Добавил:
Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:

книги / Нанодисперсные и гранулированные материалы, полученные в импульсной плазме

..pdf
Скачиваний:
2
Добавлен:
19.11.2023
Размер:
29.29 Mб
Скачать

дов свидетельствуют о более значительном их обезуглероживании при металли­ зации, чем при плазменной обработке с целью сфероидизации.

Например, степень обезуглероживания для порошка карбида титана может достигать 20 % масс. Снизить ее при металлизации можно исключением опера­ ции предварительной сфероидизации и увеличением концентрации никеля в обрабатываемой шихте. В случае обработки карбида вольфрама, содержащего в исходном состоянии фазу монокарбида и следы полукарбида W2C, в металлизи­ рованном порошке содержание последнего увеличивается, т.е. происходит обеднение порошка углеродом. Для карбида хрома, содержащего в исходном состоянии преимущественно фазу Сг3С2 с примесью Сг7С3, в металлизирован­ ном порошке количество фазы Сг7С3 становится сравнимым с Сг3С2; кроме то­ го, здесь появляется Сг20 3. Это обусловлено увеличением содержания в порош­ ке после металлизации легкоокисляющейся фазы Сг7С3.

С этой же проблемой столкнулись и авторы работ по металлизации дисперс­ ных карбидов с использованием импульсной плазмы высоковольтного конден­ саторного разряда, воздействующей на фонтанирующий слой из частиц карби­ да (WC, TÎC) и металла (Ni, Со) [1.65].

Кратковременность импульса разрядного тока, генерируемого разрядным контуром установки, обеспечивает высокое значение импульсной мощности, достаточной для поверхностного расплавления керамических частиц (TiC, WC) дисперсностью 30...60 мкм и частичной сублимации, либо полного расплавле­ ния металлических частиц дисперсностью <10 мкм. В промежутках между им­ пульсами за счет межфазного взаимодействия расплавленного металла с кера­ микой осуществляется плакирование керамической фазы. Формирование пла­ кирующего металлического слоя происходит и за счет конденсации на керами­ ческих частицах испарившегося в импульсной плазме металла. Степень метал­ лизации керамики в этом способе составляет 80 % и зависит от продолжитель­ ности процесса и мощности импульсной дуги.

При металлизации карбида вольфрама в продукте плазменной обработки появляется полукарбид W2C, содержание которого увеличивается с увеличени­ ем энергии импульсного разряда и продолжительности металлизации карбида. Обезуглероживание карбидной керамики в этом способе связано с возможным многократным воздействием импульса плазмы на обрабатываемый порошок, находящийся в состоянии псевдоожижения. Содержание полукарбида вольф­ рама здесь может достигать ~ 30 % масс, (длительность плазменной обработки 30 мин; плазмообразующий газ —аргон; энергия разряда ~ 100 Дж). Введение в состав плазмообразующих газов метана снижает содержание W2C до ~ 20 % масс.

Кроме того, при таком способе металлизации существуют ограничения раз­ меров частиц исходной шихты условиями существования устойчивого фонта­ нирующего слоя. Для большинства керамических порошков (WC, TiC, А120 3,

Zr02) этот размер составляет около 25...30 мкм и более. Оптимальный же раз­ мер частиц напыляемого газотермическими методами порошка должен состав­ лять, мкм: А120 3 20...30; Zr02 10...15; WC 10...20; TiC 10...15 [4.33].

Таким образом, приведенные выше результаты исследований металлизации дисперсных материалов с использованием ВПЭ показали, что с учетом необхо­ димости равномерного воздействия на поверхность каждой из всей совокуп­ ности обрабатываемых частиц наиболее технологичной и эффективной являет­ ся поверхностная обработка порошков в низкотемпературной плазме. Измене­ ния, происходящие в порошке в результате такой обработки, в первую очередь обусловлены термическим воздействием плазмы. При обработке порошков в плазме дугового и ВЧ-разрядов такое воздействие может распространиться на значительные объемы материала ввиду относительно длительного пребывания частиц в высокотемпературной зоне плазменного реактора. Это приводит в ря­ де случаев к нежелательным изменениям химического состава металлизируе­ мых керамических частиц.

В связи с этим интересные результаты можно ожидать в случае применения для модифицирующей обработки импульсной плазмы конденсаторного разря­ да, сочетающей высокую интенсивность теплового воздействия с его малой длительностью. Это позволит локализовать взаимодействие с плазмой в тонких поверхностных слоях частиц наряду с возможностью регулирования его (взаи­ модействия) масштабов.

Однако применение способа обработки кипящих слоев керамических час­ тиц для металлизации в импульсной плазме не всегда эффективно. Более пер­ спективным, по-видимому, следует считать способ, основанный на обработке газодисперсных потоков. В работах [1.65,1.82] описаны результаты исследова­ ний по модифицированию частиц керамики (TiC, WC, А120 3) и алмаза при об­ работке газодисперсных потоков, содержащих частицы этих веществ, подавае­ мые в разрядный промежуток импульсного плазменного генератора по схеме, описанной выше (гл. 1). Дополнительным компонентом, вводимым в поток, были пары соответствующих элементосодержащих веществ. Их разложение под воздействием импульса плазмы и последующая конденсация элементов на по­ верхности частиц обеспечивали поверхностное легирование порошков. В каче­ стве элементосодержащих веществ, которые вводились в газодисперсный по­ ток на входе его в плазменный импульсный реактор, использовались СоС12, ацетилацетонат никеля и ВВг3. Содержание Со, Ni и В на поверхности обрабо­ танных частиц при такой схеме процесса не превышало нескольких процентов. Для достижения этого результата требовалось неоднократное пропускание ис­ ходной шихты через импульсный разряд.

Поэтому более эффективным является разработанный с участием авторов способ металлизации дисперсных части, расширяющий гранулометрический

состав металлизируемых порошков в область размеров < 30 мкм и дающий воз­ можность предотвратить заметное изменение фазового состава обрабатывае­ мых в плазме порошков. Сущность способа состоит в следующем.

Газодисперсный поток, представляющий собой струю плазмообразующего га­ за —аргона с распределенными в ней частицами керамики и металлизирующим компонентом, подается в импульсный плазмохимический реактор (см. рис. 1.10) через полый электрод непосредственно в зону формирования разряда.

При выделении в канале импульсного разряда энергии образуется импульс­ ная плазма, воздействующая на компоненты газодисперсного потока. Под тер­ мическим воздействием ее происходят нагрев, расплавление и испарение дис­ персной фазы [4.17, 4.34, 4.35].

Режимы обработки исходных смесей порошков: (А120 3, Z r02) — Ni; (НС, Сг3С2, В4С) —Ni; WC—Со могут быть определены с помощью математического моделирования термического воздействия импульсной плазмы на дисперсные материалы (гл. 2). Так, при энергии единичного импульса ~ 400 Дж во время разряда происходит полное расплавление и испарение частиц металла размером 10... 15 мкм и оплавление поверхности частиц керамики размером 30...60 мкм.

В указанных работах использовался карбонильный никель, гранулометри­ ческий состав которого соответствовал нормам ГОСТ 9722—79 (размер частиц < КГ5 м) и порошок металлического кобальта марки ПК-1, соответствующий ГОСТ 9797—79. Классификация металлических порошков для выделения фрак­ ции < ДО-5 м проводилась на зигзагообразном воздушном классификаторе мар­ ки MZR 100 (Германия) с пределом разделения порошков от 10-6 до 10~4 м. Классификация керамических порошков производилась на виброгрохоте фир­ мы Frich (Германия), дающем возможность разделить порошки размером от 2-10“5 м с шагом 5Ю _6 м.

Металлизация дисперсной керамики с использованием импульсной плазмы связана с межфазным взаимодействием в многофазной системе, которая фор­ мируется за время воздействия импульса плазмы (~ 10-4 с) на газодисперсный поток. Она состоит из нагретых и имеющих жидкий поверхностный слой частиц керамики, полностью расплавленных частиц металла и металлического пара.

Металлизация керамических частиц происходит в промежутке между им­ пульсами по двум каналам: 1) за счет межфазного взаимодействия расплавлен­ ных частиц металла с керамикой при их столкновении; 2) за счет конденсации на поверхности керамических частиц той части металлической составляющей шихты, которая перешла в паровую фазу под воздействием импульса плазмы. При этом керамические частицы, находящиеся в газодисперсном потоке, под­ вергаемом плазменному воздействию, являются готовыми центрами гетероген­ ной конденсации, что делает менее вероятным гомогенную конденсацию с вы­ делением металла в объеме.

т

Оценку эффективности металлизации частиц можно провести с использова­ нием метода магнитной сепарации на сепараторе УСМ-1Т по количеству при­ тягиваемых к магниту частиц из общей массы порошка. Изменение величины поверхностного магнитного поля в сепараторе обеспечивает притяжение час­ тиц, имеющих в своем составе разное количество металлической компоненты. Это дает возможность с использованием гистограмм выхода магнитных частиц судить о равномерности распределения металлической компоненты в обрабо­ танных частицах.

Проведенные для оценки правильности представленного механизма процес­ са исследования по металлизации узких фракций порошков при разных конце­ нтрациях никеля в исходной шихте подтвердили предположения о влиянии числа центров конденсации и концентрации никеля в паровой фазе на эффек­ тивность металлизации. Выход магнитных частиц с увеличением дисперсности обрабатываемого порошка возрастает. Аналогичное влияние оказывает повы­ шение концентрации металла в исходной шихте (рис. 4.13).

Рис. 4.13. Зависимость выхода магнитных частиц от содержания никеля в исходной шихте при разной дисперсности оксида алюминия; диаметр частиц АДОз, мкм: 1—100; 2 - 70; 3 —40

Металлографическое исследование порошка показало, что основная масса мелких фракций А120 3 приобрела сферическую форму, в то время как значитель­ ное количество частиц крупных фракций сохранили первоначальную форму. Исследование гранулометрического состава порошков до и после металлизации в импульсной плазме показывает существенное отличие его от гранулометри­ ческого состава порошков, подвергнутых модифицирующей обработке без ме­ таллизации (рис. 4.14). Видно, что плазменная обработка А120 3 при отсутствии никеля в составе исходной шихты вызывает большее измельчение материала. Измельчение может быть вызвано как разрушением частиц А120 3 из-за возник­ ших при нагреве высоких термических напряжений, так и переходом частиц ма­ териала в паровую фазу с последующей конденсацией в виде ультрадисперсного порошка. Присутствие никеля в плазменной струе, по-видимому, может привес­ ти: 1) к изменению условий формирования импульсной дуги по сравнению с га­ зодисперсным потоком, состоящим только из непроводящих частиц; 2) к сни­ жению температуры струи за счет значительного расхода ее тепловой энергии на нагрев и испарение металла. Все это наряду с присутствием никеля на частицах оксида алюминия, по-видимому, влияет на оба возможных механизма процесса

т , %

Рис. 4.14. Гранулометрический состав порошка оксида алюминия: 1 исходный оксид; 2 —сферо- идизированный в плазме аргона; 3 —металлизированный в плазме аргона —массовая доля частиц)

Рис. 4.16. Зависимость выхода магнитных частиц в продукте плазменной металлизации от числа цик­ лов импульсной плазменной обработки: 1 —В4 С + Ni; 2 СГ3С2 + Ni; 3 ,4 TiC + Ni; 5 —A12 0 3 + Ni; 6—Z r0 2 + Ni; 1—3 ,5 ,6 размер частиц никеля < 10 мкм; 4 10...20 мкм

Оценка толщины этого слоя, проведенная методом Оже-спектроскопии, с послойным стравливанием материала показала, что на поверхности металлизи­ рованных частиц в спектрах Оже-элекгронов (рис. 4.18) интенсивность линий, относящихся к алюминию оксида, чрезвычайно мала или они отсутствуют.

По мере травления поверхности частицы интенсивность линий Оже-элект- ронов алюминия возрастает и уменьшается интенсивность линий Оже-элект- ронов никеля. При стравливании слоя толщиной 4...6 нм линии никеля в спект­ рах Оже-электронов отсутствуют полностью. Формирование этого слоя метал­ ла на частицах происходит, по-видимому, за счет конденсации металлической составляющей исходной шихты, перешедшей в пар. Степень металлизации в этих системах за один цикл плазменной обработки снижается примерно до 70 % (см. рис. 4.16).

Рис. 4.18. Оже-спектры участка поверхности металлизированной частицы оксида алюминия: а — до ионного травления; б —после ионного травления

Рентгеновский и химический анализ не показал существенных изменений фазового и химического состава керамической компоненты получаемых ком­ позиций керамика—металл в ходе импульсной плазменной обработки. Так, со­ держание связанного углерода в карбиде титана изменялось мало (с 19,03 до 18,99 % масс.). В металлизированном карбиде вольфрама содержание W2C не превышало 1...2 % масс. У карбида хрома содержание связанного углерода из­ менялось с 12,49 до 12,4 % масс. Эти изменения существенно ниже, чем при об­ работке карбидов с целью металлизации в дуговых плазмотронах [4.30]. Карбид никеля и интерметаллиды в металлизированном продукте не обнаружены.

Химический анализ металлизированных порошков свидетельствует о некото­ ром обеднении при металлизации получаемого дисперсного кермета по металли­ ческой компоненте по сравнению с ее содержанием в исходной шихте. Например,

т