Добавил:
Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:

книги / Оборудование для производства полупроводниковых диодов и триодов

..pdf
Скачиваний:
3
Добавлен:
12.11.2023
Размер:
13.07 Mб
Скачать

1 г

Вид Л

Рнс. 6-8. Устройство рабочих зон диффузионной печи.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

диффузии в кремний донорных и акцепторных

На муфеле

камеры

3 смонтирован

трех­

примесей при ампульной технологии или

секционный нагреватель—спираль с выводами

в протоке газоносителя. На передней стенке 1

от каждой

секции.

Крайние

секции

спирали

основания 2 расположена панель управления.

являются

активными

теплоизоляторамн

цен­

На основании смонтированы две нагреватель­

тральной секции. Нагреватель позволяет полу­

ные камеры 3 и 4.

чить в рабочей

зоне

на длине 400 мм темпе­

 

 

 

ратуру

1 200—1 300° С

при

 

 

 

разбросе ±0,5°С.

защищен

 

 

 

 

Нагреватель

 

 

 

футеровкой 1 (рнс. 6-8). Пе­

 

 

 

ред

сборкой

печи

обмазка

 

 

 

нагревателя

 

не обжигается.

 

 

 

В ней делаются три отвер­

 

 

 

стия 2

для

 

ввода

термо­

 

 

 

пар

3,

которые

проходят

 

 

 

между

витками

спирали

и

 

 

 

спаем

касаются

муфеля

4.

 

 

 

В

 

керамический

муфель

4

 

 

 

вставляется

 

кварцевая

тру­

 

 

 

ба,

в

которой

проводится

 

 

 

диффузия. Внутренний

диа­

 

 

 

метр муфеля 70 мм. При

 

 

 

вертикальной установке уве­

 

 

 

личивается

надежность кон­

 

 

 

тактирования

спая

термо­

 

 

 

пар с поверхностью

муфеля.

 

 

 

Термопары

касаются муфе­

 

 

 

ля

4 в трех точках. В каж­

 

 

 

дой

точке

 

устанавливают

 

 

 

две термопары.

 

Тл

и

 

 

 

 

Две

термопары

 

 

 

Те (рис. 6-9) крайних

сек­

 

 

 

ций

соединены

последова­

 

 

 

тельно

и

подключены

к

 

 

 

прибору,

показывающему

 

 

 

температуру

 

муфеля.

Эти

 

 

 

термопары

дают

сигнал

на

 

 

 

отключение

 

нагревателей

 

 

 

при

температуре

в

зо-

°Скг

О

200

Ш

ООО

000мм

Рис. 6-10. Температурная характеристи­

ка рабочей зоны.

 

 

 

не свыше 1300° С. Термопара

Т;„ помешенная

в центре муфеля, подключена к программато­ ру ПР, а через него — к нуль-индикатору ПР-1 центра зоны. Остальные три термопары под­ ключены к нуль-индикаторам ПР-2 и ПР-3 края зоны. Термопары соединены таким обра­ зом, что на приборы поступает сигнал, равный алгебраической сумме сигналов центра и края зоны. Задатчики краевых нуль-индикаторов при работе сдвигаются в сторону увеличения температуры, что вносит разбаланс в систему терморегулирования; температура крайних секций поднимается до заданного значения. Соответствующая температурная характери­ стика показана на рис. 6-10.

Регулятор температуры диффузионной пе­ чи представляет собой автоматическую систе­ му с отрицательной обратной связью, в кото­ рую входят приборы ПР-1, ПР-2 и ПР-3 (ре­ гулирующие милливольтметры класса точно­ сти 0,5).

На задатчике прибора установлено фотосо­ противление, которое включено в плечо вход­ ного моста усилителя. Изменение температуры в муфеле вызывает отклонение стрелки прибо­ ра, что вызывает разбаланс моста.

Сигнал рассогласования поступает через контакты электромеханического вибратора на 4-каскадный усилитель. Вибропреобразова­ тель переводит сигнал постояного тока в им­ пульсы разной полярности. Затем усиленный сигнал переменного тока вновь выпрямляется и подается на управляющий электрод крем­ ниевого управляемого вентиля (КУВ).

Рис. 6-11. Схема управ­ ления рабочим током.

Рис. 6-12. Диаграммы рабочего / Р и управляющего / упр. токов КУВ.

а — напряжение

сети; б — импульсы

управляющего

тока пр»л

сдвиге по фазе

фи в — рабочий ток при сдвиге

по фазе

фг. г

импульсы управляющего тока при

сдвиге по

фазе

на

ф2>фг»

д— рабочий ток при сдвиге фазы ф2.

 

 

 

Для управления рабочим током в оба полупериода используется схема с двумя КУВ,. включенными встречно-параллельно (рис. 6-11). Импульсы, подаваемые на управляю­ щий электрод КУВ, генерируются в блоке уп­ равления. В зависимости от величины входно­ го сигнала блок генерирует импульсы, сдви­ нутые по фазе относительно входного напря­ жения, поэтому и КУВ пропускает ток лишь в течение некоторого времени положительного-

полупериода,

благодаря чему

эффективное

значение тока,

а следовательно,

и мощность

в цепи нагревателя меняются. На

рис. 6-12 по­

казаны временные диаграммы рабочего и уп­ равляющего токов КУВ.

Нагреватель низкотемпературной зоны представляет собой нихромовую спираль, со­ стоящую из трех секций. На панели печи уста­ новлено два прибора низкотемпературной зо­ ны: нуль-индикаторы ПР-4 и прибор ПР-5 (см. рис. 6-9), показывающий истинную температу­ ру в зоне. Две хромель-копелевые термопары контролируют температуру в центральной и боковой секциях. Температура третьей секции не контролируется.

Последовательность процесса и его пара­ метры задаются программатором. С его по­ мощью можно задать программы ведения про­ цесса диффузии (рис. 6-13). Во всех случаях

 

 

 

 

 

 

нагрев

 

и

охлаждение

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

могут

производиться

с

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

различными

градиен­

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

тами.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Широко

применяе­

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

мая

 

для

получения

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

р-л-переходов диффу-

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

зионая

 

печь

СДО-13

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

описана в гл. 8.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

6-4.

 

ОБОРУДОВАНИЕ

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

ДЛЯ

ПОЛУЧЕНИЯ

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

ШЛИФОВ

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

В

производстве по­

Рис. 6-14. Установка для

контроля глубины диффузии-..

 

 

 

 

 

 

лупроводниковых

при­

 

 

 

 

 

 

боров

шлифы

исполь-

дольное, ручка 1 — вертикальное) столик уста­

 

 

 

 

 

 

{ зуются в основном для

 

 

 

 

 

 

измерения

 

глубины

навливается на холодильник 4.

 

 

 

 

 

 

 

диффузионных

слоев.

Чтобы сократить время охлаждения, при­

 

 

 

 

 

 

Шлифы

могут

быть

меняют сухой лед. Оператор, который обслу­

 

 

 

 

 

 

прямые,

косые

и

сфе-

живает установку, помещает его под холодиль­

 

 

 

 

 

 

I.

 

 

 

 

 

 

 

 

ник. После охлаждения

пластина

подводится

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

рические. Косой шлиф

 

 

 

 

 

 

 

 

 

получают при

шлифо­

на уровень шарика, закрепленного на шпин­

 

 

 

 

 

 

вании пластины в при­

деле с помощью постоянного магнита, и крон­

Рис.

6-13.

Программы

способлении, обеспечи­

штейн 6

манипулятора

со столиком перево­

ведения

процесса

диффу­

вающем

снятие

слоев

дится в рабочее положение. В зависимости от

зии.

 

 

 

 

 

а нагрев—выдержка;

б

под небольшим накло­

исследуемой глубины диффузионного слоя на

нагрев—выдержка—охлажде­

ном

к

 

поверхности

с

шпинделе

закрепляют

шарик определенного

ние;

в — охлаждение —вы­

нанесенным

диффузан-

диаметра. На данной установке применяются

держка — охлаждение;

г

держание

 

установленного

том.

На

микроскопе

шарики диаметром 25, 20 и 10 мм. Вращение

выдержка—охлаждение—под­

 

 

 

 

 

 

 

 

 

шпинделя

осуществляется от электродвигате­

значения

температуры;

д —

МБС-1

измеряют гори­

выдержка — нагрев — под­

зонтальный катет, а на

ля ДР-15Д. Тумблер 12 включает привод. По­

держание

 

установленного

всех

случаях.

 

 

во

МИС-11

 

определяют

верхность

шарика

смачивается

абразивной,

значения

температуры

 

 

 

 

 

 

 

 

 

суспензией карбида кремния и воды при от­

ки.

Зная

эти

 

 

тангенс

угла

шлифов­

данные,

вычисляют

глубину

ношении твердой фазы к жидкой 1:3 и про­

диффузионного слоя.

глубину

диффузионного

исходит процесс локальной шлифовки пла­

Наиболее

точно

стины.

 

 

 

 

слоя можно определить методом так называе­

При необходимости увеличения рабочего-

мого сферического шлифа. В случае косого

усилия на пластину устанавливаются грузы 8.

шлифа на результат измерения влияют по­

Число оборотов электродвигателя, а заодно и

грешности измерения катета и угла а. При

шарика регулируется в пределах 0—150об/мин

сферическом шлифе измеряется только одна

поворотом ручки потенциометра 13; число обо­

величина — хорда

сферы.

Зная

диаметр

ша­

ротов шарика контролируется по

счетчику 7.

рика и длину хорды, определяют глубину диф­

 

 

 

 

 

фузионного слоя.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

6-5. ОБОРУДОВАНИЕ ДЛЯ ЭПИТАКСИАЛЬНОГО

Малогабаритная установка настольного ти­ па для контроля глубины диффузии до 0,3 мм показана на рис. 6-14. С помощью манипу­ лятора 5 столик кронштейна 6 устанавливает­ ся на малогабаритную электроплитку 3, после чего включается тумблер нагрева 11; затем оператор наносит слой воска на поверхность столика, укладывает пластину 9 и легким на­ жимом выдавливает излишки воска. С по­ мощью поворота ручек манипулятора (ручка 2 — поперечное перемещение, ручка 10 — про­

НАРАЩИВАНИЯ

Процессы эпитаксиального наращивания из газовой фазы можно разделить на четыре типа по характеру реакций:

а) восстановление паров какого-либо со­ единения водородом при высоких температу­ рах (например, 81СЦ при />1 100° С) ;

б) крекинг (термическое разложение) па­ ров соединения (например, ОеЩ и 81Н4 при 1 ~ 1 100° С);

Выход парогазовой

Выход

Рис. 6-15. Схема установки для эпитаксиального нара­ щивания.

в) газотранспортные реакции

(например,

 

 

 

 

 

 

перенос германия с помощью иода);

 

 

 

 

 

 

г) возгонка

в вакууме при высоких темпе­

 

 

 

 

 

 

ратурах.

 

 

 

 

 

 

Рис. 6-16. Газовая схема пульта установки эпитаксиаль­

Характер используемых реакций определя­

ного наращивания.

 

 

 

подаваемых

ет конструктивные особенности

оборудования

Л —Ръ— редукторы для регулирования давления

газовых реагентэл; К1—К10 ротаметры

десяти каналов;

для эпитаксиального наращивания.

В|—Вю — вентили

управления

газовыми каналами;

С|—С10 — со­

Установку

для

эпитаксиального наращи­

леноидные клапаны; П\—Пь— термостатированные

питатели.

вания по исполнению можно разделить сле­

 

 

 

 

 

 

дующим образом:

нагрева

(высокочастотны"

В шкафу управления размещены напело,

а) по способу

блок 3 испарителей 81СЦ с термостатами, обе­

резистивный, радиационный);

(вертикальны"

спечивающими постоянство температуры испа­

б) по геометрии

реактора

рения, система распределения парогазовых по­

горизонтальный);

подачи

парогазовой смеси

токов 4. На панели управления имеются ре­

в) по способу

гулятор выходной мощности ВЧ генератора и

к подложкам

(параллельный,

последователь­

программатор.

расположены

реактор о

ный) ;

 

 

 

 

 

 

На рабочем столе

г) по расположению индуктора (вне реак­

с боксом загрузки-выгрузки, представляющий

тора, внутри реактора).

 

 

 

собой подвижную камеру, продуваемую азо­

Ниже описывается промышленная установ­

том; приборы 7 регистрации температуры и

ка для наращивания

эпитаксиальных пленок

скруббер 8 дожигания отходящих газов.

с использованием реакции восстановления па­

Реактор

представляет

собой кварцевую

ров 51СЦ водородом

при

температурах выше

трубу с двойными стенками. Он установлен на

1 100° С. Парогазовая смесь ЗЮЦ и Нг с до­

столе на У-образных подставках в горизон­

бавкой необходимых

примесей

пропускается

тальном положении и вставлен в высокоча­

через горизонтальную кварцевую трубу-реак­

стотный индуктор.

 

 

 

 

тор, в которой последовательно расположены

Газы из шкафа управления подаются в ре­

восемь кремниевых

пластин.

Продолжитель­

актор по фторопластовой трубке 5. Выходя­

ность процесса наращивания около 5 ч.

щие из реактора газы по полиэтиленовой

Основными узлами установки (рис. 6-15)

трубке 9 поступают к горелке скруббера, где

являются высокочастотная печь /, шкаф 2, ра­

сжигаются.

 

 

 

 

 

бочий стол (на рисунке не показан). Высоко­

Парогазовая смесь проходит над кремние­

частотная печь состоит из ВЧ генератора (вы­

выми пластинами последовательно, расход во­

ходная мощность 25 кет) и индуктора, изго­

дорода 4—6 м3/ч. Газораспределительная си­

товленного из медной трубки.

 

 

стема (рис. 6-16) универсального типа имеет

Для каждого типа технологического про­

десять независимых

каналов.

Конструкцией

цесса подбирается свой индуктор.

 

предусмотрены канал

для

газового травления

ОБОРУДОВАНИЕ ДЛЯ ОЧИСТКИ И ЗАЩИТЫ ПЕРЕХОДОВ

 

 

7-1. ОБЩИЕ СВЕДЕНИЯ

 

 

 

сушки поверхность переходов защищается, для

 

 

 

 

 

 

 

 

 

чего применяются лакирование, окисление, си-

В

процессе изготовления

полупроводнико­

ланирование, защита легкоплавкими стеклами.

вых приборов в области перехода создается

 

 

 

 

 

 

«отравленный»

слой, который ухудшает элек­

7-2. ОБОРУДОВАНИЕ ДЛЯ ТРАВЛЕНИЯ

 

трофизические

параметры

приборов.

Чтобы

 

И ПРОМЫВКИ ПЕРЕХОДОВ

 

 

выявить истинные свойства прибора, необхо­

 

 

 

 

 

 

 

 

димо удалить с поверхности перехода «отрав­

Установка УТ-2 (рис. 7-1) предназначена)

ленный» слой с адсорбированными в нем при­

для химического травления германиевых по­

месями. Для этой цели применяют травление

лупроводниковых переходов в перекиси водо­

переходов. Однако после травления поверх­

рода с последующей промывкой в деионизо­

ность

содержит

загрязнения — адсорбирован­

ванной воде. Установка снабжена двумя

ные из травителя примеси и частицы самого

ваннами травления 1, двумя ваннами финиш­

травителя. Очистка поверхности от этих за­

ной промывки 2, двумя нагревателями деиони­

грязнений осуществляется промывкой в деио­

зованной воды 3 и нагревателем перекиси

низованной

воде

с

сушкой.

Для

повышения

водорода 4.

На

верхней панели расположены

эффективности

отмывки применяют

ультра­

приборы,

контролирующие сопротивление

де­

звук и комплексообразователи. Изделия сушат

ионизованной воды.

 

 

чаще всего в вакуумных термостатах и термо­

Очистка собранных ножек на установке

статах с газовой средой. Температура сушки

производится

в

следующей

технологической

переходов обычно ниже температуры плавле­

последовательности: а) травление в кипящей

ния сплава. Германиевые и индиевые перехо­

перекиси водорода; б) промывка горячей

ды

сушат

при

температуре

120—140° С,

деионизованной водой; в) промывка холодной

кремниевые

переходы — при

температуре

деионизованной

водой в вибрационных

про­

250° С.

 

 

 

 

 

 

 

мывочных ваннах с контролем качества про­

Время

сушки

германиевых

переходов —

мывки.

 

 

 

 

 

2—4 ч, кремниевых— 1—2 ч. Очищенные

Кассеты с ножками загружаются, перено­

осушенные переходы чувствительны к воздей­

сятся и выгружаются вручную. Продолжи­

ствию окружающей

среды.

Поэтому

после

тельность

каждой операции

задается

реле

Вид сзади

Рис. 7-1. Установка химического травления и промывки германиевых переходов.

66

времени. Контроль качества промывки в фи­ нишных ваннах осуществляется косвенным путем по удельному сопротивлению выходящей воды.

На рис. 7-2 представлена схема установки химического травления сплавных кремниевых /;-л-переходов в специальных кислотных травителях (смесь азотной и плавиковой кислот) и финишной промывки в высокоомной деиони­ зованной воде с применением ультразвуковых колебаний.

Установка снабжена двумя рабочими ван­ нами: одна предназначена для травления и предварительной промывки, другая — для фи­ нишной промывки с применением ультразвука.

В ванну травления 18 устанавливают три кассеты 19, в каждой из которых от 50 до 150 переходов в зависимости от их типа и раз­ мера. Травитель непрерывно поступает в ван­ ну самотеком через клапан 1 и переливается через края ванны. Отработанный травитель сливается через клапан 15 в съемный бак 14.

В процессе травления ванна герметично закрыта крышкой. Пары травителя из ванны уносятся в вытяжную систему вместе с азотом, поступающим при избыточном давлении. Стро­ гая дозировка травителя обеспечивается кла­

паном, который приводится в действие элек­ тромагнитами 4. Длительность травления регулируется до 180 сек с точностью ±0,5 сек. Травитель в установку поступает из бака 1, емкость которого рассчитана на работу без дополнительной заправки в течение смены. Перекачка травителя в верхний бак произво­ дится диафрагменным насосом 16.

Через клапаны 17 и 2 подается холодная и горячая деионизованная вода для предвари­ тельной промывки переходов. После промывки холодной водой клапан 17 закрывается, вклю­ чается нагреватель воды 3 и начинается цикл промывки горячей деионизованной водой. Температура нагрева 60—70° С поддерживает­ ся постоянной.

По окончании промывки горячей водой на­ греватель автоматически выключается и про­ изводится вторая промывка холодной водой. На этом цикл травления и предварительной промывки заканчивается. Кассеты перегружа­ ются на второе рабочее место для финишной промывки высокоомной деионизованной водой.

Бак 13 периодически из магистрали запол­ няется деионизованной водой. Диафрагмен­ ным насосом 12 вода подается из бака в блок колонок 11с катионитовой и анионитовой смо-

Рис. 7-5 Установка электрохимического травления пе­ реходов.

мальтийский крест 5, вал 21 и карусель 1 с шестернями 2 и 3 на одну позицию. После этого кулачок 7 опускает карусель 1, а кула­ чок 20 через микровыключатель выключает электродвигатель. Вращение кассет и их воз­ вратно-поступательное движение (за счет вращения выступа шпинделя в пазу втулки карусели) осуществляются на всех позициях, но только в нижнем положении карусели.

Движение на шпиндели 4 с кассетами пе­ редается от другого двигателя через муфту 14, червячную пару 15 и 16 (шестернями 17 и 18), вал 21 и шестерни 2 и 3. После окончания цикла травления и промывки реле времени включает электродвигатель для переноса кас­ сет на следующие позиции.

На рис. 7-5 показана установка электро­ литического травления переходов на ножках

германиевых триодов типа П13—П16. Травле­ ние переходов осуществляется в следующей последовательности. Ножки, собранные по 10 шт., загружаются в кассету, которая уста­ навливается на контакты ванны, заполненной электролитом. Нажатием педали включается система подачи импульсов тока заданной ве­ личины и продолжительности. Травление проходит автоматически по заданному ре­ жиму.

После окончания процесса травления кас­ сета с ножками переносится вручную на позицию струйной промывки деионизованной водой, после чего поступает в ванну-накопи­ тель с проточной деионизованной подои.

На верхней плите стола 1 установлены пульт управления 5, трехсекцнонная ванна 2 и вытяжной шкаф 4. Система трубопроводов 6 размещена в нижней части стола. Ванна травления 3 изготовлена из органического стекла и размещена в левом отсеке трехсек­ ционной ванны под вытяжным шкафом 4. Электролит поступает в ванну травления из полиэтиленового бака по резиновому шлангу. Расход электролита регулируется с помощью пробкового крана. Сливается электролит в дренажную трубу 14.

На позиции струйной промывки вода выхо­ дит веерообразной струей из четырех сопл 11- С помощью вентилей 7, 8 и 9 трубопроводы деионизованной воды перекрываются. Педаль 13 включает систему подачи импульсов тока при травлении, а педаль 12 —электромагнит 10, подающий воду на струйную промывку.

Травление на установке может произво­ диться в трех, режимах: раздельное травление переходов, совместное травление переходов в импульсном режиме и совместное травление на постоянном токе. Промывка — автоматиче­ ская и полуавтоматическая.

Совместно с установкой электролитическо­ го травления работает установка промывки и сушки переходов (рис. 7-6). После травле­ ния ножки триодов подаются на промывку