Добавил:
Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:

книги / Переработка нефтяных и природных газов

..pdf
Скачиваний:
10
Добавлен:
19.11.2023
Размер:
47.13 Mб
Скачать

этиленгликоля по отношению к различным веществам возрастает

следующим

образом:

С,НГ < С02 < С3Н8 < С4Н10 < COS <

< С5Н12 <

H2S < CH3SH

< CS2 < С7Н16 < Н20. Отсюда видно,

в частности, что ДМЭПЭГ наряду с кислыми компонентами хорошо растворяет углеводороды. Это ограничивает область применения процесса — без предварительного извлечения тяжелых угле­ водородов он может использоваться только для очистки сухих газов.

Растворитель ДМЭПЭГ обладает высокой селективностью и обеспечивает избирательное извлечение сероводорода в присут­ ствии С02. Указанная особенность имеет важное практическое значение, так как в этом случае, используя две ступени очистки, можно получить на первой ступени хорошее сырье для производ­ ства серы (кислые газы будут иметь высокую концентрацию H2S) и на второй ступени — хорошее сырье для производства товарного диоксида углерода. Поэтому процесс Селексол может оказаться достаточно эффективным при необходимости одновременного про­ изводства обоих продуктов. Эффективность процесса возрастает с увеличением рабочего давления и содержания сероводорода и С02 в исходном газе (при 15,6 °С и 6,9 МПа растворимость H2S в 9,6 раза выше, чем С02). Процесс Селексол обладает высокой гибкостью — содержание кислых компонентов может изменяться в исходном газе в широких пределах без ухудшения качества очистки. Расход абсорбента — примерно 1 м3 на 1000 м3 исходного сырого газа. При очистке газа по методу Селексол CS2 извлекается, как правило, не более 50%. Технологический режим процесса абсорбции на установках Селексол: температура колеблется на

Рис. I I I . 18.

Технологическая

схема процесса Селексол:

 

 

 

1 — абсорбер; 2 — регенератор I ступени; 3 — регенератор II ступени; 4

— теплообмен­

ник; 5 — паровой подогреватель; 6, 7 компрессоры

I — сырой газ;

I I

— очищенный

газ; / / /

— насыщенный абсорбент; I V

частично регенерированный

абсорбент; V

водяной

пар; VI

— регенерированный

абсорбент; V I I

кислые н другие газы на про­

изводство серы;

V I I I — газ регенерации на топливо.

 

 

 

JT

151

разных объектах от 10 до —15°С, давление поддерживается, как правило, в пределах 6,8—7 МПа.

Регенерация абсорбента при грубой очистке газа осуществля­ ется без подвода тепла путем многоступенчатого снижения давле­ ния в системе. При тонкой очистке газа (например, до содержания С 02 0,5% об. и менее) регенерацию осуществляют путем дроссели­ рования давления и подвода тепла, а в некоторых случаях — для обеспечения глубокой отпарки извлекаемых компонентов — в кубовую часть отпарной колонны подают воздух, природный или другой, инертный в данном случае газ. Энергию, которая получается при дросселировании раствора, используют для производства холода и привода насосов и компрессоров. Для реализации процесса Селексол требуются значительно меньшие эксплуатационные и капитальные затраты, чем для МЭА-про- цесса: эксплуатационные затраты снижаются на 30%, капиталь­ ны е— на 70%. Технологическая схема процесса Селексол при­ ведена на рис. III. 18.

Процесс Пуризол [18, 42, 59—67]. В качестве абсорбента ис­ пользуют N-метилпирролидон (NMP), который имеет следующие физико-химические свойства:

Температура, °С

275

Вязкость

при

20 °С, Па*с

1,87

кипения ........................

Давление

насыщенных па­

133,3

плавления ....................

24

ров при

40 °С, П а . . . .

Плотность при 20 °С, кг/м3

1000

Теплоемкость

при 20 °С,

 

Молекулярная масса . . .

99

кДж/(кг*К) .....................

1,67

N-метилпирролидон не токсичен, хорошо растворяет серо­ водород, С02, RSH и углеводороды, поглощает пары воды, не обладает коррозионным воздействием, химически стабилен, легко разлагается при биологической очистке сточных вод, характери­ зуется высокой селективностью и обеспечивает избирательное извлечение сероводорода в присутствии С 02 (при 20 °С и 0,1 МПа растворимость H2S в 10 раз выше, чем С02). При наличии в системе жидких углеводородов N-метилпирролидон может вспениваться. В связи с высоким давлением насыщенных паров N-метилпирроли- дона потери его при отсутствии специальных мер, могут достигать значительной величины; для снижения потерь NMP очищенный газ промывают на установках Пуризол водой.

Процесс разработан фирмой Лурги. Первая промышленная установка построена в ФРГ в 1963 г. для очистки природного газа от С02 и H2S (производительность по газу — 50 тыс. м3/ч, по сере — 4,2 т/ч). Пуризол-процесс используют для грубой и тонкой очистки сухих газов от H2S и С02 при различной их концентрации в исход­ ном сырье. В связи с высокой селективностью растворителя NMP кислые газы установок Пуризол имеют достаточно высокое соотно­ шение H2S : С02, поэтому их можно использовать для производства серы по методу Клауса. В зависимости от содержания С 02 и H2S и необходимой глубины очистки абсорбция кислых компонентов

152

зг

Рис. II 1.19.

Технологическая схема процесса Пуризол:

1 — абсорбер; 2 — холодильник; 3, 4, 5 — сепараторы высокого, среднего и низкого дав­

ления;

б, 7 — теплообменники; 8 ~ ^тпарная колонна. / — сырой газ; 11

— циркуля­

ционный газ с высоким содержанием

HjS и СО*; 111 — очищенный газ;

I V — хладо-

агент;

V — насыщенный абсорбент;

V I ,

У // — экспанзерный газ на топливо; V I I I

частично регенерированный абсорбент; I X

— теплоноситель; X — кислые и другие газы;

X I

природный газ (подается для улучшения [отпарки H2S и С02); {Х/У — регенери­

рованный абсорбент.

 

 

 

осуществляется на этих установках в одну или две ступени. Техно­ логический режим процесса абсорбции: температура исходного абсорбента 20—28 °С, температура сырого газа колеблется на разных объектах от 0 до 15 °С, давление поддерживают в пределах 5—7,5 МПа.

Регенерация абсорбента при грубой очистке газа осуществля­ ется, как правило, без подвода тепла путем многоступенчатого снижения давления в системе, а при тонкой очистке газа (напри­ мер, до содержания H2S 5,7 мг/м9 и менее) путем дросселирования давления и подвода тепла. В некоторых случаях для обеспечения глубокой отпарки кислых компонентов растворитель регенерируют при низком остаточном давлении, а в кубовую часть колоннырегенератора подают инертный газ (азот, воздух и др.). Экспанзерный газ I ступени регенерации рециркулирует в системе, так как он состоит в основном из легких углеводородов и кислых компо­ нентов. Очищенный газ, выходящий из абсорбера, содержит рас­ творитель NMPt поэтому он поступает в специальную колонну, орошаемую водой, где из газа извлекается растворитель (после соответствующей регенерации водного раствора N-метилпирроли- дон возвращается в систему). На рис. 111.19 приведена принци­ пиальная технологическая схема установки Пуризол, применяе­ мая для очистки газа с высоким содержанием H2S (4—34% об.) и сравнительно небольшим содержанием С02 (6—11% об.). Блок водной промывки очищенного газа на схеме не приводится.

В 1978 г. на Новочеркасском заводе синтетических продуктов введена в действие первая отечественная установка Пуризол, предназначенная для тонкой очистки природного газа от меркап­ танов [71 ]. Содержание меркаптанов в исходном газе — 80—

153

250 мг/м3, в очищенном газе — 1—2 мг/м3 (в расчете на серу). Основные показатели процесса: производительность по газу 36 тыс. м3/ч; объем циркулирующего растворителя 20—30 м3/ч; давление в абсорбере 1,0 МПа; температура растворителя на входе в абсорбер 30—35 °С; давление в десорбере 0,5 МПа; температура низа десорбера 130—140 °С. (Растворитель регенерируют в наса­ дочном колонном аппарате.) В низ десорбера для улучшения отпарки меркаптанов подают водяной пар или очищенный природ­ ный газ. Расход пара до 2,5 т/ч, расход растворителя (потери, унос и др.) — менее 0,1 кг/1000 м3 газа. Диаметр абсорбера 2,7 м, высота 2,6 м. Общее число тарелок в абсорбере 30, из них 5 тарелок находится в верхней секции, предназначенной для улавливания растворителя, который уносится очищенным газом из основной абсорбционной секции. Диаметр десорбера 1,2 м, высота 1,7 м [71 ].

Процесс Сульфинол [22, 63—70]. В качестве абсорбента ис­ пользуют смесь водного раствора диизопропаноламина с сульфо­ ланом (циклотетраметилеисульфон), названную сульфинолом: 30% диизопропаноламина (этот компонент получил наибольшее приме­ нение), 64% сульфолана и 6% воды. Состав абсорбента может изменяться в зависимости от качества исходного газа. Физико­ химические свойства диизопропаноламина и сульфолана приво­

дятся ниже

[27, 28]:

Диизопро­

 

 

 

Сульфолан

Температура, °С

панол амни

248

288

кипения ................

 

застывания

25................................°С, кг/ма . . . .

42

8—10

Плотность при

1,27

Молекулярная м а с с а ....................

133 2

0,99*10“ 2

Вязкость, Па-с

................................

0,192 (при 48 °С)

Давление насыщенных паров при 20 °С,

 

(при 25 °С)

1,33

Па ............................................................

 

Сульфинол хорошо растворяет H2S, С02, RSH, COS, CS3 и углеводороды; он химически и термически стабилен, имеет низкую теплоемкость и давление насыщенных паров, может быть исполь­ зован для комплексной очистки сухих газов от «нежелательных» серо- и кислородсодержащих соединений, позволяет производить тонкую очистку газов от меркаптанов и от сероуглерода одновре­ менно (степень извлечения меркаптанов 95%); при взаимодействии с С02 сульфинол незначительно деградирует с образованием диизопропанол-оксазолодона, который имеет щелочную реакцию и хорошо растворяет кислые газы (допустимое содержание его в абсорбенте 10%). Наличие в сыром газе С02 не приводит к боль­ шим потерям сульфинола — на промышленных установках разло­ жение сульфинола в 4—8 раз меньше, чем моноэтаноламина [28, 69]. Продукты разложения легко удаляются из системы в резуль­ тате того, что до 0,05% регенерируемого раствора подвергается специальной очистке. Поглощающая способность сульфинола при­ мерно в 2 раза выше, чем раствора моноэтаноламина [52].

154

Таблица Ш А. Эффективность очистки природных газов различного состава с помощью растворителя сульфинол (давление в абсорбере 7 МПа, температура 43 °С) [67]

 

Показатели

Газ А

Газ В

Газ Д

Производительность по сырому газу,

2,83

2,83

2,83

тыс. м3/ч

 

 

 

Расход абсорбента, л/м3 сырого газа

2,85

3,36

4,58

Состав сырого газа, % об.

 

 

 

H2S

 

0,65

20,1

51,5

СО,

 

8,73

2,0

3,5

с н 4

 

87,9

71,5

25,8

с 2н в

0,35

2,0

5,8

с „ н 8

1,7

3,2

 

 

U

1,6

2 Сз+высшне

0,2

------.

N 2

 

2,37

1,4

8,6

Соотношение H2S : С02 в сыром газе

0,07

10,0

14,7

Содержание в сыром газе, мг/м3

 

 

192,4

COS

 

68,7

167,2

RSH

48,1

34,3

71,0

Содержание в очищенном газе

1

 

 

С02

%, об.

I

1

H2S,

мг/м3

5,7

5,7

5,7

COS и RSH, мг/м3

1

1

1

Концентрация кислых газов в насы­

33

67

12

щенном абсорбенте, м3/м3

93

 

 

Расход пара на регенерацию абсор­

127

132

бента,

кг/м3 абсорбента

 

 

 

Процесс разработан фирмой Шелл (США). Первая промышлен­ ная установка введена в действие в США в 1964 г. для очистки природного газа от сероводорода и С02. Сульфинол-процесс может быть использован для комплексной очистки сухих газов от серо­ водорода, С02, RSH, COS, CS2 и при различной их концентрации в исходном сырье (табл. III.4).

Наиболее высокие показатели обеспечиваются при соотношении кислых компонентов в газе H2S : С02 > 1 и парциальном давлении их 7—8 МПа. Степень насыщения сульфинола может достигать 85%, что в несколько раз превышает степень насыщения раствора моноэтаноламина. Поэтому для реализации процесса Сульфинол требуется меньшая циркуляция раствора и соответственно более низкие эксплуатационные затраты. Сравнивая эффективность этих двух растворителей, необходимо отметить, что сульфинол в отличие от раствора моноэтаноламина обладает высокой погло­ тительной способностью не только при низких, но и при высоких парциальных давлениях H2S и С02. При низких парциальных давлениях они примерно равноценны, а при высоких — сульфинол

155

значительно превосходит моноэтаноламин. Ниже приведены дан­ ные, характеризующие эффективность использования этих раство­ рителей, которые были получены при переводе одной из установок по очистке природного газа в штате Техас (США) с моноэтанол-

ам ина на сульф инол

[651:

 

 

 

 

 

 

 

МЭА *

Сульфинол

Производительность

по

сырому

41,25

газу, тыс. м3/ ч ...........................

 

 

28,75

Расход абсорбента,

 

 

2,23

1,84

л/м3 сырого газа . .

 

м3/ ч ...............................

 

 

 

 

64

76

Состав сырого газа, % об.

1,6

1,6

H2S ...............................

 

 

 

 

С02 .......................................

 

 

 

 

6,9

6,9

СН4 ..........................................

 

 

 

 

81,57

81,57

С2Н6 ...................................

 

 

 

 

5,82

5,82

с ,н 8 ...................................

 

 

 

 

1,85

1,85

2С4 ...................................

 

 

 

 

1,03

1,03

Е С5+Высшие...............................

 

 

 

0,73

0,73

N o ..............................................

H2S : С02

в

0,5

0,5

Соотношение

сыром

0,23

г а з е ..............................................

 

 

 

 

0,23

Содержание в сыром газе, млн-1

19

RSH .......................................

 

 

 

 

19

C O S ...........................................

в

очищенном

7

7

Содержание

газе,

 

млн-1

 

 

 

 

13,7

2,3—13,7

H2S ...........................................

о б . )

 

 

С02 (%

 

 

0,1

Нет данных

RSH .......................................

 

 

 

 

Нет данных

То же

C O S ...........................................

 

 

 

 

То же

»

Содержание углеводородов в ни-

1,9 **

слых газах, %

об........................

 

 

»

Концентрация кислых газов в на­

 

сыщенном абсорбенте, м3/м3 аб-

45

сорбента .......................................

 

 

 

 

33,5 .

Использовался 22%-ный водный раствор МЭА.

**В том числе 95% ароматических углеводородов, содержащихся в исходном сыром газе.

Из этих данных следует в частности, что даже при небольшом содержании в газе H2S и С02 более выгодно использовать процесс Сульфинол. Для реализации этого процесса требуются меньшие эксплуатационные и капитальные затраты (общий расход пара снижается по сравнению с МЭА-очисткой в 2 раза, капитальные вложения — в 1,3 раза). Практика показывает, что оборудование и установки, предназначенные для МЭА-очистки, можно легко приспособить для проведения процесса Сульфинол. При этом производительность установок может быть значительно увеличена. Технологические схемы и режимы процессов Сульфинол и МЭАочистки не различаются между собой. В процессе Сульфинол давление в абсорбере определяется, как правило, давлением поступающего газа — чем выше давление, тем эффективнее проте­ кает процесс очистки; особенно большой эффект от повышения

15в

Таблица III.5. Влияние давления и состава газа на кратность циркуляции абсорбента в процессе Сульфинол

(составы сырья приведены в табл. III.4)

 

Кратность циркуляции абсорбента при очистке газа

Давление, МПа

различного состава, л/м* сырого газа

 

 

 

 

Газ А

Газ В

Газ Д

0,7

3,9

6,43

12,5

3,5

2,98

3,9

6,38

7,0

2,88

3,4

4,58

давления достигается при высоком содержании H2S и С02 в исход­ ном сырье (табл. III.5). Сырой газ и растворитель подают в абсор­ бер при положительных температурах (30—50 °С), растворитель регенерируют в две ступени — в сепараторе путем снижения давления и в колонне путем подвода тепла (давление 0,17 МПа, температура в нижней кубовой части колонны 65—70 °С).

ВЫБОР РАСТВОРИТЕЛЯ ДЛЯ ОЧИСТКИ ГАЗА ОТ СЕРОВОДОРОДА И ДИОКСИДА УГЛЕРОДА

В результате обобщения опыта работы промышленных установок специалисты фирмы Флюор Корпорейшен [261 разработали диаграммы для выбора процессов очистки газа от H2S и (или) С02 (рис. III.20—111.23). Рабочие площади на этих рисунках очерчи­ вают области применения процессов очистки газа при различных парциальных давлениях H2S и (или) С02 в сыром и очищенном газах. Все диаграммы составлены применительно к условиям очистки газа, в составе которого имеется только H2S и (или) С02, т. е. они отражают наиболее простые варианты, встречающиеся в практике. Однако, зная характер других примесей и возможные последствия от взаимодействия их с растворителями, эти диа­ граммы можно использовать и для ориентировочного выбора процесса очистки газа более сложного химического состава (выб­ ранный таким образом вариант может быть положен в основу детального технико-экономического анализа). Ниже изложены

рекомендации по выбору процесса [26].

II 1.20).

1.

Очистка газа от С02 в отсутствие H2S (см. рис.

Такой случай может быть при переработке природного и других

газов. Из

диаграммы следует в частности, что при низких

пар­

циальных давлениях диоксида углерода в сыром газе (до 0,07 МПа) целесообразно использовать алканоламиновые растворители; при парциальных давлениях от 0,07 до 0,7 МПа — алканоламиновые абсорбенты, горячий поташ или физические растворители; при парциальном давлении более 0,7 МПа — физические раствори­ тели, комбинации их с аминами или горячим поташем.

157

и

Т ' Т -1-------1

' I I , I--------- 1 1

1 1 0

 

6w*WT23 г

<* 6 J0~2*2

4

6 10~7 г * 6

10

Парциильное давление II2S в очищенном

Парциальное давление COz O очищенном газа,

 

МПа

 

 

 

газе, МПа

Рис. 111.20.

Диаграмма для выбора процесса очистки газа от С02 в отсутствие H2S:

/ — физические растворители плюс

амины; I I — физические

растворители или физи­

ческие растворители плюс амины или горячий поташ; I I I — физические растворители;

/ V —- физические

растворители

или

активированный поташ;

V — активированный го­

рячий поташ или ингибированные

концентрированные амины; V I — активированный

горячий поташ

или амины;

V II — амины.

 

Рис. III .21.

Диаграмма для

выбора процесса очистки газа от

H2S

в отсутствие С02:

 

/ — процессы

Эконамин,

Селексол, Сульфинол

или

диэтаноламин высокой степени

насыщения;

I I

— физические растворители;

I I I

физические растворители

или про­

цесс Сульфинол; IV — дннзопропаноламин,

процессы

Эконамин, Сульфинол

или ди­

этаноламин высокой степени насыщения; V — амины;

процессы Стретфорд, Сульфинол

или Ветрококк — H2S; VI

—• процессы Стретфорд или

Бетрококк — H 2S.

 

2.

Очистка газа от H2S в отсутствие в газе С02 (см. рис. III .21).

Такая проблема встречается при переработке природного, нефтя­ ного и других газов. Из диаграммы следует в частности, что при низких парциальных давлениях сероводорода в сыром и очищен­ ном газах рекомендуются процессы Стретфорд и Ветрококк — H2S; при средних парциальных давлениях первое место начинают занимать алканоламиновые процессы; при парциальных давлениях более 0,4 МПа рекомендуются в основном физические растворители

или комбинации их с другими абсорбентами.

H 2S

.3. Очистка газа от H2S и С02 (см. рис. III.22). Наличие

и С02 вносит в решение задачи определенные трудности, так

как

при выборе растворителя необходимо обеспечить требуемую степень очистки газа и благоприятное соотношение H2S : С02 в кислых газах, предназначенных для производства серы на уста­ новках Клауса. Поэтому в данном случае при выборе растворителя могут быть определенные отклонения от варианта, принятого по представленной на рис. III.22 диаграмме. Следовательно, при наличии в газе H2S и С02 даже на предварительной стадии выбора процесса требуется определенная аналитическая работа, связан­ ная с поиском приемлемого варианта.

158

Рис. IИ.22.

Диаграмма для выбора процесса очистки

газа от С02 и H2S:

 

I — процессы Эконамин, Селексол или диэтаноламин высокой степени насыщения; I I

физические растворители; / / / — физические растворители или процесс Эконамнн: I V

активированный горячий поташ, процесс

Сульфинол или амины; V — амины или про­

цесс Сульфинол.

 

 

Рис. III.23.

Диаграмма для выбора процесса селективного извлечения из газа H2S при наличии С02:

I — процессы Ректнзол или Селексол;

I I —

раствор дпнзопропаноламнна; I I I — про­

цессы Стретфорд или Ветрококк — H2S

(или

раствор диизопропаноламииа).

Из рис. II 1.22 следует в частности, что при низких парциальных давлениях С02 и H2S в сыром газе (до 0,065 МПа) рекомендуется использовать алканоламнновые растворители или процесс Суль­ финол. Начиная от 0,065 до 0,55 МПа для очистки газов целесо­ образно использовать также активированный горячий поташ, физические растворители и процесс Эконамин. При парциальном давлении H2S и С02 в сыром газе более 0,55 МПа рекомендуются процессы Эконамин и Селексол, а также процессы, в которых используются диэтаноламин и физические растворители.

4.

Селективное

извлечение из газа H2S в

присутствии С03

(см. рис.

III.23). Такой случай встречается довольно часто — при

тонкой

очистке газа

от сероводорода с низким

соотношением

H2S : С02 и необходимости получения кислых газов с высоким соотношением H2S : С02 на первой ступени и низким соотношением этих компонентов на второй ступени очистки (в этом случае кислые газы первой ступени предназначаются для производства серы, а кислые газы второй ступени — для производства товарного диоксида углерода). Из рис. III.23 следует в частности, что при низких парциальных давлениях кислых газов в исходном сырье процессы Стретфорд и Ветрококк обеспечивают тонкую очистку газа. Однако в связи с известными их недостатками более рацио­

159

нально использовать для этих целей процесс Адип (растворитель диизопропаноламин), область применения которого распростра; няется от низких до средних парциальных давлений (до 0,04 МПа)- при более высоких парциальных давлениях рекомендуется исполь­ зовать процессы Ректизол и Селексол.

Глава 3

ПЕРЕРАБОТКА ГАЗА МЕТОДОМ КОНДЕНСАЦИИ

ОБЩИЕ СВЕДЕНИЯ

Процесс конденсации газа можно охарактеризовать как процесс изобарного охлаждения (если пренебречь некоторой потерей давления при прохождении газа по трубопроводам и аппаратам технологической схемы) до температур, при которых при данном давлении появляется жидкая фаза. Нефтяной и природный газы являются многокомпонентными смесями, поэтому фазовые пере­ ходы и критические области в них существенно отличаются от таковых для чистых веществ.

Для индивидуального вещества существует критическая точка, которой соответствуют критическая температура и критическое давление. Причем при температуре выше критической вещество существует только в однофазном состоянии и никакими сочета­ ниями значений других параметров перевести его в двухфазное

Рис. 111.24.

Диаграмма давление — температура.

Критическая точка К лежит левее точек М и N .

Рис. III.25.

Диаграмма давление—температура.

Критическая точка К лежит между точками М н N .

160