Добавил:
Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:

книги / Основы электронно-лучевой обработки материалов

..pdf
Скачиваний:
8
Добавлен:
12.11.2023
Размер:
18.54 Mб
Скачать

Для частного случая, когда продольный градиент давления на внешней границе слоя равен нулю, уравнение (283) и уравнение непрерывности (282) записывают в виде

U

ди

,

6U

дЮ

~ w + v - w

= x dt/

 

dU

 

ди

(-81)

 

+

О,

 

дх

ди

где v — кинематическая вязкость. Граничные условия

U = 0, v = — Vo (х)\у=о, U ->U0\y+„.

Для одномерного случая первое уравнение системы (284) при­ нимает вид

ди _ _

дЮ

(285)

»о ~ду~~~Х

дуг ’

 

его решение

 

 

U(h)=*U0 ( 1 - е х р ^ ) .

(286;

Скорость течения расплава U0 вдали от контакта с iвердым

телом находят из соотношения

 

 

hah

(28?)

и 0 = ~ЩГС'

где А а — разность межфазных поверхностных энергий: р, — коэф­ фициент динамической вязкости; h — толщина наползающего слоя; L — длина, на которую распространяется наползающий слой.

Разность межфазных поверхностных энергий

Да = (k cos 0 — 1) oh

(288)

где 0 — угол смачивания; аг — поверхностное натяжение на гра­ нице жидкой фазы; k — коэффициент шероховатости поверхности, по которой происходит наползание жидкости.

Для количественного определения величин U (/i), t/0, Да сле­ дует использовать результаты модельных опытов по определению закономерности кристаллизации свободной жидкой пленки в усло­ виях, когда имеет место эффект наползания жидкости на расту­ щие кристаллиты.

ПОЛУЧЕНИЕ ПЛЕНОК И ПОКРЫТИЙ С ПОМОЩЬЮ ИМПУЛЬСНОГО ЭЛЕКТРОННО-ЛУЧЕВОГО ВОЗДЕЙСТВИЯ

Нанесение пленок методом термического испарения в вакууме является одним из наиболее широко распространенных способов 133,88, 89 ]. Однако недостатки этого метода, такие, как ограничен­ ность скорости напыления, необходимость высокого вакуума для

181

уменьшения влияния остаточных газов, трудности с испарением многокомпонентных материалов привели к разработке ряда прин­ ципиально отличающихся методов; ионно-плазменного распыле­ ния, получения пленок из химических соединений с помощью электронного луча [2 2 ] и др.

Перечисленные недостатки метода термического испарения свя­ заны с использованием стационарного нагрева. Разработка ряда технологических приемов (метод многих источников, «взрывное» испарение) улучшает этот метод, но не исключает использования стационарного испарения.

Использование импульсных методов получения пленок с при­ менением таких концентрированных источников энергии, как им­

пульсная

плазма 1132], лазер [38], взрывающиеся проволочки

и фольги

[98], существенно повышают скорость испарения. Основ­

ным преимуществом импульсного нанесения пленок является крайне высокая скорость осаждения (до 1— 10 мкм/с) и возмож­ ность сохранения стехиометрии состава испаряемого материала.

Задача о нестационарном испарении в вакуум решена в рабо­

тах [39,

130, 131 ],

в них показано существование

нестационар-

ности в течение времени т, когда унос тепла

паром

qv незначите­

лен (qv ^

10-^20%

от величины

падающего

потока), рассмотрен

ступенчатый тепловой поток (Q =

0 при t <

0 и Q — const при

t > 0) и численным методом (на ЦВМ «Минск-22») решено одно­ мерное уравнение теплопроводности с нелинейным граничным условием, учитывающим испарение с поверхности в соответствии

с кривой давления

пара.

Безразмерное время обозначают как т = tit*, безразмерную

температуру Qs =

Ts/T Soo, где Ts — температура поверхности;

TSco —■температура

поверхности, при которой (в случае ее дости­

жения) весь тепловой поток, приходящийся на поверхность, тра­ тится только на испарение; безразмерный тепловой поток, уноси­ мый паром, q0 = QJQ.

Скорость испарения по формуле Ленгмюра (г/см2*с)

где М — молекулярный вес испаряемого вещества; А я В — кон­ станты кривой давления пара [41 ].

Из условия Qv (TSoo) = Q, где Qv — LHcn m — теплота испаре­ ния; Q — тепловой поток, получают для TSoo трансцендентное уравнение

А

'оо

Единица измерения времени

(2 8 9)

t = 4a Q 2 { Т s T Q ),

182

Рис. 109. Зависимость из­

 

 

 

менения

 

безразмерных

 

 

 

температуры и теплового

 

 

 

потока от % для алюми­

 

 

 

ния:

 

 

 

 

 

1 Q =

IО6;

2 — Q ^ 10е;

 

 

 

3

—Q=

107;

4 —Q=

 

 

 

=

108 в т /с м 2

1131 ]

 

 

 

где К — коэффициент тепл0ПР0В°ДН0СТИ’ а

' К0ЭФФВДиент

темпе­

ратуропроводности; Т 0 — начальная температура; Т$

темпера­

тура, определяемая из уравнения Qj (Т$) = 0, 1Q.

 

(289):

 

Температура T*s мож€т быть получена

из уравнения

______

1,12*10-М

Из рис. 109 видно, что при т < 1 ( / < / * ) потери теплоты на испарение по сравнению с Q незначительны. Температура поверх-

ности

Т s

_ т L 2Q У''Щ

0 7 ЯК л

При t > 1 становится

существенным и постепенно увеличи­

вается унос теплоты napoi^> Рост температуры поверхности замед­

ляется. В процессе достигни*

т ^

1 устанавливается темпера­

тура поверхности, а к мо^ентУ т ^

Ю

скорость

испарения пг

и величина qv. В интервале

^ т

 

Ю кривые

qv могут быть

описаны приближенной зависимостью

 

 

где а = 7-5-8.

Характеристики ц^^^^ционарного процесса испарения не-

штофик wara&wajK» ^ е ^ тавлены в табл27, где приняты еледующие обозначения* длительность теплового импульса, в те-

чение которого при расчет Ts (0 можно не учитывать испарение

(см. формулу (289));

повеРхности> ниже которой

затратами

теп­

j"s*_температура

лоты на испарение можно пренебречь;

х ’ 2 ]/at’

глубина

про­

грева

за время t*,

 

А; Ах* — толщина испаренного слоя за

время

t*:

 

 

 

 

 

 

Дх* =

o£L

Qt*

 

 

 

Z-испР j qv(x)dx

1СГ2^ИСПр 9

 

 

 

 

 

О

 

 

 

183

Оо

 

Характеристики i есгациэгирного

nc^apei ии

j е^зтсрьх ivn гсриалсв | ^30]

 

Таблица 27

 

 

 

 

 

 

 

 

 

М атер иал

Q.

t*, MKC

As* к

x*r A

A M ,

A

Г5 - -

К

КИМ мкс

A 'Viо, A

f**, MKC

В т /см г

 

 

 

 

 

105

3 , 8 - 102

2 2 9 0

2 ,1 *

10fi

1 , 9 - 103

27C0

 

3 , 8 - 103

5, 5 - i o 5

2 , 5 - 104

 

 

2 , 5 - 102

А1

10e

6 , 8

2 7 0 0

2 , 8 -

1C5

2 , 7 - 103

3 2 8 0

 

68

9 , 8 - 104

 

107

0 , 1 2

3 2 8 0

3 , 6 - 104

40

 

4 2 2 0

 

1,2

1 , 7 - Ю4

2 ,5

 

 

108

2 , 3 - Ю- 3

4 2 2 0

5,1

1C3

0,0

 

5 9 5 0

 

2 , 3 - 1 0 ~ 2

3 , 3 - 103

2 , 5 - 1 0

2

 

105

4 5

2 9 8 0

3 , 2 -

1C3

1 , 8 . 102

3 5 2 0

 

4 , 5 - 102

5,1 - 1 0 4

8 , 0 - 1G3

T i

10°

1,0

3 5 2 0

4 ,8 - Ю 4

33

 

4 3 0 0

 

10

1 , 2 - 1 0 *

80

 

 

 

2 , 0 - 103

0 , 8

 

 

107

2 , 3 - 10“ 2

4 3 0 0

7 , 2 - ■103

6 ,0

 

5 5 8 0

 

0 , 2 3

 

 

108

5 - 10"4

5 5 8 0

1 ,1 -

1C3

 

 

7 9 0 0

 

5 , 0 - 10- 3

5 , 7 - 1 0 2

8 . 1 0

3

 

1C5

6 0

2 4 4 0

1,5 -■1C5

4 , 7 - 1 C 2

2 6 8 0

 

6 , 0 . 102

1 , 4 - 105

3 , 5 - 103

A loO o

I 0 C

1 ,6

2 6 8 0

2 ,5 - ■10*

1,0* 102

2 9 8 0

 

16

3 , 0 - 104

3 ,5

 

-ril2v^3

107

2, M O 2

2 9 8 0

2 ,9 - ■1C3

11

 

3 3 6 0

 

0,21

4 , 8 - 103

3 , 5 - 1 0

2

 

 

 

 

1C8

3 - 1 0 ~ 4

3 3 6 0

3 , 3 -

102

 

 

3 6 5 0

 

3 - 1 0 ~ 3

6, 2 - 102

3 , 5 - 1 0

4

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

105

12

1970

6,8 -

1C1

1- 1 0 2

2 1 3 0

 

1 , 2 - 1 C 2

2, 8 - 1 0 4

1 , 4 - 102

 

 

 

 

S iO o

10°

0 , 1 4

2 1 3 0

7 ,5 - ■1C3

10

 

2 2 3 0

 

1 ,4

3 , 4 * 1 0 3

1 ,4

2

 

107

1 , 7 - 10 " 3

2 3 2 0

8,2 -

1G2

-

 

2 5 4 0

 

1 , 7 - 1 0 2

4 ,0* 102

1 , 4 - 1 0

 

 

 

 

1 , 4 - 1 0 ' 4

 

108

2-10 5

2 5 4 0

9 0

 

 

 

2 8 2 0

 

2- 10_1

50

 

 

 

 

 

 

 

 

где р — плотность материала; 10/* — время окончания нестацио­ нарной стадии испарения; А х10 — толщина испаренного слоя в те­ чение нестационарного времени 10/*:

 

ю

 

Qt*

Дх10

Qt* г

qv{%) dx ^

^НСПр J

4 LiicnP

 

0

 

 

Приблизительно через 10/* после включения теплового по­ тока Q температура поверхности приближается к TSoo, а унос теплоты с паром — к Q (qv ^ 0,6-f-0,7), Процесс испарения ста* новится квазистационарным. Внутрь вещества начинает распро­ страняться волна разгрузки, скорость которой

Q

^ЧСпР

 

 

 

Так как скорость тепловой волны

vT ^

Y a!t

постепенно

затухает, то, спустя время /** = (—'

) ,

волна

разгрузки

догонит тепловую волну, после чего роль теплопроводности будет сводиться лишь к установлению профиля температуры перед фрон­ том испарения.

Для тепловых импульсов, длительность которых превышает величину 10/* + /**, справедлива стационарная гидродинамиче­ ская теория испарения 13]. При q% = 105-М08 Вт/см2 гидродина­ мическая теория испарения приводит к результатам, мало отли­ чающимся от представлений свободного термического испарения.

Оценка интенсивности

испарения при =

106 Вт/см2 и

/ =

= 10 мкс дают следующие результаты: для алюминия

/** =

44-

-г- 5 мкс,

qv =

0,19 — испарение нестационарное; для

S i0 2 m —

const,

qv =

0,7-ьО,8 — испарение стационарное.

 

 

 

Абсолютные величины скорости испарения для алюминия и

двуокиси

кремния

10— 100 г/см2 (1081010 А/с). Полное

количе­

ство испаренного алюминия 4*10_5 г/см2, двуокиси

кремния —

1 -10_3 г/см2.

При

этом

энергия

теплового

импульса

равна

2,4 кал/см2.

 

 

 

 

 

 

 

 

Данные табл. 28 характеризуют понятие «эквивалентного»

вакуума

[130].

Здесь па — поток

молекул остаточного

газа на

подложку

при

давлении

р; х — скорость напыления

при усло-

Таблица 28

Параметры высокоскоростного процесса напыления [130]

р.

!

V

м м р т с т

 

 

г / с м 2 с

1 0 ’

 

3 , 8 - 1C 2*

1 0 ~ 2

 

3 , 8 - 1 0 18

1 0 “ 3

 

3 , 8 - 1 0 17

и

1 0 10

ю5

1 0 4

 

 

р,

П'

X,

 

 

м м

^ А /с

 

м м р т с т

р т . с т

г / с м 2 с

мм рт ст

 

 

1 0 ~ 4

 

1 0 ~ 5

3 , 8 1 0 15

ю2

1 0 " 12

КГ9

 

1 0~ «

3 , 8 - 1 0 14

1 0

1 0 _ «

]0_1°

 

ю~9

3 ,8 * Ю 11

1 1 0 ~ 2

1 0 " 1в

185

вии n jn a ^

15, где пь — поток атомов пара;

ре — давление,

соответствующее

скорости

напыления

х =

108 А/с; величина

ре дает

такое же отношение nv/naJ которое полу­ чается при фактическом давлении и х =

=Ю А/с.

Из табл. 28 следует, что импульсное

 

 

 

 

испарение позволяет

осуществлять напыле­

 

 

 

 

ние даже при атмосферном давлении. При

 

 

 

 

форвакууме (1СГ113 мм рт.

 

ст.) им­

 

 

 

 

пульсное

напыление

эквивалентно

напыле­

 

 

 

 

нию в условиях вакуума

порядка

10~9 мм

 

 

 

 

рт. ст.

 

осаждения

интересна

 

 

 

 

Высокая скорость

Рис. 110. Схема испаре­

с точки зрения экспериментальной проверки

теории конденсации. При образовании зача­

ния

электронным

лу­

чом

из нескольких

ис­

точных очагов конденсата на поверхности

точников:

 

подложки

увеличение скорости

осаждения

1 — импульсный

вра­

приводит к уменьшению их размеров и к уве­

щающийся луч; 2 — под­

ложка; А ,

В, В, Г — ис­

личению скорости возникновения. Это зна­

паряемые

материалы

 

чит, что сплошная пленка возникает при

 

 

 

 

меньшей

средней толщине

слоя

осадка.

Однако в результате того, что свободная энергия зачаточного очага AFV зависит от nv логарифмически, небольшие измене­ ния nv не могут существенно изменить его критический радиус г*. Ясно, что повышение nv на несколько порядков открывает в этом смысле интересные перспективы.

Чем больше разница в упругости пара компонентов сплава, тем выше температура испарения, необходимая для выравнивания скоростей испарения компонентов. При импульсном испарении, характеризующемся высокими градиентами температур, испаре­ ние сплавов должно происходить с более точным сохранением их состава.

Процесс импульсного электронно-лучевого воздействия при

qi >

ql можно

использовать для высокопроизводительного нане­

сения

пленок

[53]. Эксперименты на установке А.306.13 показы­

вают,

что при

U = 20 кВ, I = 150 мА, q%— 1-105 Вт/см2, / =

= 100 Гц, т =

1- КГ3 с, скорость осаждения на стеклянные (без

подогрева) подложки для никеля, титана и алюминия 1—3 мкм/с. При этом на поверхности пленок не зарегистрированы капли и брызги испаряемого материала, что наблюдается при действии луча лазера, импульсной плазме и взрыве фольги. Можно предполо­ жить, что это связано с особенностями испарения со дна узкого глубокого канала. Парожидкостная смесь, двигающаяся в объеме канала навстречу падающему потоку энергии, дополнительно по­ догревается, приобретает большую кинетическую энергию, что и приводит затем к интенсивному распылению струи (предположи­ тельно размер частиц < 1 мкм).

186

Выбор режимов импульсного электронно-лучевого напыления аналогичен выбору режимов получения отверстий. Собственно, высокопроизводительный процесс напыления протекает в режиме получения отверстий в испаряемом материале. Основным условием промышленной реализации метода импульсного напыления яв­ ляется наличие оборудования и аппаратуры, обеспечивающих устойчивую работу в течение длительного времени в импульсном режиме на частотах f = 100ч-1000 Гц при мощности источника 1—3 кВт. В настоящее время промышленность пока не распола­ гает установками такого рода — ни плазменными, ни лазерными, ни для электрического взрыва фольги. Генераторы импульсной плазмы имеются в виде лабораторных установок и обеспечивают частоту следования импульсов менее 1 Гц. Импульсные лазеры выпускает промышленность, но их частотные характеристики также пока не удовлетворительны. Установки для электрического взрыва проводников находятся в стадии опытных образцов. В этом отношении импульсное электронно-лучевое напыление находится в более благоприятных условиях', так как для его осуществления можно использовать серийно выпускаемые электронно-лучевые установки типа А.306.05, А.306.12, А.306.13. Эти установки обес­ печивают ускоряющее напряжение U = 25ч-30 кВ, мощность 3—5 кВт, удельную мощность 105—106 Вт/см2, длительность им­ пульса в пределах 1—50 мс, частоту следования импульсов 1 — 200 Гц. Они снабжены отклоняющими системами, позволяющими при подключении соответствующего устройства для развертки и модуляции луча производить испарение и;? одного или несколь­ ких источников, практически обеспечивая любой заданный состав пленки из любых материалов, так как за один импульс расплав­ ляется порция вещества 10510~6 г. Схема испарения электрон­ ным лучом из нескольких источников показана на рис. 110.

Электронный луч легко управляем, поэтому использование развертки, амплитудно-частотной модуляции и других приемов открывает новые перспективы применения метода импульсного электронно-лучевого напыления.

Глава б

З А К О Н О М Е Р Н О С Т И П Р О П Л А В Л Е Н И Я М Е Т А Л Л О В П Р И Э Л Е К Т Р О Н Н О - Л У Ч Е В О М В О З Д Е Й С Т В И И

ВЛИЯНИЕ УДЕЛЬНОЙ МОЩНОСТИ ЭЛЕКТРОННОГО ЛУЧА НА ГЕОМЕТРИЮ ЗОНЫ ПРОПЛАВЛЕНИЯ

В связи с тем, что энергетический баланс процесса электронно­ лучевой сварки близок к аналогичному балансу при дуговой сварке, связь параметров электронного луча с характеристиками зоны проплавления можно дать в виде уравнения для секундного объема плавления металла [153]:

0,24Ш адг =

pvFupSmy

(290)

где Fuр — площадь проплавления,

см2;

S m = (cTUJ} + Lnjl) —

теплосодержание жидкого металла при температуре плавления, кал/г.

Из уравнения (290) следует, что чем выше погонная энергия Q — 0,24IUIv, тем больше площадь проплавления. Это действи­ тельно справедливо для процесса дуговой сварки, который в боль­ шинстве случаев осуществляется при q2 < q2. Для электронно­ лучевой сварки экспериментально установлено, что обобщенный параметр — погонная энергия Q не является определяющим при количественной оценке процесса. При постоянной погонной энер­ гии можно получить глубину проплавления и 15 и 2 мм [206]. Этот факт следует считать естественным, так как образование кинжального проплавления при электронно-лучевой сварке опре­ деляется не только количеством введенной энергии, но и ее плот­ ностью.

Для использования в инженерных расчетах в уравнениях (290) должна быть учтена удельная мощность электронного луча q2. С этой целью произведены эксперименты по электронно-лучевой сварке с постоянной погонной энергией, но разной степенью фоку­ сировки (разной удельной мощностью) [64]. Сварку выполняли с помощью электронно-лучевой установки ЭЛУ-9Б с электронной пушкой ЭП-60/10М по схеме, представленной на рис. 111 на образ­ цах из нержавеющей стали размером 500 X 80 X 20 мм при ре­ жимах, представленных в табл. 29.

В первой серии опытов образцами служили две пластины тол­ щиной 10 мм каждая (пакет толщиной 20 мм), сварку выполняли встык с зазором. Во второй серии в качестве образцов использо­ вали пластины толщиной 20 мм,

18 8

Рис. I I L Две схемы сварки ст ре­ менной степенью фокусировки электронного луча:

а — п р и п о с т о я н н о м р а б о ч ем р а с ­

с т о я н и и ,

н о п ер е м е н н о м т о к е ф о к у ­

си р о в к и ;

б — п р и п е р е м е н н о м р а б о ­

чем

р а с с т о я н и и ,

н о п о ст о я н н о м

т о к е

ф о к у си р о в к и :

 

 

/ —

к атод ; 2

у п р а в л я ю щ и й

э л е к ­

т р о д ; 3 ан од ; 4 - ф о к у с и р у ю щ а я си ст ем а ; 5 о б р а з е ц

В процессе сварки через каждые 60 мм длины шва изменяли фокусировку электронного луча на 4 мА в диапазоне токов фоку­ сировки от 76 до 100 мА. Таким образом, концентрация мощности при постоянной погонной энергии в процессе наложения сварного шва постепенно увеличивалась, а после достижения максимума уменьшалась. Рабочее расстояние сохранялось постоянным h = = 90 мм (см. рис. 32, а).

Таблица 29

Режимы проплавления с переменной удельной мощ ностью электронного луча

Индекс

 

 

 

Параметры сварки

 

 

р еж и м а

U, кВ

|

/ , мА

 

ц, к а л /с

Q, к а л /с

св ар к и

V , см /с

А

6 0

 

6 0

0 , 5 5

8 6 0

1 5 6 5

Б

6 0

 

4 0

0 , 5 5

5 7 5

1 0 4 5

В

6 0

 

6 0

1 ,1

8 6 0

7 8 5

Г

6 0

 

4 0

1 ,1

5 7 5

5 2 0

На рис. 112 показаны в увеличенном масштабе очертания зон проплавления, снятые для последующего планиметрирования. Анализ макрошлифов и очертаний зон проплавления показывает, что при постоянном значении погонной энергии можно в широком диапазоне изменять геометрию проплавления с ломощью только одного параметра режима сварки — степени фокусировки элек­ тронного луча. При этом очертание зоны проплавления изменяется от полукруглого до кинжального, а при больших отрицательных значениях степени фокусировки может переходить в «клыкообраз­ ное». Максимуму глубины проплавления соответствует минималь­ ная ширина шва. Зависимость глубины проплавления Н от сте­ пени фокусировки электронного луча А/ф приведена на рис. 113. Под степенью фокусировки А/ф понимают алгебраическую раз­ ность токов магнитной линзы при сварке и фокусировке на малом

189

Индекс

 

 

Ток фокусировки ,мА

 

 

 

 

 

 

режима

и

7S

во

04

 

88

32

36

100

сварки

 

 

I

сепия опытов

 

 

 

{

?

{

10хмм

А

 

ч

 

¥

г

а

м

 

 

 

 

 

 

 

 

6

р

¥

К П 1Y1i p

г а

J V 1

тр

 

 

 

 

 

 

 

В

р

 

1 V Iг а м

 

г а

Г

м г а

т

г а

г а

г а

 

 

 

г а

 

11

своия опытов

 

 

 

f

 

f

 

л

и

р

р

 

 

 

г а

г

а

г а

5

 

г а

Щ

 

 

ш г а lir a г а

в

 

 

т г а

 

 

 

 

 

г а

 

г а

 

 

г а

г

а

г а

 

 

 

 

 

Г

£°1г а

г а

г а

 

г а

г а

г а

г а

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Рис. 112.

Геометрия зон

проплавления

 

 

 

 

в нержавеющей стали при разной степени

 

 

 

 

фокусировки (h ~

const)

 

 

 

Рис. 113. Зависимость глубины проплавле- нияот степени фокусировки для режимов сварки А, Б, By Г