.

2.13.

Для изготовления матричных БИС среднего быстро­ действия используются БМК, в которых ячейки матрицы состоят из И2Л или И3Л-структур. Большой практический интерес представляют такие БМК для изготовления анало­ го-цифровых матричных БИС. Технология изготовления кристаллов с И2Л-структурами хорошо совмещается с технологией изготовления кристаллов с обычными би­ полярными транзисторами (рис. 2.14), поэтому на одном кристалле может быть сформировано две матрицы, одна из которых используется для изготовления цифровых узлов и блоков (матрица с И2Л-структурами), а другая — для изготовления аналоговых узлов и буферных элементов,

хорошо

совмещаемых с БИС,

построенными по

ТТЛ-,

/г-МОП- или КМОП-технологии. Использование

Под­

структур позволяет достигнуть высокой плотности

компо­

новки

элементов в цифровых

устройствах.

 

В БМК на основе И2Л-структур широко применяется ячейка, топология которой изображена на рис. 2.15. В ячей­ ку входят трехили четырехколлекторные И2Л-структуры, каждая из которых представляет собой логический элемент НЕ с разветвлениями по выходу. Максимальное число коллекторов И2Л-структуры определяется минимально

допустимым коэффициентом передачи по току

В г =

/ юб,

где Ук<— ток t-го коллектора; Уб — полный

ток

базы

[1,51. Число И2Л-структур в ячейке определяется набором элементов самого сложного функционального узла библио­ теки (тактируемого D -триггера). Инжекторы обеспечивают питание двух зеркально расположенных И2Л-структур.

Примеры схемно-конструктивного исполнения функцио­ нальных узлов приведены на рис. 2.16, 2.17. Из топологий узлов видно, что внутриузловые электрические связи осуществляются внутри поля ячейки. Окна в оксидной пленке формируются с помощью первого заказного фото­ шаблона. Это позволяет проводить линии связи над незадействованными коллекторами И2Л-структур. Контакты к базам формируются в промежутках между коллекторами. На рис. 2.16, 2-17 контакты к коллекторам и базам обозна­ чены жирными точками.

Цифровые устройства на основе И2Л-элементов реализу­ ются из схем Монтажное И и многовыходных инверторов. На рис. 2.17,6 схемы Монтажное И обозначены штриховыми

Рис. 2.13. Схемы тактируемого D-триггера:

• —.логическая; б — принципиальная

1

п

»

 

 

 

 

11

_•—1

P'

п

П Г1

ю

11

J_

LS

11

i

LJ

 

| |

—1

 

 

 

 

 

 

 

 

7>77777/77777777777^ 777777///У /////////У у

Рис.I2.14. Схемно-конструкторское исполнение биполярных транзисторов и И2Л-структур в одном кристалле

контурами. Методика проектирования И2Л БИС и рекомен­ дации по разработке их топологии приведены в [2, 3, 5].

Для согласования И2Л-элементов с ТТЛ-элементами используются буферы, электрические схемы которых при­ ведены на рис. 2.18. Быстродействие буферов повышается благодаря диодам Шотки. Пример топологии ячейки, на основе элементов которой можно сформировать как входной, так и выходной буферы, приведен на рис. 2.19. Для форми­ рования сложного буфера с тремя состояниями необхо-

2 Зак. 2304

33

fiR i

I □

4.;

 

 

1

 

 

 

 

 

 

6 f

 

 

A-A

; 3

5

6 6

^

^

|2)Г1 |а ё ] и Н и Ы 1а1 и @ а

Рие-*-« - Топопогия ячейки БМК на логических элемен-

ТдХ И^Л!

1 — области баз

р-типа; 2 — области контактов к

базам; 3 - кол-

лакторныа

области п+-типа; 4 — инжекторы р-типа;

5 — вь.соколеги-

Р ванная

область

л+-типа; 6 — перемычки Л+-типа;

7 — эпитаксиаль­

ный слои

Л-типа;

8 — подложка л+-типа

 

Рис. 2.16. R S - триггер на И2Л-элементах:

« — логическая схема; б — принципиальная схема; « — топология

[ Щ -

В — [□]

 

-»в1-- Щ -

---а

Иttl

 

 

 

 

 

 

 

 

m

—В "

г-|

—а

m

m ^

1 в - г -э—

-■-О--)-

—а

э~ -

 

:D

 

 

 

 

 

—а

*

 

|B f-

 

[□]

 

 

—а —

 

ID

Тл

тг

Г,

Г« '

Г,

Г5

Г7

7,

ш

в)

Рис. 2.17. Тактируемый /^-триггер:

а — логическая схема; б — принципиальная схема; в — топология

димо использовать элементы соседних ячеек. Контактная площадка формируется на толстом слое оксида над изоли­ рованной я-областью для повышения производственной надежности БИС. Рядом с контактной площадкой располо­ жена /7-область защитного диода, который используется во входном буфере.

Пример организации БМК с И2Л-структурами представ­ лен на рис. 2.20. В центре кристалла из материала /7-типа расположена изолированная я-область, в которой формиру­ ется матрица ячеек из ИаЛ-структур. В конструкциях, изготовляемых по эпитаксиально-планарной технологии, участки между соседними И2Л-структурами заполнены мате­ риалом я+-типа [1,5]. Это позволяет устранить паразитные

2'

35

инжекционные связи, повысить коэффициенты передачи то­ ков я-/7-/г-транзисторов, снизить сопротивление для токов, протекающих в общей эмиттерной области, упростить процедуру выполнения омических контактов к п-области. В конструкциях, изготовляемых по изопланарной техно логии, промежутки между И2Л-структурами заполняются

толстым слоем

оксида. В промежутках

между рядами

и по периферии

изолированной /i-области

остаются вы­

соколегированные п+-области в качестве токоведущих шин. Перемычки /г+-типа формируются в изолированных областях /7-типа, которые должны быть заземлены для устранения транзисторного эффекта при экстракции дырок, инжектированных соседними /7-областями при положитель­

ном напряжении.

Рис. 2.18. Принципиальные электрические сх&мы буферов БМК на

основе И2Л-элементов:

п — входной буфер; б — выходной буфер на два состояния; в — выходной буфер на

три состояния

 

Rim2,5K

Ъ*2,5К

 

 

 

(^чччччччч/*чччччч^у^

чччччччлчччччч^$|

 

 

 

I

D . я 1П К

о ш m is

 

 

 

 

 

 

*5

 

*6

 

 

 

 

1

 

 

б)

 

а)

 

Рис. 2.19. Ячейка буферного элемента:

 

 

 

а — принципиальная схема;

6 — топология; 1 — область подключения

напряже­

ния

питания; 2 — область разделительной диффузии р+-типа

(шина

заземления);

3 — изолирояанная область

л-типа с контактной площадкой

(КП);

4 — П-обла-

сти

коллекторов транзисторов Т\, То; S — диод (Д)

 

 

 

Буферные элементы, изображенные на рис. 2.19,

распо­

ложены по периферии

кристалла в общей изолированной

от подложки /г-области, на которую подается положитель­ ное напряжение источника питания + t / Hn. Эта область используется в качестве шины питания буферных элементов.

Контактные

площадки

для

подключения

напряжения

+ Ulln формируются

в

центре

боковых

периферийных

областей.

Рядом расположены

группы резисторов, с по­

мощью которых

задается

требуемый

ток

в

инжекторы

И2Л-структур.

Величина

сопротивления устанавливается

с помощью металлических

перемычек между

контактными

областями

резисторов.

Методика расчета

параметров ре­

зисторов рассмотрена

в [5].

Другие

примеры построения

БМК на основе

И2Л-структур

приведены

в [4,51.

Рис. 2.20. Организа­ ция БМК с И2Л-струк- турами:

1 — буферные

ячейки;

2 —

области

контактных

пло­

щадок ■ буферных

ячей­

ках;

3 — ячейки

матрицы;

4 — р+-область

 

(шина

за­

земления);

5 — матрица

токоэадающих

резисторов;

6 — область

 

контактной

площадки

для

 

подключе­

ния

напряжения

источника

питания +Uun; 7 — изо­

лированная р-л-переходом область п-типа (карман)

§2.4. Базовые матричные кристаллы на основе полевых транзисторов

сизолированным затвором

Внастоящее время в микроэлектронной аппаратуре разрабатываются и применяются базовые матричные крис­ таллы, содержащие до 10 000 логических элементов, на основе я-канальных МОП-транзисторов и комплементар­ ных МОП-структур (КМОП), .сформированных на подлож­ ках из кремния или структурах КНС (кремний на сапфире). Базовые матричные кристаллы на основе я-МОП-транзи- сторов имеют высокую плотность компоновки элементов.

Среднее

время задержки

логических элементов составляет

1 — 20 нс.

 

Логические элементы

на КМОП-структурах при малых

частотах

переключения

потребляют минимальную по

сравнению с другими логическими элементами мощность, имеют время задержки 2 — 10 нс и высокую помехоустой­ чивость. На основе КМОП-структур можно реализовать как цифровые, так и аналоговые схемы. Замена подложки

из

кремния сапфиром уменьшает время задержки до 1—3 нс

и

менее на элемент.

 

Конструкции БМК на основе я-канальных МОП-тран­

зисторов с металлическими и поликремниевыми затвора­ ми. Использование транзисторов с самосовмещенными поли­ кремниевыми затворами существенно улучшает характери­ стики БМК и БИС на их основе. Лучшие электрические характеристики (быстродействие, потребляемая мощность) имеют логические элементы, в качестве нагрузки которых используются я-канальные МОП-транзисторы с техноло­ гически встроенными (ионно-легированными) самосовмещен­ ными каналами.

На рис. 2.21 приведен пример топологии и схема соеди­ нения элементов ячейки БМК с я-канальными МОПтранзисторами, где кружочками обозначены заранее сформированные контактные окна к соответствующим об­ ластям полупроводниковой структуры. Удлиненные поликремниевые затворы и внутренняя я+-область с двумя контактами используются в качестве перемычек. Алю­ миниевые шины питания формируются одновременно с сигнальными цепями. Трассы прокладывают с заранее установленным шагом. Кристалл-полуфабрикат покрыт алюминиевой пленкой. Для выполнения электрических связей необходим один заказной фотошаблон.

g

g

g

6

5 П

ГП.П