Добавил:
Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:

книги / Нелинейные металлоксидные полупроводники

..pdf
Скачиваний:
5
Добавлен:
12.11.2023
Размер:
10.11 Mб
Скачать

 

СеоЛстпо

 

ZnO

Т :02

Сг203

Плотность,

103 кг/м3

5,6

4,24

5,21

Температура

плавления,

1975

1855

2300

°С

 

 

струк­

Гексагональ-

Тетрагональ­

Гексаго­

Кристаллическая

тура

 

 

 

ная, вюрцит

ная, рутил

нальная

Периоды решетки,

нм

д=0,3249

а = 0,4594

я=0,495

 

 

 

 

с=0,5205

с=0,2958

с = 1,3665

Радиус катиона, нм

 

0,074

0,068

0,052

Строение

внешних

элек­

4s2

3d24s2

3d54s1

тронных оболочек ато­

 

 

 

мов катионов

 

1,6

 

1,6

Электроотрицательность

 

катиона

 

 

 

 

 

Степень ионности связи

0,59

п

0,59

Тип электропроводности

п

Р

Диэлектрическая

прони­

8,5*

100

9

цаемость

 

 

 

 

 

♦В керамике ZnO, обожженной в окислительной

среде (на воздухе),

•г м(1-т-10Ы(Р

таллнтньрс

контактах.

 

 

 

 

элементы

будут

располагаться в межкристаллитной области. Характер­

но, что и по строению внешних электронных оболочек катионов оксиды Bi и Sb, а также Zn и Sn стоят особняком: зоной проводимости в них является широкая s -зона катиона, следует ожидать обычных для зон­ ной теории значений подвижности р,>5-г-10 см2/|(.В-с). Остальные окси­ ды, применяемые в технологии варисторов, имеют частично заполнен­ ную Зс/-зону в (ТЮ2 и ВаТЮз, где стехиометрии отвечает конфигурация 3d0, 3d — зона заполняется при легировании) и характеризуются боль­

шой эффективной массой носителей заряда и малой подвижностью р^0,1 см2/1('В-с).

Высоконелинейный цинкоксидный полупроводник является много­ компонентной системой, вследствие чего полная картина физико-хими­ ческих превращении может быть довольно сложной. Исследовано по­ ведение основных добавок — оксидов Bi20 3, СоО, MnO, Сг20 3, Sb20 3 при их введении в ZnO в небольших количествах. Известно, что еди­ ничные добавки СаО, МпО или Сг20 3 при молярном содержании 0,5% растворяются в решетке кристаллитов ZnO и не приводят к усилению нелинейных свойств, когда температура обжига превышает 1250 °С. Фи­ зико-химические исследования диаграмм состоянии показывают, что в двойных оксидных системах ZnO—СаО, ZnO—MnO, ZnO—NiO обра­

зуются твердые растворы на основе

обоих

компонентов. Поскольку

эти диаграммы во многом схожи, на

рис. 66

приведена только одна

из них — диаграмма системы ZnO-^MnO в субсолидусной области. Вид­ но, что растворимость МпО в ZnO при 800 °С достигает 25%. С ростом

нейные свойства при температурах спекания 950— 1250°С,

выше 1250°С

Bi20 3 испаряется.

Sb20 3 усиливает нелинейные свойства

цинкоксидной

Оксид сурьмы

керамики при температурах спекания 950—1150 °С. При более высокой температуре Sb20 3 также испаряется. Характерно, что двойные добавки

Bi20 3—<MnO,

Bi20 3—СоО

обладают р = 13-5-18 при

достаточно

высокой

температуре

спекания 1250—1350 °С. Следовательно, третий

компонент

препятствует

испарению

Bi20 3,

что связано,

очевидно, с

образованием

 

 

 

 

химических

соединений, напри­

 

 

 

 

мер

 

Bi2CV2MnO.

Кроме

того,

 

 

 

 

катионы Со и Мп могут само­

 

 

 

 

стоятельно

легировать

поверх­

 

 

 

 

ностный

 

слой

кристаллита

 

 

 

 

ZnO,

усиливая

неомические

 

 

 

 

свойства

потенциального

барь­

 

 

 

 

ера,

как

это

имеет

место, на­

 

 

 

 

пример, в системе 94,9 ZnO—

 

 

 

 

0,1, РгбОц,—5Со30 4 [17].

 

 

 

 

 

 

Следует отметить, что при­

 

 

 

 

менение

Bi20 3

вывело

техноло­

 

 

 

 

гию

цинкоксидных

варисторов

 

 

 

 

на

качественно новую

ступень.

 

 

 

 

Долгое время коэффициент не­

 

 

 

 

линейности р=30ч-50 и выше

 

 

 

 

был достижим лишь в систе­

 

 

 

 

мах

 

с Bi2Os. Причины

такой

 

 

 

 

фундаментальной

роли

Bi20 3

 

 

 

 

до конца не ясны. Можно

 

 

 

 

предполагать,

что

 

они

связа­

 

 

 

 

ны с его большой нестехиомет-

 

 

 

 

ричностыо,

низкой

термической

 

 

 

 

устойчивостью

и

склонностью

Bi203.

 

 

 

к

 

аморфизацин

 

структуры.

/ — 3 — последовательные

нагревы;

4

В

результате

Bi20 3

является

избыточное расширение при первом нагре­

эффективным

 

поставщиком

ве.

 

 

 

ионов Bi для

легирования по­

 

 

 

 

верхности

кристаллитов

ZnO,

обеспечивая в то же время плотное

жидкофазное

спекание.

 

Оксид висмута, принадлежащий

к малоизученным полупроводни­

кам, имеет две стабильные кристаллографические модификации: моно­ клинную а, устойчивую до 710—730 °С, и кубическую у» устойчивую выше этих температур. «Кроме того, в зависимости от условий термо­ обработки и скорости охлаждения могут возникать тетрагональная р и кубическая ô. Рентгенографические исследования показали, что в ре­ шетке Bi20 3 имеется большое число катионных вакансий, образующих акцепторные уровни.

Отклонения от стехиометрии настолько велики, что электропровод­ ность в точке плавления практически не претерпевает аномалий, что позволяет причислить Bi20 3 к аморфным полупроводникам. Дилато­ метрические исследования и дифференциально-термографический ана­ лиз подтверждают, что нарушение дальнего порядка начинается за­ долго до температуры плавления. При этом даже незначительная термообработка приводит к остаточным объемным эффектам.

При малых температурах нагрева наблюдается остаточное объем­ ное расширение До/оо^,1'5% (рис. 67, кривая /), которое, видимо, вызвано образованием вакансий вследствие летучести висмута, посколь­ ку именно этот тип дефектов в гетерополяриом соединении при­

водит к расширению элементарной ячейки. Анализ избыточного удли­

нения в виде

соотношения ààl (T )/l0 = — Naexp( — gv/kT), где N

концентрация

вакансий, v — объем дефекта, позволяет определить энер­

гию образования вакансий éf„= 0t6 эВ (рис. 67) [56].

Нижняя температурная граница отрицательной остаточной делатации также очень низка и составляет 500 °С. При полиморфном превра­ щении моноклинной Bi20 3 в кубическую вблизи 730 °С наблюдается скачок объема, составляющий 2,4—2,7% при нагреве и 3,6—3,9% при охлаждении, что приводит к остаточному уменьшению длины образца. Сравнение эндотермических тепловых эффектов при полиморфном пре­ вращении и при плавлении показывает, что теплота превращения Qnp^;40±2 кДж/моль более чем в 1,5 раза превышает теплоту плавле­ ния <2пл^23±2 кДж/моль. Таким образом, теплота перехода между двумя кристаллическими фазами намного превышает тепловой эффект перехода в иное агрегатное состояние. Температурный гистерезис пре­

вращения

очень велик и

при малой скорости охлаждения (около

0,1 °С/мин)

может достигать

120—140 °С. При малых скоростях нагрева

и охлаждения выше 600 °С

термическое расширение вообще отсутст­

вует и фазовый переход первого рода на дилатометрических кривых выглядит как скачок объема, слева и справа от которого (т. е. в мо­ ноклинной и кубической фазах) коэффициент термического расширения а=0. Между тем теоретическая оценка а по обобщенной формуле Лин-

дермаина — Бореллиуса

и

Грюнейзена

d^I9,37/ÂV2f3Q2

(А — средне­

квадратичная атомная масса,

V — атомный объем, 0^302 °С — темпера­

тура Дебая для Bi20 3)

дает

значение

(7—10) *10“6 вС-1,

совпадающее

с экспериментальными данными рис. 67 в низкотемпературной области. Таким образом, необычные свойства Bi20 3: малая энергия разру­ шения дальнего порядка в точке плавления, низкие температуры оста­ точной дилатации, малое значение либо отсутствие термического рас­ ширения — свидетельствуют о том, что в Bi2 0 3 существует широкая температурная область предплавления, характеризующаяся столь боль­ шими нарушениями стехиометрии, что при температурах выше 600°С

Bi20 3 является фазой переменного состава.

Электрические исследования выявили нечувствительность электро­ проводности Bi20 3 к легированию, что характерно для аморфных по­ лупроводников, а также большую ионную составляющую электропро­ водности, приводящую к электролитическому разложению вблизи точки плавления. При этом керамика при выключении поля обнаруживала остаточную ЭДС.

23. Химический и фазовых состав нелинейных цйнкоксидных полупроводников

Исследования химического состава и структуры много­ компонентных цинкоксидных полупроводников осуществля­ ются с помощью рентгеновской дифрактометрии, химиче­ ского микроанализа при сканировании электронным лучом, методом Оже-спектроскопии и другими современными ме­ тодами. Поскольку основным объектом изучения являются дополнительные химические фазы, образующиеся в резуль­ тате легирования ZnO различными добавками, препараты для структурных исследований получают путем избира-

1С5

тельного травления основной фазы ZnO. После длительно­ го травления в насыщенных растворах НС10 или NHL(C1 кристаллиты ZnO растворяются, обнажая трехмер­ ную сетку, образующуюся при затвердевании жидкой фа­ зы в процессе охлаждения от температуры обжига.

Длительное время основное внимание исследователей

было обращено на выявление

химических

и структурных

1Z

 

 

 

 

форм Bi2 0 3)

в которых

этот оксид

 

 

 

 

входит в образуемые им легко­

L

 

 

BL

плавкие

соединения. Известно,

что

I i . l

I-J—L-

в

бинарной

системе

ZnO— Ш2О3

I

2

оксид висмута образует

легкоплав­

4

SnW~7cn

 

 

а)

 

 

кий

каркас

микроструктуры

ке­

■^Гт

 

рамики,

обладающий

диэлектри­

 

ческими

свойствами

и

 

аморфной

 

структурой.

 

В

пользу

 

аморфно­

 

 

 

 

 

го состояния В1гОз говорит вы­

I

 

в)

 

сокий уровень фона на рентгено­

 

 

граммах при малых углах рассея­

Рнс. 68.

Распределение

ния

рентгеновских

лучей.

Кроме

того, спекание, в

присутствии В1г0 3

висмута в поверхностном

слое варистора (а, в от­

приводит к более правильной фор­

носительных единицах) и

ме зерен ZnO и более плотной ми­

созданный

 

им

 

поверх­

кроструктуре.

Это

связано

с

по­

ностный заряд (б) и по­

вышенной

растворимостью

участ­

тенциальный

барьер (в)

[39].

 

 

 

 

ков

 

поверхности

зерна

 

с

малым

 

 

 

 

 

радиусом

кривизны

(углов,

высту­

 

 

 

 

 

пов

 

и т. д.)

в жидкой фазе. В

[39]

показано,

что

 

детали

микроструктуры

простых

составов

ZnO— Bi20 3 и

многокомпонентных

варисторов

во

многом

схожи.

Обнаружено,

что висмут содержится в меж-

крист'аллитных

контактах

в двух формах: в виде

дискрет­

ной фазы, а также в виде тонкого адсорбционного слоя на поверхности кристаллита ZnO. По результатам Оже-спек- троскопии толщина адсорбционного слоя около 2 нм.

В то же время из электрических измерений известно, что поверхностный барьер гораздо толще. На рис. 68 показано

распределение Bi в поверхностном слое, а также формиро­ вание поверхностного потенциального барьера. Здесь отри­ цательный поверхностный заряд создан адсорбцией ком­ плекса (ВЮ )+, а положительный — компенсирующим про­ странственным зарядом ионизированных доноров Zn+,-.

Можно заключить, что основное преимущество много-! компонентных висмутоксидных фаз в промышленных варисторах, по сравнению с чистым Bi20 3 в составах

1 Сб

ZnO—В1гОз состоит в большей термической устойчивости

первых. В результате В12О3 более эффективно участвует

в образовании

барьерного

слоя в варисторах, чем в соста­

вах Z n O < B i> ,

в которых

при высоких температурах

В1гОз отчасти улетучивается, а отчасти подвержен ликва­

ции вследствие большой плотности.

Впервые распределение химических элементов между кристаллитом и прослойкой в керамике исследовалось в [18], где сделан вывод, что все легирующие катионы располагаются в межкристаллитной прослойке. Последую­ щее изучение, однако, выявило более сложную картину.

При

исследовании спектров оптического

пропускания

варисторов (молярное содержание

суммарной добавки со-

ства

( Bi, Со, Mn, Sn,

Sb) 3%) обнаружено, что ионы

Со2+ легируют кристаллит ZnO [57].

Кроме

основного

оксида,

микроструктура

керамики

содержит

соединение

Zn7Sb20 i2

со

структурой

шпинели

и

параметром ячейки

0,8601 нм

обобщенной

формуле шпинелей АВ20 4 этот

состав

обозначается как

Zn(Zn4/3Sb2/3)0 4], а также фазу

со структурой пирохлора и параметром ячейки 1,048 нм. Шпинель выделяется в виде хорошо ограненных окта­ эдрических кристаллитов, расположенных на стыке не­ скольких зерен ZnO. Фаза со структурой пирохлора со­ держится в контактах двух соседних зерен и может обра­ зовывать сплошную трехмерную сетку, в узлах которой рас­ полагаются кристаллиты основного оксида [57].

Детальные структурные исследования показали, что фа­ за со структурой пирохлора содержит значительное коли­ чество Bi20 3 и отвечает стехиометрии Bi2 (Zn4/3Sb2/3) 0 6 .

При этом такие элементы добавочных окислов, как Мп и Со, видимо, замещают Zn в решетках пирохлора и шпине­ ли. С ростом температуры спекания соотношение пиро­ хлор — шпинель изменяется в пользу шпинели. Это дает основания предполагать, что при высоких температурах имеет место химическое превращение пирохлора в шпинель в соответствии с уравнением

ZnO

(96)

Bi2 (Zn4/3Sb2/3) О ,----►Zn {Zn4/3 SЬг/з) О, -f- Bi20 3,

в результате которого В120 з в пирохлоре полностью

заме­

щается эквивалентным количеством ZnO.

 

Так как ZnO поставляется, видимо, из объема кристал­ литов, структура подрешетки (Zn4/3Sb2/3) сохраняется не­

изменной. С ростом температуры содержание шпинели растет, а пирохлорной фазы — уменьшается. Исследования с помощью световой микроскопии показывают, что с ро-

Рис. 69. Относительное содержание фаз

шпинель/пирохлор

(а — по

ординате — от­

ношение

дифракционных

максимумов на

рентгенограммах)

и зависимость коэффици­

ента нелинейности

Р

(/) и постоянной С из

ВАХ вида /-—(£//С)Р

(2)

от температуры

обжига

(б).

 

 

 

а) -------------------------------------------------------

С,103В/см

п стом температуры спекания увели­

чивается размер частиц шпинеле-

мвой фазы. Приближенная оценка относительного содержания пиро­ хлора и шпинели в межкристал­

лических областях керамики мо-

южет быть получена с помощью сравнения интенсивности линий, характерных для обеих (раз, на

рентгеновских дифрактограммах.

Сопоставление

интенсивное гей

отдельных пиков,

например, (31J)

для

шпинели и (400) для пирохло-

'ра свидетельствует в пользу при­ близительно линейного роста коли­

чества шпинели с возрастанием температуры спекания.

Поскольку шпинель не содержит Bi, рост ее содержа­ ния, вообще говоря, может привести к снижению |3. Из со­ поставления относительной интенсивности отражений, ха­ рактерных для шпинели и пирохлора, с температурной за­ висимостью р (рис. 69) можно в принципе по рентгено­ граммам оценить температуру, при которой фаза пирохло­ ра начинает распадаться. Эта температура составляет 1300— 1350°С.

Вместе с тем существует и другая точка зрения на хи­ мический состав многокомпонентного полупроводника. Так, в сообщении фирмы «Мацусита электрик» указывается, что в спеченном материале, содержащем оксиды висмута, хрома, кобальта, марганца (молярная доля по 0,5%) и сурьмы (1%), присутствуют следующие фазы: ZnO с до­ бавками Со и Мп, образующих твердый раствор, шпинель (ZnCo)7/3Sb2/3 0 4 и свободный Bi20 3. Процесс получения

высоконелинейного варистора заключается в том, что при температурах 720—950°С образуется соединение ZnBi3/2Sb3/207 (пирохлорная фаза), которое разлагается на

Bi20 3 и фазу шпинели. В

этом процессе необходимо

пред­

отвратить испарение Bi20

3. Таким образом, хотя

общая

схема образования структуры нелинейного полупроводника

1С8

ция структуры BiîOa может быть достигнута термообра­ боткой в окислительной среде [2 0 ].

Несовпадение результатов физико-химических исследо­

ваний

разных авторов,

являясь

в целом дискуссионным,

все же

отчасти может

быть

обусловлено различиями

в исходном химическом составе. Сопоставление результа­ тов могло бы способствовать поиску оптимального хими­ ческого состава и оптимальной технологии.

В [58] исследованы процессы формирования межкристаллитных фаз в цинкоксидиых полупроводниках, содер­ жащих 5% четырехкомпонентиой оксидной добавки соста­ ва (B i, Со, Mn, Sb >.

Химическое взаимодействие между компонентами начи­ нается вблизи 700°С и заключается в замещении ионов Zn2+ в решетке ZnO ионами Мп2+ и Со2+, в образовании шпинели Zn?Sb20 i2 и в формировании соединения со струк­ турой пирохлора Р\, имеющего состав Bii,4Mno>4Zno17Sbi1507.

При температурах ниже 960°С обнаружено также незна­ чительное количество фазы BiSbCU. Вблизи 1050°С, по дан­ ным рентгеновской дифрактометрии, возникает р-фаза Bi2C>3, количество которой растет с температурой, что со­

провождается уменьшением содержания пирохлорной фа­ зы Р\. Ближе к 1300°С Bi2C>3 все более улетучивается. Это

приводит к появлению новой фазы со структурой пирохло­ ра Р2, отличающейся меньшим периодом элементарной ячейки: 1,03 нм вместо 1,046 у фазы Р\. Пирохлорная фаза Р 2 менее обогащена Bi, но содержит больше Zn и Sb, ее со­

став

Bio,6Mno,4Znil2Sbi,8C>7. Химический

состав

шпинели

в исследованных в

[58] полупроводниках также отличает­

ся

от шпинели,

индицированной в

[57] : ее

состав

Zn2>iCo0,2Sbo,6704. На рис. 71 представлены количественные

изменения фазового состава при обжиге. Температура обжига составляла 1300°С с одночасовой выдержкой. Вид­ но, что варисторы, содержащие 5% молярных долей четы­ рехкомпонентной добавки, при комнатной температуре не со­ держат свободного ВЮз, а включают в себя фазы шпинели и пирохлора.

Необходимо отметить результаты [59], где исследован цинкоксидный полупроводник, содержащий 3% молярных долей пятикомпонентной добавки < Bi, Со, Mn, Сг, Sb >.

В этой системе существует несколько висмутсодержа­ щих фаз, последовательно сменяющих друг друга при по­ вышении температуры. Неомические свойства возникают, если температура обжига превышает 900°С. На рис. 72 схематически изображено формирование фазового состава

по