книги / Нелинейные металлоксидные полупроводники
..pdf
|
СеоЛстпо |
|
ZnO |
Т :02 |
Сг203 |
|
Плотность, |
103 кг/м3 |
5,6 |
4,24 |
5,21 |
||
Температура |
плавления, |
1975 |
1855 |
2300 |
||
°С |
|
|
струк |
Гексагональ- |
Тетрагональ |
Гексаго |
Кристаллическая |
||||||
тура |
|
|
|
ная, вюрцит |
ная, рутил |
нальная |
Периоды решетки, |
нм |
д=0,3249 |
а = 0,4594 |
я=0,495 |
||
|
|
|
|
с=0,5205 |
с=0,2958 |
с = 1,3665 |
Радиус катиона, нм |
|
0,074 |
0,068 |
0,052 |
||
Строение |
внешних |
элек |
4s2 |
3d24s2 |
3d54s1 |
|
тронных оболочек ато |
|
|
|
|||
мов катионов |
|
1,6 |
|
1,6 |
||
Электроотрицательность |
|
|||||
катиона |
|
|
|
|
|
|
Степень ионности связи |
0,59 |
п |
0,59 |
|||
Тип электропроводности |
п |
Р |
||||
Диэлектрическая |
прони |
8,5* |
100 |
9 |
||
цаемость |
|
|
|
|
|
|
♦В керамике ZnO, обожженной в окислительной |
среде (на воздухе), |
•г м(1-т-10Ы(Р |
||||
таллнтньрс |
контактах. |
|
|
|
|
|
элементы |
будут |
располагаться в межкристаллитной области. Характер |
но, что и по строению внешних электронных оболочек катионов оксиды Bi и Sb, а также Zn и Sn стоят особняком: зоной проводимости в них является широкая s -зона катиона, следует ожидать обычных для зон ной теории значений подвижности р,>5-г-10 см2/|(.В-с). Остальные окси ды, применяемые в технологии варисторов, имеют частично заполнен ную Зс/-зону в (ТЮ2 и ВаТЮз, где стехиометрии отвечает конфигурация 3d0, 3d — зона заполняется при легировании) и характеризуются боль
шой эффективной массой носителей заряда и малой подвижностью р^0,1 см2/1('В-с).
Высоконелинейный цинкоксидный полупроводник является много компонентной системой, вследствие чего полная картина физико-хими ческих превращении может быть довольно сложной. Исследовано по ведение основных добавок — оксидов Bi20 3, СоО, MnO, Сг20 3, Sb20 3 при их введении в ZnO в небольших количествах. Известно, что еди ничные добавки СаО, МпО или Сг20 3 при молярном содержании 0,5% растворяются в решетке кристаллитов ZnO и не приводят к усилению нелинейных свойств, когда температура обжига превышает 1250 °С. Фи зико-химические исследования диаграмм состоянии показывают, что в двойных оксидных системах ZnO—СаО, ZnO—MnO, ZnO—NiO обра
зуются твердые растворы на основе |
обоих |
компонентов. Поскольку |
эти диаграммы во многом схожи, на |
рис. 66 |
приведена только одна |
из них — диаграмма системы ZnO-^MnO в субсолидусной области. Вид но, что растворимость МпО в ZnO при 800 °С достигает 25%. С ростом
нейные свойства при температурах спекания 950— 1250°С, |
выше 1250°С |
|
Bi20 3 испаряется. |
Sb20 3 усиливает нелинейные свойства |
цинкоксидной |
Оксид сурьмы |
керамики при температурах спекания 950—1150 °С. При более высокой температуре Sb20 3 также испаряется. Характерно, что двойные добавки
Bi20 3—<MnO, |
Bi20 3—СоО |
обладают р = 13-5-18 при |
достаточно |
высокой |
|||||||||
температуре |
спекания 1250—1350 °С. Следовательно, третий |
компонент |
|||||||||||
препятствует |
испарению |
Bi20 3, |
что связано, |
очевидно, с |
образованием |
||||||||
|
|
|
|
химических |
соединений, напри |
||||||||
|
|
|
|
мер |
|
Bi2CV2MnO. |
Кроме |
того, |
|||||
|
|
|
|
катионы Со и Мп могут само |
|||||||||
|
|
|
|
стоятельно |
легировать |
поверх |
|||||||
|
|
|
|
ностный |
|
слой |
кристаллита |
||||||
|
|
|
|
ZnO, |
усиливая |
неомические |
|||||||
|
|
|
|
свойства |
потенциального |
барь |
|||||||
|
|
|
|
ера, |
как |
это |
имеет |
место, на |
|||||
|
|
|
|
пример, в системе 94,9 ZnO— |
|||||||||
|
|
|
|
0,1, РгбОц,—5Со30 4 [17]. |
|
||||||||
|
|
|
|
|
Следует отметить, что при |
||||||||
|
|
|
|
менение |
Bi20 3 |
вывело |
техноло |
||||||
|
|
|
|
гию |
цинкоксидных |
варисторов |
|||||||
|
|
|
|
на |
качественно новую |
ступень. |
|||||||
|
|
|
|
Долгое время коэффициент не |
|||||||||
|
|
|
|
линейности р=30ч-50 и выше |
|||||||||
|
|
|
|
был достижим лишь в систе |
|||||||||
|
|
|
|
мах |
|
с Bi2Os. Причины |
такой |
||||||
|
|
|
|
фундаментальной |
роли |
Bi20 3 |
|||||||
|
|
|
|
до конца не ясны. Можно |
|||||||||
|
|
|
|
предполагать, |
что |
|
они |
связа |
|||||
|
|
|
|
ны с его большой нестехиомет- |
|||||||||
|
|
|
|
ричностыо, |
низкой |
термической |
|||||||
|
|
|
|
устойчивостью |
и |
склонностью |
|||||||
Bi203. |
|
|
|
к |
|
аморфизацин |
|
структуры. |
|||||
/ — 3 — последовательные |
нагревы; |
4 — |
В |
результате |
Bi20 3 |
является |
|||||||
избыточное расширение при первом нагре |
эффективным |
|
поставщиком |
||||||||||
ве. |
|
|
|
ионов Bi для |
легирования по |
||||||||
|
|
|
|
верхности |
кристаллитов |
ZnO, |
|||||||
обеспечивая в то же время плотное |
жидкофазное |
спекание. |
|
||||||||||
Оксид висмута, принадлежащий |
к малоизученным полупроводни |
кам, имеет две стабильные кристаллографические модификации: моно клинную а, устойчивую до 710—730 °С, и кубическую у» устойчивую выше этих температур. «Кроме того, в зависимости от условий термо обработки и скорости охлаждения могут возникать тетрагональная р и кубическая ô. Рентгенографические исследования показали, что в ре шетке Bi20 3 имеется большое число катионных вакансий, образующих акцепторные уровни.
Отклонения от стехиометрии настолько велики, что электропровод ность в точке плавления практически не претерпевает аномалий, что позволяет причислить Bi20 3 к аморфным полупроводникам. Дилато метрические исследования и дифференциально-термографический ана лиз подтверждают, что нарушение дальнего порядка начинается за долго до температуры плавления. При этом даже незначительная термообработка приводит к остаточным объемным эффектам.
При малых температурах нагрева наблюдается остаточное объем ное расширение До/оо^,1'5% (рис. 67, кривая /), которое, видимо, вызвано образованием вакансий вследствие летучести висмута, посколь ку именно этот тип дефектов в гетерополяриом соединении при
водит к расширению элементарной ячейки. Анализ избыточного удли
нения в виде |
соотношения ààl (T )/l0 = — Naexp( — gv/kT), где N — |
концентрация |
вакансий, v — объем дефекта, позволяет определить энер |
гию образования вакансий éf„= 0t6 эВ (рис. 67) [56].
Нижняя температурная граница отрицательной остаточной делатации также очень низка и составляет 500 °С. При полиморфном превра щении моноклинной Bi20 3 в кубическую вблизи 730 °С наблюдается скачок объема, составляющий 2,4—2,7% при нагреве и 3,6—3,9% при охлаждении, что приводит к остаточному уменьшению длины образца. Сравнение эндотермических тепловых эффектов при полиморфном пре вращении и при плавлении показывает, что теплота превращения Qnp^;40±2 кДж/моль более чем в 1,5 раза превышает теплоту плавле ния <2пл^23±2 кДж/моль. Таким образом, теплота перехода между двумя кристаллическими фазами намного превышает тепловой эффект перехода в иное агрегатное состояние. Температурный гистерезис пре
вращения |
очень велик и |
при малой скорости охлаждения (около |
0,1 °С/мин) |
может достигать |
120—140 °С. При малых скоростях нагрева |
и охлаждения выше 600 °С |
термическое расширение вообще отсутст |
вует и фазовый переход первого рода на дилатометрических кривых выглядит как скачок объема, слева и справа от которого (т. е. в мо ноклинной и кубической фазах) коэффициент термического расширения а=0. Между тем теоретическая оценка а по обобщенной формуле Лин-
дермаина — Бореллиуса |
и |
Грюнейзена |
d^I9,37/ÂV2f3Q2 |
(А — средне |
квадратичная атомная масса, |
V — атомный объем, 0^302 °С — темпера |
|||
тура Дебая для Bi20 3) |
дает |
значение |
(7—10) *10“6 вС-1, |
совпадающее |
с экспериментальными данными рис. 67 в низкотемпературной области. Таким образом, необычные свойства Bi20 3: малая энергия разру шения дальнего порядка в точке плавления, низкие температуры оста точной дилатации, малое значение либо отсутствие термического рас ширения — свидетельствуют о том, что в Bi2 0 3 существует широкая температурная область предплавления, характеризующаяся столь боль шими нарушениями стехиометрии, что при температурах выше 600°С
Bi20 3 является фазой переменного состава.
Электрические исследования выявили нечувствительность электро проводности Bi20 3 к легированию, что характерно для аморфных по лупроводников, а также большую ионную составляющую электропро водности, приводящую к электролитическому разложению вблизи точки плавления. При этом керамика при выключении поля обнаруживала остаточную ЭДС.
23. Химический и фазовых состав нелинейных цйнкоксидных полупроводников
Исследования химического состава и структуры много компонентных цинкоксидных полупроводников осуществля ются с помощью рентгеновской дифрактометрии, химиче ского микроанализа при сканировании электронным лучом, методом Оже-спектроскопии и другими современными ме тодами. Поскольку основным объектом изучения являются дополнительные химические фазы, образующиеся в резуль тате легирования ZnO различными добавками, препараты для структурных исследований получают путем избира-
1С5
тельного травления основной фазы ZnO. После длительно го травления в насыщенных растворах НС10 или NHL(C1 кристаллиты ZnO растворяются, обнажая трехмер ную сетку, образующуюся при затвердевании жидкой фа зы в процессе охлаждения от температуры обжига.
Длительное время основное внимание исследователей
было обращено на выявление |
химических |
и структурных |
|||||||||||||||
1Z |
|
|
|
|
форм Bi2 0 3) |
в которых |
этот оксид |
||||||||||
|
|
|
|
входит в образуемые им легко |
|||||||||||||
L |
|
|
BL |
плавкие |
соединения. Известно, |
что |
|||||||||||
I i . l |
I-J—L- |
в |
бинарной |
системе |
ZnO— Ш2О3 |
||||||||||||
I |
2 |
оксид висмута образует |
легкоплав |
||||||||||||||
4 |
SnW~7cn |
||||||||||||||||
|
|
а) |
|
|
кий |
каркас |
микроструктуры |
ке |
|||||||||
■^Гт |
|
рамики, |
обладающий |
диэлектри |
|||||||||||||
|
ческими |
свойствами |
и |
|
аморфной |
||||||||||||
|
структурой. |
|
В |
пользу |
|
аморфно |
|||||||||||
|
|
|
|
|
го состояния В1гОз говорит вы |
||||||||||||
I |
|
в) |
|
сокий уровень фона на рентгено |
|||||||||||||
|
|
граммах при малых углах рассея |
|||||||||||||||
Рнс. 68. |
Распределение |
ния |
рентгеновских |
лучей. |
Кроме |
||||||||||||
того, спекание, в |
присутствии В1г0 3 |
||||||||||||||||
висмута в поверхностном |
|||||||||||||||||
слое варистора (а, в от |
приводит к более правильной фор |
||||||||||||||||
носительных единицах) и |
ме зерен ZnO и более плотной ми |
||||||||||||||||
созданный |
|
им |
|
поверх |
кроструктуре. |
Это |
связано |
с |
по |
||||||||
ностный заряд (б) и по |
вышенной |
растворимостью |
участ |
||||||||||||||
тенциальный |
барьер (в) |
||||||||||||||||
[39]. |
|
|
|
|
ков |
|
поверхности |
зерна |
|
с |
малым |
||||||
|
|
|
|
|
радиусом |
кривизны |
(углов, |
высту |
|||||||||
|
|
|
|
|
пов |
|
и т. д.) |
в жидкой фазе. В |
[39] |
||||||||
показано, |
что |
|
детали |
микроструктуры |
простых |
составов |
|||||||||||
ZnO— Bi20 3 и |
многокомпонентных |
варисторов |
во |
многом |
|||||||||||||
схожи. |
Обнаружено, |
что висмут содержится в меж- |
|||||||||||||||
крист'аллитных |
контактах |
в двух формах: в виде |
дискрет |
ной фазы, а также в виде тонкого адсорбционного слоя на поверхности кристаллита ZnO. По результатам Оже-спек- троскопии толщина адсорбционного слоя около 2 нм.
В то же время из электрических измерений известно, что поверхностный барьер гораздо толще. На рис. 68 показано
распределение Bi в поверхностном слое, а также формиро вание поверхностного потенциального барьера. Здесь отри цательный поверхностный заряд создан адсорбцией ком плекса (ВЮ )+, а положительный — компенсирующим про странственным зарядом ионизированных доноров Zn+,-.
Можно заключить, что основное преимущество много-! компонентных висмутоксидных фаз в промышленных варисторах, по сравнению с чистым Bi20 3 в составах
1 Сб
ZnO—В1гОз состоит в большей термической устойчивости
первых. В результате В12О3 более эффективно участвует |
||
в образовании |
барьерного |
слоя в варисторах, чем в соста |
вах Z n O < B i> , |
в которых |
при высоких температурах |
В1гОз отчасти улетучивается, а отчасти подвержен ликва
ции вследствие большой плотности.
Впервые распределение химических элементов между кристаллитом и прослойкой в керамике исследовалось в [18], где сделан вывод, что все легирующие катионы располагаются в межкристаллитной прослойке. Последую щее изучение, однако, выявило более сложную картину.
При |
исследовании спектров оптического |
пропускания |
|||||
варисторов (молярное содержание |
суммарной добавки со- |
||||||
ства |
( Bi, Со, Mn, Sn, |
Sb) 3%) обнаружено, что ионы |
|||||
Со2+ легируют кристаллит ZnO [57]. |
Кроме |
основного |
|||||
оксида, |
микроструктура |
керамики |
содержит |
соединение |
|||
Zn7Sb20 i2 |
со |
структурой |
шпинели |
и |
параметром ячейки |
||
0,8601 нм |
[в |
обобщенной |
формуле шпинелей АВ20 4 этот |
||||
состав |
обозначается как |
Zn(Zn4/3Sb2/3)0 4], а также фазу |
со структурой пирохлора и параметром ячейки 1,048 нм. Шпинель выделяется в виде хорошо ограненных окта эдрических кристаллитов, расположенных на стыке не скольких зерен ZnO. Фаза со структурой пирохлора со держится в контактах двух соседних зерен и может обра зовывать сплошную трехмерную сетку, в узлах которой рас полагаются кристаллиты основного оксида [57].
Детальные структурные исследования показали, что фа за со структурой пирохлора содержит значительное коли чество Bi20 3 и отвечает стехиометрии Bi2 (Zn4/3Sb2/3) 0 6 .
При этом такие элементы добавочных окислов, как Мп и Со, видимо, замещают Zn в решетках пирохлора и шпине ли. С ростом температуры спекания соотношение пиро хлор — шпинель изменяется в пользу шпинели. Это дает основания предполагать, что при высоких температурах имеет место химическое превращение пирохлора в шпинель в соответствии с уравнением
ZnO |
(96) |
Bi2 (Zn4/3Sb2/3) О ,----►Zn {Zn4/3 SЬг/з) О, -f- Bi20 3, |
|
в результате которого В120 з в пирохлоре полностью |
заме |
щается эквивалентным количеством ZnO. |
|
Так как ZnO поставляется, видимо, из объема кристал литов, структура подрешетки (Zn4/3Sb2/3) сохраняется не
изменной. С ростом температуры содержание шпинели растет, а пирохлорной фазы — уменьшается. Исследования с помощью световой микроскопии показывают, что с ро-
Рис. 69. Относительное содержание фаз |
||||
шпинель/пирохлор |
(а — по |
ординате — от |
||
ношение |
дифракционных |
максимумов на |
||
рентгенограммах) |
и зависимость коэффици |
|||
ента нелинейности |
Р |
(/) и постоянной С из |
||
ВАХ вида /-—(£//С)Р |
(2) |
от температуры |
||
обжига |
(б). |
|
|
|
а) -------------------------------------------------------
С,103В/см
п стом температуры спекания увели
чивается размер частиц шпинеле-
мвой фазы. Приближенная оценка относительного содержания пиро хлора и шпинели в межкристал
лических областях керамики мо-
южет быть получена с помощью сравнения интенсивности линий, характерных для обеих (раз, на
рентгеновских дифрактограммах.
'о |
Сопоставление |
интенсивное гей |
отдельных пиков, |
например, (31J) |
|
для |
шпинели и (400) для пирохло- |
'ра свидетельствует в пользу при близительно линейного роста коли
чества шпинели с возрастанием температуры спекания.
Поскольку шпинель не содержит Bi, рост ее содержа ния, вообще говоря, может привести к снижению |3. Из со поставления относительной интенсивности отражений, ха рактерных для шпинели и пирохлора, с температурной за висимостью р (рис. 69) можно в принципе по рентгено граммам оценить температуру, при которой фаза пирохло ра начинает распадаться. Эта температура составляет 1300— 1350°С.
Вместе с тем существует и другая точка зрения на хи мический состав многокомпонентного полупроводника. Так, в сообщении фирмы «Мацусита электрик» указывается, что в спеченном материале, содержащем оксиды висмута, хрома, кобальта, марганца (молярная доля по 0,5%) и сурьмы (1%), присутствуют следующие фазы: ZnO с до бавками Со и Мп, образующих твердый раствор, шпинель (ZnCo)7/3Sb2/3 0 4 и свободный Bi20 3. Процесс получения
высоконелинейного варистора заключается в том, что при температурах 720—950°С образуется соединение ZnBi3/2Sb3/207 (пирохлорная фаза), которое разлагается на
Bi20 3 и фазу шпинели. В |
этом процессе необходимо |
пред |
отвратить испарение Bi20 |
3. Таким образом, хотя |
общая |
схема образования структуры нелинейного полупроводника
1С8
ция структуры BiîOa может быть достигнута термообра боткой в окислительной среде [2 0 ].
Несовпадение результатов физико-химических исследо
ваний |
разных авторов, |
являясь |
в целом дискуссионным, |
все же |
отчасти может |
быть |
обусловлено различиями |
в исходном химическом составе. Сопоставление результа тов могло бы способствовать поиску оптимального хими ческого состава и оптимальной технологии.
В [58] исследованы процессы формирования межкристаллитных фаз в цинкоксидиых полупроводниках, содер жащих 5% четырехкомпонентиой оксидной добавки соста ва (B i, Со, Mn, Sb >.
Химическое взаимодействие между компонентами начи нается вблизи 700°С и заключается в замещении ионов Zn2+ в решетке ZnO ионами Мп2+ и Со2+, в образовании шпинели Zn?Sb20 i2 и в формировании соединения со струк турой пирохлора Р\, имеющего состав Bii,4Mno>4Zno17Sbi1507.
При температурах ниже 960°С обнаружено также незна чительное количество фазы BiSbCU. Вблизи 1050°С, по дан ным рентгеновской дифрактометрии, возникает р-фаза Bi2C>3, количество которой растет с температурой, что со
провождается уменьшением содержания пирохлорной фа зы Р\. Ближе к 1300°С Bi2C>3 все более улетучивается. Это
приводит к появлению новой фазы со структурой пирохло ра Р2, отличающейся меньшим периодом элементарной ячейки: 1,03 нм вместо 1,046 у фазы Р\. Пирохлорная фаза Р 2 менее обогащена Bi, но содержит больше Zn и Sb, ее со
став |
Bio,6Mno,4Znil2Sbi,8C>7. Химический |
состав |
шпинели |
|
в исследованных в |
[58] полупроводниках также отличает |
|||
ся |
от шпинели, |
индицированной в |
[57] : ее |
состав |
Zn2>iCo0,2Sbo,6704. На рис. 71 представлены количественные
изменения фазового состава при обжиге. Температура обжига составляла 1300°С с одночасовой выдержкой. Вид но, что варисторы, содержащие 5% молярных долей четы рехкомпонентной добавки, при комнатной температуре не со держат свободного ВЮз, а включают в себя фазы шпинели и пирохлора.
Необходимо отметить результаты [59], где исследован цинкоксидный полупроводник, содержащий 3% молярных долей пятикомпонентной добавки < Bi, Со, Mn, Сг, Sb >.
В этой системе существует несколько висмутсодержа щих фаз, последовательно сменяющих друг друга при по вышении температуры. Неомические свойства возникают, если температура обжига превышает 900°С. На рис. 72 схематически изображено формирование фазового состава
по