Добавил:
Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:

книги / Моделирование и автоматизация проектирования силовых полупроводниковых приборов

..pdf
Скачиваний:
3
Добавлен:
12.11.2023
Размер:
12.32 Mб
Скачать

Время выключения tq с учетом (6.32) можно представить при этом в виде, аналогичном (6.37):

где т'л2 определяется из (7.6),

(7.7) или (7.9).

 

 

(7'20)

 

включения

Выражение для плотности

критического заряда

имеет вид

 

 

 

 

Q,p = / ш % е х р ( - Ь 1 ) - ^ + Уетэ-^ехр

( i - ) ,

(7.21)

где

 

 

 

(7.22)

F2=chx2W2*;

 

 

F2 = chx,U71x + ( J _ +

iisL>\ -Lshxl-U7I*,

1 =

1 и З;

(7.23)

\ Loi

Я°ц/ *i

 

 

 

остальные обозначения аналогичны принятым в § 6.2. Постоянная времени тн определяется как единственный поло­

жительный корень уравнения

< i - * ‘ > F ’ + * - - T T e x p ( ^ ) - 7 Г « Р ( -<£?-*)>

Если ОПЗ коллекторного перехода не охватывает всю толщи­ ну базы rii, плотность заряда фпак определяется из выражения {6.27) работы [2.6]. Если же ОПЗ коллекторного перехода охва­ тывает всю толщину базы щ, то

 

C U ~

,f C'l(“) - f - ex p

( - - ^ ) ‘" +

 

 

+ ]

С/. t f U - f - exp

( - L=^a) it.

(7.25)

где

UCM— напряжение., при

котором

ОПЗ коллекторного

перехо­

да

охватывает всю

толщину базы пх: Ucu= (tCu — ta) (du/dt).

Если коллекторный переход можно считать резким, выраже­

ние

(7.25) приводится к виду

 

 

 

 

Q„„ = Y

 

{ Н И )

Ф ( V ( ( c„ - < s)/xJ +

 

 

+ ^ £ Н

- ^ Н

хр(-^ )]-

(726>

где Ф — интеграл вероятности.

Если *см>*4, т. е. ОПЗ коллекторного перехода не охватыва­ ет всю толщину базы пи в (7.26) *См следует заменить на /4, пос­ ле чего оно совпадает с (6.28) работы [2.6].

151

При записи (7.19) принято, что плотностями зарядов Qit и Qj, , расходуемых на компенсацию областей пространственного заряда эмиттерных переходов, можно пренебречь.

Для асимметричного тиристора разумно предположить, что на­ чальное распределение дырок р2(х2, U) равномерно по толщине базы п\. Тогда для коэффициента ш0 справедливы следующие вы­ ражения:

<7 - 2 7 >

если UD< U Cu, и

и

если UD>Ucu, причем

V » + ти

ftfk

ф [V uDju %

 

 

 

du

.. *

-> /

2ere0U*

dt

2

V

*

(7.28)

(7.29)

Полученные выражения позволяют рассчитать т а т е крити­

ческую скорость нарастания напряжения

в закрытом состоянии

{duD/dt)cTii. Для этого достаточно в (7.19)

положить, что Q2(h) =

= 0,

и при использовании условия <2кр=Фнак во всех выражениях

для

расчета Quак заменить du/dt на (duD/dt)crn■

7.3.ПЕРЕХОДНЫЙ ПРОЦЕСС ВЫКЛЮЧЕНИЯ ТИРИСТОРА-ДИОДА

Как уже отмечалось, тиристор-диод представляет собой прибор, в котором асимметричный тиристор и диод, изготовленные на од­ ной полупроводниковой пластине, соединены встречно-параллель­ но друг с другом. Схематически полупроводниковая структура ти­ ристора-диода изображена 'на рис. 7.7,а. Видно, что тиристорная

(ТС) и диодная

(ДС) секции разделены между собой трехслой­

ной зоной (ТЗ).

Назначение последней — в максимальной мере

ослабить влияние заряда, накопленного в базе ДС, на время вы-, ключения ТС и, следовательно, прибора в целом. Конструктивно ДС и ТС могут иметь различную конфигурацию. В частности, ДС иногда изготавливается в центральной части пластины, иног­ да в форме периферийного кольца, охватывающего ТС, или в ви­ де сектора.

Зависимости тока и напряжения от времени на тиристоре-дио­ де в процессе его выключения аналогичны изображенным на рис. 7.2,в и г. При этом благодаря отсутствию паразитной индук­ тивности проводов, соединяющих дискретные диод и тиристор, всегда tqu^ tqi.

Анализ процесса выключения тиристора-диода сводится к рас­ чету плотности избыточного заряда Q2{t2) в базе п\ ТС, аналогии-* ного соответствующему расчету для асимметричного тиристора

152

•Рис. 7.7. Полупроводниковая структура тиристора-диода (а) и распределение избыточных но­ сителей заряда в базах струк­ туры к началу этапа нараста­ ния анодного напряжения (б)

DC

1ТЗ

1

тс

рг ^

У

1 Z 1

. . A . /1 . J

 

|

Рг

н

l,,U

п1

п '

1

!

....у .. .

 

 

 

п'

*?гд(4з) | 1

к

Кv 1 tQuM

&k * -----— ftto

Ох

(см. § 7.2), расчету плотности заряда 8<22д(*3). вносимого в ба­ зу п\ ТС из базы п\ ДС, и расчету собственно времени выключе­

ния tq. Эти расчеты

в рамках

линейной модели

выполнены в

[7.10].

 

 

 

 

 

 

 

 

Расчет 8(22д (t,) проводится следующим образом. Сначала рас­

считывается плотность заряда (?2д(*Д

накапливаемого в базе п\

ДС к моменту времени U. В рамках линейной модели этот расчет

выполняется путем

решения нестационарного

уравнения

непре­

рывности для дырок в базе щ в зарядовой форме

 

 

 

 

dt

ТЛ2Д

+

 

 

 

 

^аД

(7.30)

 

 

 

 

 

 

 

где

хЛ2Д — время жизни дырок в базе ДС при высоких уровнях ин­

жекций; 5ад — активная площадь ДС.

 

 

 

 

 

 

Время выключения прибора

обычно

равно

не менее

(4—5)

ТЛ2Д-

Круговая частота о и время выключения

tq связаны соот­

ношением

 

 

)

] .

 

 

 

(7-31)

 

(atq=zi — arcsin [1т/(

 

 

 

Поэтому, как правило, (<^хА2Д)а

1

и приближенное решение

(7.30) при нулевом начальном условии имеет вид

 

 

 

QmiQ =*

[ K ( l + /™ //r ) ! -

l

-

««мд].

(7.32)

В принципе Q2JX(t3) можно рассчитывать и по нелинейной мо­ дели, решая уравнение, аналогичное (6.13). Однако при измене­ нии тока по синусоидальному закону решение этого уравнения возможно только численными методами на ЭВМ. Приближенно можно полагать, что при т. е. в период, когда через ДС протекает максимальный ток, плотность заряда в базе ДС соот­ ветствует квазистационарному случаю и ориентировочно опреде-

153

ляется из (6.18)

с заменой /г, 5а* и та2* на I F M , 5ад

и та2д*

За­

тем ток через диод спадает со скоростью

 

 

 

 

и0=$5 (/у -j- I F M ) шCOS ш/0 = шК (1 Н- / F M I 7г)г — 1 •

(7.33)

Плотность заряда <32д &)

рассчитывается при этом из (6.19)

при

z = zv где

 

 

 

 

 

 

 

* ,= 2^

‘Д- ( 2 / ^

) - ’ .

 

(7.34)

а коэффициент С по-прежнему рассчитывается из (6.20),

причем

г. =

S.'fl [(2 У с , 4 д Г

+ /™ /5 1 д Р

(7.35)

Плотность заряда

Q2fl(/,) может быть рассчитана также по (6.22)

с заменой tj2 на т’ 2Д и t0 на {t3 —QI2.

 

Плотность заряда

8Q2д (ts), проникающего из ДС

через ТЗ

в базу Л1 ТС (рис. 7.7), рассчитывается по формулам

работы

[7.12], в которой аналогичный расчет выполнен для симметрично­

го тиристора. Взаимосвязь плотности заряда

Фгд(0 на границе

ДС и ТЗ с плотностью заряда

8Q2fl(J,)

на границе ТС и ТЗ

описывается выражением

 

 

К= 2 In [(У Т + V T + J ,)I{V ^ + К Г + й )] +

+ К Щ / л -

У У Т Ч у»

(7.36)

где /„ = /тз/(261тз) — нормированная ширина ТЗ; 1тз— амбиполярная диффузионная длина электронов и дырок в базе пх ТЗ; у0= = ^ гд^ Я ^ о^а)—'Нормированная плотность заряда на границе ДС

и ТЗ; уг = йфд&УО^оН^) — нормированная

плотность

заряда

на

границе ТС и ТЗ.

 

 

 

Схематически распределение плотности

избыточных зарядов

в базах различных секций тиристора-диода

в момент

времени

h

изображено на рис. 7.7,6.

 

 

 

Очевидно, что если 8Q2A(/3) < Qa(^3). т0 ДС не влияет на время выключения ТС. Расчет tq выполняется при этом по (7.20). Если же 8Q2fl(#3)> Q 2(^). то расчет tq выполняется по этой же формуле с за­ меной Qa(t3) на 8<3гд (ta).

Рассмотрим в качестве примера расчет времени выключения асимметричного тиристора со следующими значениями парамет­

ров: Sa= 2,l

см2; И72=250

мкм; №3=60 мкм;

P7i=45

мкм

при

Nо=5,56-1013

см~3 (р„=90

ОМ‘ См) и

\H7i=50 мкм при

Nо = 2,5Х

ХЮ 13 см- 3

(рд=200 Ом-см); тР2 = 6

мкс

(при

низких

уровнях

инжекции в базе Л1);тр1= т 713=Змкс;'ГА2=

1 0 мкс;тл1= т /13=

5 мкс;

154

Р„, Ом см

д. , Ом-см»

R . , Ом см»

Уровень

Время выключения, мкс

инжекции

Модель 1|Модель 2 |Модель 3

 

is

 

в базе

90

2,25

оо

Низкий

77

53

38

90

2,25

оо

Высокий

99

74

54

90

2,25

10

Низкий

73

48

ЗЬ

90

2,25

10

Высокий

85

60

44

200

2,25

оо

200

2,25

10

112

87

64

200

1,0

оо

95

70

51

200

1,0

10

83

59

43

В/см; £ 03*^25

В/см; JsiJsz— 1,75*10 ^ A /C M 2J 7 s / , = / e / , —

=2,4* 10-5 А/см2;Я/,=2,25 или 1 Ом*см2;Я/,—*■ooили/?/, =

ЮОм-см2.

Значения всех параметров, зависящих от температуры, соот­

ветствуют

400 К. Напряжение

переключения

рассматриваемого

асимметричного тиристора равно приблизительно 2500 В при ря= = 90 Ом-см и 3400 В при р„=200 Ом-см, что примерно в 1,5 и 2 раза выше напряжения переключения обычного тиристора такой же толщины, рассмотренного в § 6.2.

Расчеты выполнены для следующего режима выключения ти­ ристора: 1Т= 250 А; с0=25 А/мкс; du/dt= 100 В/мкс; UD= = 1500 B <C /CM*t=2500 В при р„=90 Ом-см и UD= 2000 В > £ /сн^ =ьЛ150 В при рп=200 Ом-см. Рассматривались три модели тири­ стора: линейная (модель 1), соответствующая исследованной в [7.3, 7.5], нелинейная (модель 2), учитывающая эффекты, рас­ смотренные в § 6.2 и 7.2, только на этапе спада тока в открытом состоянии, и нелинейная (модель 3), учитывающая рассмотренные в § 6.2 и 7.2 эффекты как на этапе спада тока, так и на этапе обратного смещения тиристора.

Результаты расчета представлены в таблице, причем в графе 4 указан принятый при расчетах уровень инжекции в базе П\ на пос­ леднем этапе процесса выключения — на этапе нарастания анод­ ного напряжения.

Из таблицы следует что в рассмотренных примерах расчета

учет

эффектов, описанных в § 6.2 и 7.2, приводит к уменьшению

tq примерно на 30—50%

на этапе спада тока и еще примерно на

40%

на этапе обратного

смещения тиристора.

Рис. 7.8. Расчетная (---------- ) и экспериментальная ( # ) зависимо­ сти времени выключения тиристо­ ра диода от амплитуды импульса тока через диодную секцию IPH

/

' i

*• 4

*

600 №%Гр„,А

155

При p„ = 200 Ом-см, Rj3= 2,25 См-см2 иЯ/. — оо тиристор в рас­

смотренном

режиме не

выключается

(принятое

значение

du/dt =

= 100 В/’мкс

превышает

критическую

скорость

нарастания

напря­

жения при этих параметрах). Однако при fy ,= 10 Ом-см2 и особенно

при Rj3= 1 Ом-см2 значения tqдля тиристоров с pw= 200 и 90

Ом-см

практически совпадают между собой.

 

из [7.10] расчетная

На рис. 7.8 изображена заимствованная

зависимость ^(/™ ) для тиристора-диода

со следующими

значе­

ниями параметров: Sa= 2,l

см2; 5оЛ=0,95

см2; тР2=3,5 мкс;

1Г2=

=240 мкм; Ц73«&60 мкм;

Тлз=1

м кс;/тз=

1,75 мм; р„=80 Ом-см.

Режимы выключения: / т=

340 А;

17о=1000 В; du/dt=\00 В/мкс;

7=300 К. На этом же рисунке

приведены

экспериментальные

данные для тиристора-диода с параметрами, близкими к примя­ тым при расчетах. Видно, что расчетные и экспериментальные данные хорошо совпадают между собой. При /™ ^ 500 А выпол­ няется условие 8Q2fl(f3)^ Q 2(<3).

Глава в о с ь м а я

ПРИМЕРЫ ПРОЕКТИРОВАНИЯ И РАСЧЕТА СИЛОВЫХ ТИРИСТОРОВ

8.1. ПАКЕТ ПРИКЛАДНЫХ ПРОГРАММ ДЛЯ АВТОМАТИЗИРОВАННОГО ПРОЕКТИРОВАНИЯ СИЛОВЫХ ТИРИСТОРОВ ПРОТИ

Описанные в предыдущих главах модели основных характери­ стик силовых тиристоров и диодов можно использовать для ана­ лиза и синтеза структуры СПП|.

Программы анализа позволяют рассчитать электрические и эксплуатационные характеристики по известным, электрофизиче­ ским параметрам многослойной структуры и конструкции. В хо­ де работы с этими программами обычно ставится цель исследо­ вать зависимость тех или иных характеристик от внутренних параметров структуры, изучить влияние различных факторов (на­ пример, толщины базы, времени жизни подвижных носителей за­ ряда, удельного сопротивления кремния и др.) на статические и динамические параметры тиристоров, токи аварийной перегрузки.

Программы синтеза позволяют определить оптимальные пара­ метры кремниевой многослойной структуры, конструкцию прибора. Ниже будет рассмотрен пакет программ для проектирования ти­ ристоров ПРОТИ.

НАЗНАЧЕНИЕ И ВОЗМОЖНОСТИ ПАКЕТА ПРОГРАММ ПРОТИ

Пакет программ ПРОТИ предназначен для решения задачи синтеза р-п-р-п структуры тиристора по заданным требованиям к его электрическим характеристикам.' Пакет может быть исполь1 зован на различных этапах процесса проектирования, в том чис-

156

ле при анализе физической реализуемости требований проектатехнического задания, при расчете и оптимизации параметров; кремниевой структуры.

Пакет прикладных программ (ППП) ПРОТИ позволяет рас­ считывать следующие параметры кремниевой четырехслойной: структуры [2.7, 8.2]:

время жизни дырок в п-базе тр; толщину кремниевой структуры №Si; толщину n-базы Wn\

удельное сопротивление исходного кремния р; критический заряд включения;

диаметр кремниевой шайбы d\

максимально допустимое значение внутреннего теплового со­ противления структура — корпус $thjc

Ряд параметров кремниевой структуры в настоящее время нерассчитывается и используется в ПРОТИ в качестве исходных данных. Некоторые из них, такие, как параметры распределе­ ния примеси в диффузионных слоях, определяются принятым тех­ нологическим процессом. В ПРОТИ предусмотрена возможность, варьировать значения исходных параметров, что позволяет иссле­ довать их влияние на выходные характеристики тиристора.

В качестве основных исходных данных используются требова­ ния технического задания на следующие характеристики прибора:

повторяющееся напряжение U D R M \

критическая скорость нарастания анодного напряжения-

(dUD/dt)Crif,

время выключения tq.

Требования на остальные характеристики тиристора: ударный ток /уД(/т 5м);

ток аварийной перегрузки /лп в режиме с приложением пря­ мого напряжения;

ток в закрытом состоянии или обратный ток 1DRM, TR R M ; средний ток в открытом состоянии I T A V \

импульсное напряжение в открытом состоянии U TM, учитыва­ ются при выборе диаметра кремниевого диска d. В одном из ва­ риантов процедуры расчета в качестве исходного параметра ис­ пользуется время жизни дырок в n-базе, а не время выключения.

Структурная схема ПРОТИ, на которой указаны основные мо­ дули и их взаимосвязь, показана на рис. 8.1.

Логическая процедура проектирования может быть представ­ лена следующим образом.

1. Значение времени жизни при высоком уровне инжекции тр» приближенно рассчитывается в модуле TAYP из заданного в тех­ ническом задании значения времени выключения или задается как входной параметр.

2. По заданному значению повторяющегося напряжения при известной глубине залегания центрального р-п перехода х,- и по-

157Г

верхностной концентрации алюминия Ns (входные параметры) находится удельное сопротивление исходного кремния р.

3. По рассчитанному в модуле TAYP значению времени жизни дырок при низком уровне инжекции три в модуле NBASE рассчи­ тывается толщина я-базы Wn и кремниевой структуры l^si.

4. В модуле ОВТОК рассчитывается плотность обратного то­ ка (тока утечки) тиристора.

5.Рассчитывается плотность ударного тока (в модуле BREAK) или тока аварийной перегрузки (в модуле АРТОК).

6.По заданной в техническом задании максимальной вели­ чине (dUD/dt)cTit в модуле QKRIT рассчитывается критический

заряд включения QKP.

и потери ак­

7. Задаются площадь управляющего электрода

тивной площади на технологическую шунтировку.

I D R M в модуле

8. Для заданных значений I TA V , I T S M , I A U U T M ,

AREA рассчитывается диаметр кремниевого диска d и активная площадь прибора SA.

15 8

9. Для выбранного диаметра структуры d и для нескольких значений d в ряду диаметров, рекомендованных для использова­

ния в производстве СПП, рассчитываются

значения

UTM, IDRM,

ITSM,

/ ап

RThfc, $th*c— это максимально допустимое значе­

ние теплового

сопротивления

структура — корпус,

при котором

перегрев

при

токе I TA V не

превышает

заданную

величину А Т

(обычно

40 °С) при принятом диаметре структуры d.

10.В модуле TBVK для выбранного d и рассчитанного значе­ ния QKp определяется время выключения tq.

11.При необходимости по результатам п.10 проводится кор­ ректировка Хрв и расчет повторяется.

В ПРОТИ предусмотрен также другой вариант расчета, в ко­ тором диаметр кремниевой структуры не определяется, а являет­ ся входным параметром, и по заданному значению Rthjc находит­ ся предельный ток.

Рассмотрим более подробно модули ППП ПРОТИ.

СОСТАВ ПАКЕТА ПРОТИ

Модуль расчета параметров п-базы (NBASE).

В

этом модуле используются

соотношения,

приведенные в

гл. 2.

Модуль NBASE позволяет

рассчитывать

толщину п-базы

Wn и удельное сопротивление кремния р по заданным в техниче­ ском задании максимально допустимому повторяющемуся напря­ жению U D R M и времени жизни дырок в n-базе при низком уров­ не инжекции ТрН.

По заданному U D R M можно найти максимальное напряжение UM, которое обычно определяют как 1,33 U DR M • По заданному то­

ку или транзисторному

эффекту /С = /м/ / К0 Mg параметры

Wn

и р могут быть найдены из

(2.44)

или (2.46). Однако из этих

со­

отношений находится множество

Wn и р, позволяющих

получить

требуемое U D R M • Оптимальное решение соответствует

минималь­

ной ширине n-базы, так как в этом случае будут меньше остаточ­ ное падение напряжения и лучше динамические характеристики.

Значения Wn и р,

близкие к оптимальным, в ПРОТИ

находятся

следующим способом [2.7]. Положим

 

 

Ubt=K iU (B0),

(8.1)

где 0 < /C i< l.

Wn используем (2.46). Обозначим

 

Для определения

 

K, = pr.-x.VML,-WSIL,:

 

 

r „ = x „ ( U „ ) + K J .p;

(8.2)

159

!Рнс. 8.2. Зависимость толщины п-ба-

Рис. 8.3. Зависимость

Кг(Ю : „ Л

■ЗЫ ОТ K ]=UJUB0:

 

1 - К > = 0.8; 2 -/< ,= 0 .8 5 ;

2 - К , = 0 .9

*1=0,01 см; Ns= 10“ см-®; d/M= 4 кВ; К=

 

 

 

 

■=100; / - Lp=0,01 см;

2-£,=0.02

см;

 

 

 

 

3 -£,=0,03

см

 

 

 

 

 

:где хя('£/м) — толщина слоя

пространственного заряда

в

n-базе

при напряжении, равном UM.

 

(8.1)

при за­

Задавая различные значения коэффициента К\ в

данном Uи, можно получить различные значения р, которым бу­ дут соответствовать определенные значения Wn из (8.2).

При этом полагается, что для принятого технологического про­ цесса между р и UBO существует однозначное соответствие, так

.как известны глубина залегания р-п перехода, закон распределе­ ния и поверхностная концентрация примеси. На рис. 8.2 показана типичная зависимость Wn(K\). Кривая имеет минимум, соответст­ вующий Kic*0,8-M),85. Этот результат близок к полученному в

[2.15].

Положение минимума совпадает для СПП различных типов и имеет ясный физический смысл. Если /Ci<0,8, то заданному зна­ чению иы соответствуют большие U(Bo) и р, при этом Л1Р(£/М)~ 1 ;

Xnr-'ipвелико; Wn> хп и также велико. Если Ki>0,9, UM^ U Bo, поэтому вследствие умножения дырок Мр(£/м)> 1 , арил: , , неве­ лики. Но вследствие роста MP(UN) коэффициент передачи через

■л-базу schH^n*/^p==schK2

должен уменьшиться [см.

(2.46)], что

приведет к росту Wn, и кривая Wn (Ki) резко

возрастет. Исполь­

зуя (2.17), можно получить связь между Кг, Ki и К:

 

sch Кг= [1 -

ехр 16(К, -1 )1 (1 -

у ) •

(8.3)

На рис. 8.3 построена зависимость Кг (К) при различных зна­ чениях К\. При комнатной температуре К=7м/^коЛ4е>10-г-20. По­ этому для различных Ki Кг=0,25-4-0,5. При предельной темпера-

160

Соседние файлы в папке книги