книги / Оборудование для производства полупроводниковых диодов и триодов
..pdf1 г |
Вид Л |
Рнс. 6-8. Устройство рабочих зон диффузионной печи. |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
диффузии в кремний донорных и акцепторных |
На муфеле |
камеры |
3 смонтирован |
трех |
||||||||
примесей при ампульной технологии или |
секционный нагреватель—спираль с выводами |
|||||||||||
в протоке газоносителя. На передней стенке 1 |
от каждой |
секции. |
Крайние |
секции |
спирали |
|||||||
основания 2 расположена панель управления. |
являются |
активными |
теплоизоляторамн |
цен |
||||||||
На основании смонтированы две нагреватель |
тральной секции. Нагреватель позволяет полу |
|||||||||||
ные камеры 3 и 4. |
чить в рабочей |
зоне |
на длине 400 мм темпе |
|||||||||
|
|
|
ратуру |
1 200—1 300° С |
при |
|||||||
|
|
|
разбросе ±0,5°С. |
защищен |
||||||||
|
|
|
|
Нагреватель |
||||||||
|
|
|
футеровкой 1 (рнс. 6-8). Пе |
|||||||||
|
|
|
ред |
сборкой |
печи |
обмазка |
||||||
|
|
|
нагревателя |
|
не обжигается. |
|||||||
|
|
|
В ней делаются три отвер |
|||||||||
|
|
|
стия 2 |
для |
|
ввода |
термо |
|||||
|
|
|
пар |
3, |
которые |
проходят |
||||||
|
|
|
между |
витками |
спирали |
и |
||||||
|
|
|
спаем |
касаются |
муфеля |
4. |
||||||
|
|
|
В |
|
керамический |
муфель |
4 |
|||||
|
|
|
вставляется |
|
кварцевая |
тру |
||||||
|
|
|
ба, |
в |
которой |
проводится |
||||||
|
|
|
диффузия. Внутренний |
диа |
||||||||
|
|
|
метр муфеля 70 мм. При |
|||||||||
|
|
|
вертикальной установке уве |
|||||||||
|
|
|
личивается |
надежность кон |
||||||||
|
|
|
тактирования |
спая |
термо |
|||||||
|
|
|
пар с поверхностью |
муфеля. |
||||||||
|
|
|
Термопары |
касаются муфе |
||||||||
|
|
|
ля |
4 в трех точках. В каж |
||||||||
|
|
|
дой |
точке |
|
устанавливают |
||||||
|
|
|
две термопары. |
|
Тл |
и |
||||||
|
|
|
|
Две |
термопары |
|||||||
|
|
|
Те (рис. 6-9) крайних |
сек |
||||||||
|
|
|
ций |
соединены |
последова |
|||||||
|
|
|
тельно |
и |
подключены |
к |
||||||
|
|
|
прибору, |
показывающему |
||||||||
|
|
|
температуру |
|
муфеля. |
Эти |
||||||
|
|
|
термопары |
дают |
сигнал |
на |
||||||
|
|
|
отключение |
|
нагревателей |
|||||||
|
|
|
при |
температуре |
в |
зо- |
°Скг
О |
200 |
Ш |
ООО |
000мм |
Рис. 6-10. Температурная характеристи |
||||
ка рабочей зоны. |
|
|
|
|
не свыше 1300° С. Термопара |
Т;„ помешенная |
в центре муфеля, подключена к программато ру ПР, а через него — к нуль-индикатору ПР-1 центра зоны. Остальные три термопары под ключены к нуль-индикаторам ПР-2 и ПР-3 края зоны. Термопары соединены таким обра зом, что на приборы поступает сигнал, равный алгебраической сумме сигналов центра и края зоны. Задатчики краевых нуль-индикаторов при работе сдвигаются в сторону увеличения температуры, что вносит разбаланс в систему терморегулирования; температура крайних секций поднимается до заданного значения. Соответствующая температурная характери стика показана на рис. 6-10.
Регулятор температуры диффузионной пе чи представляет собой автоматическую систе му с отрицательной обратной связью, в кото рую входят приборы ПР-1, ПР-2 и ПР-3 (ре гулирующие милливольтметры класса точно сти 0,5).
На задатчике прибора установлено фотосо противление, которое включено в плечо вход ного моста усилителя. Изменение температуры в муфеле вызывает отклонение стрелки прибо ра, что вызывает разбаланс моста.
Сигнал рассогласования поступает через контакты электромеханического вибратора на 4-каскадный усилитель. Вибропреобразова тель переводит сигнал постояного тока в им пульсы разной полярности. Затем усиленный сигнал переменного тока вновь выпрямляется и подается на управляющий электрод крем ниевого управляемого вентиля (КУВ).
Рис. 6-11. Схема управ ления рабочим током.
Рис. 6-12. Диаграммы рабочего / Р и управляющего / упр. токов КУВ.
а — напряжение |
сети; б — импульсы |
управляющего |
тока пр»л |
||
сдвиге по фазе |
фи в — рабочий ток при сдвиге |
по фазе |
фг. г — |
||
импульсы управляющего тока при |
сдвиге по |
фазе |
на |
ф2>фг» |
|
д— рабочий ток при сдвиге фазы ф2. |
|
|
|
Для управления рабочим током в оба полупериода используется схема с двумя КУВ,. включенными встречно-параллельно (рис. 6-11). Импульсы, подаваемые на управляю щий электрод КУВ, генерируются в блоке уп равления. В зависимости от величины входно го сигнала блок генерирует импульсы, сдви нутые по фазе относительно входного напря жения, поэтому и КУВ пропускает ток лишь в течение некоторого времени положительного-
полупериода, |
благодаря чему |
эффективное |
значение тока, |
а следовательно, |
и мощность |
в цепи нагревателя меняются. На |
рис. 6-12 по |
казаны временные диаграммы рабочего и уп равляющего токов КУВ.
Нагреватель низкотемпературной зоны представляет собой нихромовую спираль, со стоящую из трех секций. На панели печи уста новлено два прибора низкотемпературной зо ны: нуль-индикаторы ПР-4 и прибор ПР-5 (см. рис. 6-9), показывающий истинную температу ру в зоне. Две хромель-копелевые термопары контролируют температуру в центральной и боковой секциях. Температура третьей секции не контролируется.
Последовательность процесса и его пара метры задаются программатором. С его по мощью можно задать программы ведения про цесса диффузии (рис. 6-13). Во всех случаях
|
|
|
|
|
|
нагрев |
|
и |
охлаждение |
|
|
|
|
|
|||||
|
|
|
|
|
|
могут |
производиться |
с |
|
|
|
|
|
||||||
|
|
|
|
|
|
различными |
градиен |
|
|
|
|
|
|||||||
|
|
|
|
|
|
тами. |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
Широко |
применяе |
|
|
|
|
|
||||||
|
|
|
|
|
|
мая |
|
для |
получения |
|
|
|
|
|
|||||
|
|
|
|
|
|
р-л-переходов диффу- |
|
|
|
|
|
||||||||
|
|
|
|
|
|
зионая |
|
печь |
СДО-13 |
|
|
|
|
|
|||||
|
|
|
|
|
|
описана в гл. 8. |
|
|
|
|
|
|
|
||||||
|
|
|
|
|
|
|
6-4. |
|
ОБОРУДОВАНИЕ |
|
|
|
|
|
|
||||
|
|
|
|
|
|
|
ДЛЯ |
ПОЛУЧЕНИЯ |
|
|
|
|
|
|
|||||
|
|
|
|
|
|
|
ШЛИФОВ |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|||
|
|
|
|
|
|
|
В |
производстве по |
Рис. 6-14. Установка для |
контроля глубины диффузии-.. |
|||||||||
|
|
|
|
|
|
лупроводниковых |
при |
||||||||||||
|
|
|
|
|
|
боров |
шлифы |
исполь- |
дольное, ручка 1 — вертикальное) столик уста |
||||||||||
|
|
|
|
|
|
{ зуются в основном для |
|||||||||||||
|
|
|
|
|
|
измерения |
|
глубины |
навливается на холодильник 4. |
|
|||||||||
|
|
|
|
|
|
диффузионных |
слоев. |
Чтобы сократить время охлаждения, при |
|||||||||||
|
|
|
|
|
|
Шлифы |
могут |
быть |
меняют сухой лед. Оператор, который обслу |
||||||||||
|
|
|
|
|
|
прямые, |
косые |
и |
сфе- |
живает установку, помещает его под холодиль |
|||||||||
|
|
|
|
|
|
I. |
|
|
|
|
|
|
|
|
ник. После охлаждения |
пластина |
подводится |
||
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
рические. Косой шлиф |
|
|
|
|||
|
|
|
|
|
|
получают при |
шлифо |
на уровень шарика, закрепленного на шпин |
|||||||||||
|
|
|
|
|
|
вании пластины в при |
деле с помощью постоянного магнита, и крон |
||||||||||||
Рис. |
6-13. |
Программы |
способлении, обеспечи |
штейн 6 |
манипулятора |
со столиком перево |
|||||||||||||
ведения |
процесса |
диффу |
вающем |
снятие |
слоев |
дится в рабочее положение. В зависимости от |
|||||||||||||
зии. |
|
|
|
|
|
||||||||||||||
а —нагрев—выдержка; |
б — |
под небольшим накло |
исследуемой глубины диффузионного слоя на |
||||||||||||||||
нагрев—выдержка—охлажде |
ном |
к |
|
поверхности |
с |
шпинделе |
закрепляют |
шарик определенного |
|||||||||||
ние; |
в — охлаждение —вы |
нанесенным |
диффузан- |
диаметра. На данной установке применяются |
|||||||||||||||
держка — охлаждение; |
г — |
||||||||||||||||||
держание |
|
установленного |
том. |
На |
микроскопе |
шарики диаметром 25, 20 и 10 мм. Вращение |
|||||||||||||
выдержка—охлаждение—под |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
шпинделя |
осуществляется от электродвигате |
||||||||
значения |
температуры; |
д — |
МБС-1 |
измеряют гори |
|||||||||||||||
выдержка — нагрев — под |
зонтальный катет, а на |
ля ДР-15Д. Тумблер 12 включает привод. По |
|||||||||||||||||
держание |
|
установленного |
|||||||||||||||||
всех |
случаях. |
|
|
во |
МИС-11 |
|
определяют |
верхность |
шарика |
смачивается |
абразивной, |
||||||||
значения |
температуры |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
суспензией карбида кремния и воды при от |
||||||||
ки. |
Зная |
эти |
|
|
тангенс |
угла |
шлифов |
||||||||||||
данные, |
вычисляют |
глубину |
ношении твердой фазы к жидкой 1:3 и про |
||||||||||||||||
диффузионного слоя. |
глубину |
диффузионного |
исходит процесс локальной шлифовки пла |
||||||||||||||||
Наиболее |
точно |
стины. |
|
|
|
|
|||||||||||||
слоя можно определить методом так называе |
При необходимости увеличения рабочего- |
||||||||||||||||||
мого сферического шлифа. В случае косого |
усилия на пластину устанавливаются грузы 8. |
||||||||||||||||||
шлифа на результат измерения влияют по |
Число оборотов электродвигателя, а заодно и |
||||||||||||||||||
грешности измерения катета и угла а. При |
шарика регулируется в пределах 0—150об/мин |
||||||||||||||||||
сферическом шлифе измеряется только одна |
поворотом ручки потенциометра 13; число обо |
||||||||||||||||||
величина — хорда |
сферы. |
Зная |
диаметр |
ша |
ротов шарика контролируется по |
счетчику 7. |
|||||||||||||
рика и длину хорды, определяют глубину диф |
|
|
|
|
|
||||||||||||||
фузионного слоя. |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
6-5. ОБОРУДОВАНИЕ ДЛЯ ЭПИТАКСИАЛЬНОГО |
Малогабаритная установка настольного ти па для контроля глубины диффузии до 0,3 мм показана на рис. 6-14. С помощью манипу лятора 5 столик кронштейна 6 устанавливает ся на малогабаритную электроплитку 3, после чего включается тумблер нагрева 11; затем оператор наносит слой воска на поверхность столика, укладывает пластину 9 и легким на жимом выдавливает излишки воска. С по мощью поворота ручек манипулятора (ручка 2 — поперечное перемещение, ручка 10 — про
НАРАЩИВАНИЯ
Процессы эпитаксиального наращивания из газовой фазы можно разделить на четыре типа по характеру реакций:
а) восстановление паров какого-либо со единения водородом при высоких температу рах (например, 81СЦ при />1 100° С) ;
б) крекинг (термическое разложение) па ров соединения (например, ОеЩ и 81Н4 при 1 ~ 1 100° С);
Выход парогазовой
Выход
Рис. 6-15. Схема установки для эпитаксиального нара щивания.
в) газотранспортные реакции |
(например, |
|
|
|
|
|
|
|||||
перенос германия с помощью иода); |
|
|
|
|
|
|
||||||
г) возгонка |
в вакууме при высоких темпе |
|
|
|
|
|
|
|||||
ратурах. |
|
|
|
|
|
|
Рис. 6-16. Газовая схема пульта установки эпитаксиаль |
|||||
Характер используемых реакций определя |
ного наращивания. |
|
|
|
подаваемых |
|||||||
ет конструктивные особенности |
оборудования |
Л —Ръ— редукторы для регулирования давления |
||||||||||
газовых реагентэл; К1—К10 —ротаметры |
десяти каналов; |
|||||||||||
для эпитаксиального наращивания. |
В|—Вю — вентили |
управления |
газовыми каналами; |
С|—С10 — со |
||||||||
Установку |
для |
эпитаксиального наращи |
леноидные клапаны; П\—Пь— термостатированные |
питатели. |
||||||||
вания по исполнению можно разделить сле |
|
|
|
|
|
|
||||||
дующим образом: |
нагрева |
(высокочастотны" |
В шкафу управления размещены напело, |
|||||||||
а) по способу |
блок 3 испарителей 81СЦ с термостатами, обе |
|||||||||||
резистивный, радиационный); |
(вертикальны" |
спечивающими постоянство температуры испа |
||||||||||
б) по геометрии |
реактора |
рения, система распределения парогазовых по |
||||||||||
горизонтальный); |
подачи |
парогазовой смеси |
токов 4. На панели управления имеются ре |
|||||||||
в) по способу |
гулятор выходной мощности ВЧ генератора и |
|||||||||||
к подложкам |
(параллельный, |
последователь |
программатор. |
расположены |
реактор о |
|||||||
ный) ; |
|
|
|
|
|
|
На рабочем столе |
|||||
г) по расположению индуктора (вне реак |
с боксом загрузки-выгрузки, представляющий |
|||||||||||
тора, внутри реактора). |
|
|
|
собой подвижную камеру, продуваемую азо |
||||||||
Ниже описывается промышленная установ |
том; приборы 7 регистрации температуры и |
|||||||||||
ка для наращивания |
эпитаксиальных пленок |
скруббер 8 дожигания отходящих газов. |
||||||||||
с использованием реакции восстановления па |
Реактор |
представляет |
собой кварцевую |
|||||||||
ров 51СЦ водородом |
при |
температурах выше |
трубу с двойными стенками. Он установлен на |
|||||||||
1 100° С. Парогазовая смесь ЗЮЦ и Нг с до |
столе на У-образных подставках в горизон |
|||||||||||
бавкой необходимых |
примесей |
пропускается |
тальном положении и вставлен в высокоча |
|||||||||
через горизонтальную кварцевую трубу-реак |
стотный индуктор. |
|
|
|
|
|||||||
тор, в которой последовательно расположены |
Газы из шкафа управления подаются в ре |
|||||||||||
восемь кремниевых |
пластин. |
Продолжитель |
актор по фторопластовой трубке 5. Выходя |
|||||||||
ность процесса наращивания около 5 ч. |
щие из реактора газы по полиэтиленовой |
|||||||||||
Основными узлами установки (рис. 6-15) |
трубке 9 поступают к горелке скруббера, где |
|||||||||||
являются высокочастотная печь /, шкаф 2, ра |
сжигаются. |
|
|
|
|
|
||||||
бочий стол (на рисунке не показан). Высоко |
Парогазовая смесь проходит над кремние |
|||||||||||
частотная печь состоит из ВЧ генератора (вы |
выми пластинами последовательно, расход во |
|||||||||||
ходная мощность 25 кет) и индуктора, изго |
дорода 4—6 м3/ч. Газораспределительная си |
|||||||||||
товленного из медной трубки. |
|
|
стема (рис. 6-16) универсального типа имеет |
|||||||||
Для каждого типа технологического про |
десять независимых |
каналов. |
Конструкцией |
|||||||||
цесса подбирается свой индуктор. |
|
предусмотрены канал |
для |
газового травления |
ОБОРУДОВАНИЕ ДЛЯ ОЧИСТКИ И ЗАЩИТЫ ПЕРЕХОДОВ |
|
|
||||||||||||
7-1. ОБЩИЕ СВЕДЕНИЯ |
|
|
|
сушки поверхность переходов защищается, для |
||||||||||
|
|
|
|
|
|
|
|
|
чего применяются лакирование, окисление, си- |
|||||
В |
процессе изготовления |
полупроводнико |
ланирование, защита легкоплавкими стеклами. |
|||||||||||
вых приборов в области перехода создается |
|
|
|
|
|
|
||||||||
«отравленный» |
слой, который ухудшает элек |
7-2. ОБОРУДОВАНИЕ ДЛЯ ТРАВЛЕНИЯ |
|
|||||||||||
трофизические |
параметры |
приборов. |
Чтобы |
|
||||||||||
И ПРОМЫВКИ ПЕРЕХОДОВ |
|
|
||||||||||||
выявить истинные свойства прибора, необхо |
|
|
||||||||||||
|
|
|
|
|
|
|||||||||
димо удалить с поверхности перехода «отрав |
Установка УТ-2 (рис. 7-1) предназначена) |
|||||||||||||
ленный» слой с адсорбированными в нем при |
для химического травления германиевых по |
|||||||||||||
месями. Для этой цели применяют травление |
лупроводниковых переходов в перекиси водо |
|||||||||||||
переходов. Однако после травления поверх |
рода с последующей промывкой в деионизо |
|||||||||||||
ность |
содержит |
загрязнения — адсорбирован |
ванной воде. Установка снабжена двумя |
|||||||||||
ные из травителя примеси и частицы самого |
ваннами травления 1, двумя ваннами финиш |
|||||||||||||
травителя. Очистка поверхности от этих за |
ной промывки 2, двумя нагревателями деиони |
|||||||||||||
грязнений осуществляется промывкой в деио |
зованной воды 3 и нагревателем перекиси |
|||||||||||||
низованной |
воде |
с |
сушкой. |
Для |
повышения |
водорода 4. |
На |
верхней панели расположены |
||||||
эффективности |
отмывки применяют |
ультра |
приборы, |
контролирующие сопротивление |
де |
|||||||||
звук и комплексообразователи. Изделия сушат |
ионизованной воды. |
|
|
|||||||||||
чаще всего в вакуумных термостатах и термо |
Очистка собранных ножек на установке |
|||||||||||||
статах с газовой средой. Температура сушки |
производится |
в |
следующей |
технологической |
||||||||||
переходов обычно ниже температуры плавле |
последовательности: а) травление в кипящей |
|||||||||||||
ния сплава. Германиевые и индиевые перехо |
перекиси водорода; б) промывка горячей |
|||||||||||||
ды |
сушат |
при |
температуре |
120—140° С, |
деионизованной водой; в) промывка холодной |
|||||||||
кремниевые |
переходы — при |
температуре |
деионизованной |
водой в вибрационных |
про |
|||||||||
250° С. |
|
|
|
|
|
|
|
мывочных ваннах с контролем качества про |
||||||
Время |
сушки |
германиевых |
переходов — |
мывки. |
|
|
|
|
|
|||||
2—4 ч, кремниевых— 1—2 ч. Очищенные |
Кассеты с ножками загружаются, перено |
|||||||||||||
осушенные переходы чувствительны к воздей |
сятся и выгружаются вручную. Продолжи |
|||||||||||||
ствию окружающей |
среды. |
Поэтому |
после |
тельность |
каждой операции |
задается |
реле |
Вид сзади
Рис. 7-1. Установка химического травления и промывки германиевых переходов.
66
времени. Контроль качества промывки в фи нишных ваннах осуществляется косвенным путем по удельному сопротивлению выходящей воды.
На рис. 7-2 представлена схема установки химического травления сплавных кремниевых /;-л-переходов в специальных кислотных травителях (смесь азотной и плавиковой кислот) и финишной промывки в высокоомной деиони зованной воде с применением ультразвуковых колебаний.
Установка снабжена двумя рабочими ван нами: одна предназначена для травления и предварительной промывки, другая — для фи нишной промывки с применением ультразвука.
В ванну травления 18 устанавливают три кассеты 19, в каждой из которых от 50 до 150 переходов в зависимости от их типа и раз мера. Травитель непрерывно поступает в ван ну самотеком через клапан 1 и переливается через края ванны. Отработанный травитель сливается через клапан 15 в съемный бак 14.
В процессе травления ванна герметично закрыта крышкой. Пары травителя из ванны уносятся в вытяжную систему вместе с азотом, поступающим при избыточном давлении. Стро гая дозировка травителя обеспечивается кла
паном, который приводится в действие элек тромагнитами 4. Длительность травления регулируется до 180 сек с точностью ±0,5 сек. Травитель в установку поступает из бака 1, емкость которого рассчитана на работу без дополнительной заправки в течение смены. Перекачка травителя в верхний бак произво дится диафрагменным насосом 16.
Через клапаны 17 и 2 подается холодная и горячая деионизованная вода для предвари тельной промывки переходов. После промывки холодной водой клапан 17 закрывается, вклю чается нагреватель воды 3 и начинается цикл промывки горячей деионизованной водой. Температура нагрева 60—70° С поддерживает ся постоянной.
По окончании промывки горячей водой на греватель автоматически выключается и про изводится вторая промывка холодной водой. На этом цикл травления и предварительной промывки заканчивается. Кассеты перегружа ются на второе рабочее место для финишной промывки высокоомной деионизованной водой.
Бак 13 периодически из магистрали запол няется деионизованной водой. Диафрагмен ным насосом 12 вода подается из бака в блок колонок 11с катионитовой и анионитовой смо-
Рис. 7-5 Установка электрохимического травления пе реходов.
мальтийский крест 5, вал 21 и карусель 1 с шестернями 2 и 3 на одну позицию. После этого кулачок 7 опускает карусель 1, а кула чок 20 через микровыключатель выключает электродвигатель. Вращение кассет и их воз вратно-поступательное движение (за счет вращения выступа шпинделя в пазу втулки карусели) осуществляются на всех позициях, но только в нижнем положении карусели.
Движение на шпиндели 4 с кассетами пе редается от другого двигателя через муфту 14, червячную пару 15 и 16 (шестернями 17 и 18), вал 21 и шестерни 2 и 3. После окончания цикла травления и промывки реле времени включает электродвигатель для переноса кас сет на следующие позиции.
На рис. 7-5 показана установка электро литического травления переходов на ножках
германиевых триодов типа П13—П16. Травле ние переходов осуществляется в следующей последовательности. Ножки, собранные по 10 шт., загружаются в кассету, которая уста навливается на контакты ванны, заполненной электролитом. Нажатием педали включается система подачи импульсов тока заданной ве личины и продолжительности. Травление проходит автоматически по заданному ре жиму.
После окончания процесса травления кас сета с ножками переносится вручную на позицию струйной промывки деионизованной водой, после чего поступает в ванну-накопи тель с проточной деионизованной подои.
На верхней плите стола 1 установлены пульт управления 5, трехсекцнонная ванна 2 и вытяжной шкаф 4. Система трубопроводов 6 размещена в нижней части стола. Ванна травления 3 изготовлена из органического стекла и размещена в левом отсеке трехсек ционной ванны под вытяжным шкафом 4. Электролит поступает в ванну травления из полиэтиленового бака по резиновому шлангу. Расход электролита регулируется с помощью пробкового крана. Сливается электролит в дренажную трубу 14.
На позиции струйной промывки вода выхо дит веерообразной струей из четырех сопл 11- С помощью вентилей 7, 8 и 9 трубопроводы деионизованной воды перекрываются. Педаль 13 включает систему подачи импульсов тока при травлении, а педаль 12 —электромагнит 10, подающий воду на струйную промывку.
Травление на установке может произво диться в трех, режимах: раздельное травление переходов, совместное травление переходов в импульсном режиме и совместное травление на постоянном токе. Промывка — автоматиче ская и полуавтоматическая.
Совместно с установкой электролитическо го травления работает установка промывки и сушки переходов (рис. 7-6). После травле ния ножки триодов подаются на промывку