Добавил:
Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:

книги / Микроэлектроника. Базовые матричные кристаллы и программируемые логические матрицы

.pdf
Скачиваний:
2
Добавлен:
12.11.2023
Размер:
3.21 Mб
Скачать

 

^ 1

г-Л*у

 

1 щ

ж ш

I ; I

„♦ I : 1

п*

R 3

LL-i ч-

Рис. 3.11. Программирование матрицы на МОП-транзисторах с использованием контакт­ ного окна [а], подлегирования областей кана­ ла (б):

1 — поликремниовая шина; 2 — металлическая шина; 3 — программируемое окно; 4 — общая шина; 5 — полупро­ водниковая шина; 6 — программируемая область ионной имплантации

и микропроцессорных БИС. Такие ПЛМ однократно про­ граммируются изготовителем в процессе производства мик­ росхемы, что сужает область их применения.

Большей гибкостью, особенно при использовании в пе­ риферийных устройствах, обладают электрически програм­ мируемые ПЛМ, «настройка» которых на реализацию за­ данных функций выполняется пользователем.

§3.3. Электрически программируемые логические матрицы

На рис. 3.12 показаны наиболее распространенные эле­ менты матриц с электрическим программированием. Про­ граммирование осуществляется расплавлением перемычек (обычно нихромовых или поликремниевых) или пробоем диодов (р-л-переходов или барьеров Шотки).

Перемычки имеют сопротивление около 10 Ом и расплав­ ляются (размыкаются) при пропускании через них импульса тока, амплитуда которого значительно больше амплитуды тока считывания. Для разрушения нихромовых или поли­ кремниевых плавких перемычек достаточно тока 20—50 мА; время расплавления составляет 10—200 мс.

На рис. 3.13 представлена реальная топология ячейки (4 бит) ПЛМ с нихромовыми плавкими перемычками. При 3-мкм проектных нормах площадь ячейки не превышает 900 мкм2/бит.

Диоды пробиваются (закорачиваются) при подаче им­ пульса обратного напряжения от источника с небольшим внутренним сопротивлением, дающим достаточный ток

Рис. 3.13. Топология ячейки ПЛМ с плавкими перемычками на основе биполярных транзи­ сторов:

1 — нихромовая

перемычка;

2 — переходное окно

между

металлическими

пленками I

и

II;

3 — базовые области;

4 — контакт к базе

(пленка

I);

5 — контакт к эмиттеру;

6 — словарные

шины

(пленка

I);

7 — разрядные

шины

(пленка II)

 

 

 

 

 

 

(200—300 мА). Это вызывает лавинный и термический про­ бой /?-/г-переходов (барьера Шотки) и миграцию частиц метал­ ла внутрь полупроводника с образованием надежного низ­ коомного контакта (штриховые линии на рис. 3.12). Вре­ мя образования цепи 0,02—0,05 мс.

Для реализации программирования на кристалле фор­ мируют соответствующую схему (рис. 3.14). Встроенное устройство для программирования обведено штрихпунктирной линией. В режиме программирования элементов матри­ цы на входы этого устройства подаются код адреса ячейки и сигнал разрешения программирования. В режиме програм­ мирования коллекторные цепи транзисторов матрицы соеди­ няются с источником питания (+ 5 В), в режиме считыва­ ния — с общей шиной. Схема записи обеспечивает ток пере­ жигания перемычки около 30 мА.

Для электрического программирования и контроля ПЛМ используются специальные установки, управляемые ЭВМ. Исходной информацией для программирования и конт­ роля являются: таблица истинности, признак пережигания (пробоя) лог. единиц или нулей (в зависимости от началь­ ной информации в'незапрограммированной ПЛМ), парамет­ ры программирующих импульсов.

Рис. 3.14. ПЛМ на основе ЭСЛ-элементов со схемами программи­ рования и считывания

Управляющая программа делает перебор адресов на входах ПЛМ от 00...О до 11...1. На ПЛМ подаются питаю­ щие напряжения, а при наличии в исходной информации признаков программирования — импульс пережигания (пробоя). После программирования выполняется контроль и результат проверки с указанием совпадения (несовпаде­ ния) с таблицей истинности выводится на печать.

§3.4. Матричные микросхемы

среконструируемыми

соединениями

Для создания СБИС и субсистем на пластинах приме­ няют регулярные структуры (рис. 3.15) с матрицей ячеек достаточно большой степени интеграции. Программирование

элементов соединений выполняется их созданием или нару­ шением (табл. 3.2, 3.3).

Примеры конструкций перемычек показаны на рис. 3.15 и 3.16.

Матричные БИС с реконструируемыми соединениями обычно создают на основе КМОП -транзисторов, характе­

 

 

ра

' 7 ^

 

7 “

/

'/

 

 

 

 

/

/

/

/

/

 

/

/

 

 

 

 

 

/

/

/

Шины

второго

уровня

У ~ >

/

У

/

Шины

^первого

 

t •

уровня

 

 

/

/

 

Tlpor раммируемая

 

 

 

 

 

 

1iw p c iv i o i* i Гла

 

Ячейка

 

 

 

матрицы

 

 

 

(ИС.БИС)

 

 

Рис. 3.15. Фрагмент БИС с реконструируемыми соединениями

Рис. 3.16. Программирование перемычки из легированного поликремния лазерным лучом (диаметр луча 7—8 мкм)

ризующихся минимальной потребляемой мощностью. Для таких транзисторов применимы все типы перемычек, ука­ занных в табл. 3.2 и 3.3.

Некоторые типы перемычек, обеспечивающих малое со­ противление (R < 100 Ом), можно применять и в ПЛМ на основе И2Л-, ТТЛ- и И ЭСЛ-элементов.

Т а б л и ц а 3.2

Программирование элементов для создания соединений

Элемент соединения

Программируемый лазе­

ром поликремниевый рези-

РТПП

Электрически програм­ мируемые поликремниевые диоды

Замыкаемые лазером кон­ такты:

между уровнями метал­ лизации между металлом и диф­

фузионной областью Соединяемый лазером за­

зор в металлизации Электрически программи­

руемые оксидные слои Программируемые элек­

тронным лучом плавкие пе­ ремычки из поликремния

До программиро­ вания

Я« 1 0 9 Ом

Д^ Ю 7 Ом

Диэлектрическая

изоляция То же

Я > 1 0 9 Ом

Диэлектрическая

изоляция Д > 1 0 9 Ом

После

программирования

Я< Ю 3 Ом

Л« 1 0 — Ю3 Ом

R « 0 ,3 Ом

/? = 104-15 Ом

Я=1-нЮ Ом

Л= 5004-2000 Ом

Я« 1ч-10 Ом

Программирование элементов для нарушения соединений

Элемент

Электрически программи­ руемые поликремниевые пе­ ремычки

Программируемые лазе­ ром поликремниевые пере­ мычки

Программируемые элек­ тронным лучом:

плавкие тонкопленоч­ ные перемычки из ме­ таллов или сплавов плавкие поликремни- евы-е перемычки

До

После

 

программирования

программирования

Я « 2 0 0

Ом

Я > Ю 7 Ом

Я = 200 Ом

Я » 10s

Ом

R < 10

Ом

Я » 109

Ом

/? « 2 0 0

Ом

Я ® 103

Ом

Перспективным является использование матричных БИС с реконструируемыми соединениями для построения мно­ гопроцессорных субсистем. Так, изготовлена субсистема на пластине, реализующая функцию быстрого преобразова­ ния Фурье. При использовании КМОП-технологии, 5-мкм проектных нормах, двух уровней проводников и лазерного реконструирования система содержит 340 тыс. транзисто­ ров и выполняет 128 мЛн. 16-битных операций умножения в секунду, заменяя 300 микросхем средней и большой сте­ пени интеграции. Контакты между соединительными про­ водниками обоих уровней программируются лучом лазера (расплавляется диэлектрик), некоторые связи разрезаются. Из 352 ячеек используется 128. Лазерное реконструирова­ ние при управлении от ЭВМ длится около 1 ч, выполняется примерно 1200 соединений и 400 разрезов.

Перспективные субсистемы (микросистемы), по оцен­ кам, должны содержать 1— 100 миллионов транзисторов. Плотность компоновки для СБИС при минимальном раз­ мере элементов 0,5—2 мкм достигает 2—20 тысяч тран­ зисторов на квадратный миллиметр. Микросистема, со­ держащая десять миллионов транзисторов, будет зани­ мать площадь от 500 до 5000 мм2. Расчеты показывают, что при плотности дефектов на одну литографию А) = 0,01 мм-2 и при числе литографий 7— 10 ожидаемый выход годных микросистем составит 10-4 — 1СН5%.

Основной проблемой реализации СБИС с числом эле­ ментов более одного миллиона, таким образом, является недопустимо малый процент выхода годных микросхем при столь большой площади кристалла (пластины).

Решить эту проблему в рамках «микронной» техно­ логии можно, только используя методы резервирования. Особенно эффективными методы резервирования супер­ кристаллов и СБИС-пластин оказываются для реализа­ ции систем памяти и многопроцессорных систем, содер­ жащих матрицы однотипных блоков. Приемлемый выход годных микросистем обеспечивается заменой неисправ­ ных блоков резервными.

Число магистральных шин (с учетом резервных ли­ ний) в каналах между столбцами (строками) блоков (см. рис. 3.15) определяется числом внутриблочных кон­ тактных площадок, числом требующихся и резервных блоков и особенностями архитектуры реализуемых мик­ росистем.

Наряду с информационными шинами необходимо проложить и шины питания; ширина, удельные сопро­ тивление и емкость проводников должны обеспечить до­ пустимые сопротивления и постоянные времени шин.

Внутриблочные контактные площадки служат для диагностики блоков микросистемы с использованием зондовых установок и диагностического оборудования на основе электронных вычислительных машин, а также для подачи сигналов электрической настройки микроси­ стемы (совместно с внешними контактными площад­ ками).

Вероятность выхода годных микросистем определяет­ ся выражением:

P s= P c П %

(3.3)

1</<*

 

где P^Mj — общая вероятность выхода годных блоков (модулей) /-го типа; / = 1, 2, 3, ...; Рс — общая вероят­ ность выхода годных систем межблочных соединительных шин.

Общую вероятность выхода годных блоков опреде­ ленного типа можно определить по формуле для сколь­ зящего резервирования:

Рш = 2

С*м

(Рм)м+*~1 (1-РмУ,

(3.4)

где

 

 

 

О

-

(А* + /?)!

 

M + R i \ ( M + R — I)! ’

M9R — число активных и резервных блоков данного

типа;

 

Рм — вероятность

выхода годного блока;

0,

1,2,

 

 

 

 

 

Вероятность выхода годных блоков можно рассчитать

в предположении

гамма-распределения

плотности де­

фектов:

 

 

 

 

 

 

 

 

 

P M -(l+ A > S A f)-'4

 

(3.5)

где SM — площадь блока;

— число литографий.

Выход годных

соединительных шин

определяется с

учетом

вероятности

Рп программирования

(настройки),

соединений:

 

 

 

 

 

 

 

 

 

РС= Р „Р Т,

 

(3.6)

где

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

PT= ( l + D 0ST)-"c,

 

ST — площадь, занимаемая

проводниками; Nc — число

литографий при

формировании соединений.

 

В табл. 3.4 представлены результаты расчета по фор­

мулам

(3.3) — (3.6)

вероятности выхода

годных для

СБИС-пластины диаметром 76 мм, включающей два типа блоков: Afi(i/?i) и -М2(/?2)-

Исходные данные:

 

 

 

 

= 16;

Я, =79;

М ,

= 1;

Я2 = 5;

Л/л = 9;

Nc —3;

S MI = S AI2 = 2 5

мм2;

Рн=0,8;

ST=64,4 мм2.

 

 

 

 

 

Т а б л и ц а 3.4

Вероятность выхода годных микросистем

Элементы микросистемы

 

Плотность дефектов Do, мм-2

0,0067

| 0,0094

0,0150

 

 

Блоки ( Р м )

 

0,25

0,15

0,057

Блоки M i ( P X M i )

0,979

0,349

9 ,2 -10-5

Блоки М2 ( P S M 2 )

0,822

0,623

0,297

Соединительные

шины (Р с)

0,259

0,182

0,097

Микросистемы (Я2)

0,223

0,042

2,87-10-6

Анализ результатов табл. 3.4 показывает, что для получения приемлемого выхода годных микросистем (бо­ лее 10%) необходимо обеспечить

Рм ( M + R ) > M .

Дублирование системы соединительных шин позволя­ ет почти в два раза повысить выход годных СБИС-пла- стин (до 36% при Dо=0,0067 мм-2).

К элементной базе микросистем, реализуемых в ви­ де СБИС-пластин, предъявляются требования малой по­ требляемой мощности, высокой компоновочной плотности, высокой помехоустойчивости, возможности работать на значительную емкостную нагрузку. Наиболее полно этим требованиям отвечают элементы на основе переключа­ телей напряжения с двухтактным выходом (типа КМОПэлементов).