книги / Микроструктуры интегральной электроники
..pdfструктур на GaAs проанализируем изменение параметра нели нейности в зависимости от толщины слоя с КЯ, температуры, час тоты света и уровня оптического возбуждения [74].
Если в зоне проводимости и валентной зоне устанавливается квазиравновесие при оптическом возбуждении на частоте vo, то связь между коэффициентом поглощения K = K (vo) и плотностью поглощаемого излучения и задается уравнением
- - £ ) ] • |
(4-63) |
Здесь принимается, что спектр испускания |
достаточно узок по |
сравнению с hvo^kT . Дополнительным уравнением, связывающим <3V и &h, служит условие электронейтральности или равенства концентраций возбужденных электронов и дырок.
При больцмайовском распределении электронов и дырок по
уровням и Ь Ж > кТ насыщение поглощения, определяемое |
реком |
бинацией, описывается зависимостью |
|
+ аы |
(4.64) |
где Ко — начальный коэффициент поглощения; а — параметр не линейности. Учет отклонений от больцмановского распределения носителей важен при сильной оптической накачке, а также при наличии протяженных хвостов плотности состояний. Начальный участок насыщения, когда bJS<Z.kT, приближенно описывается фор мулой вида K IK o ^ i—aoU, где а<> не совпадает со значением а.
Д ля рассматриваемого механизма оптических переходов в КЯ находим согласно (4.46)
К0 = |
- т г г т т ' |
2 |
T,mr iH nl. |
(4.65) |
|
я Ь2 Vр d |
п |
i |
нелинейности составляет |
Когда |
выполняется |
(4.64), параметр |
а = |
Ил |
hv0pkT |
где
|
в* 2 |
2«гГя*1 |
|||
|
|
п |
i |
|
|
2 |
2 |
^ / î exP |
hvо — hvni |
||
kT |
|||||
n |
i |
|
|
2 |
2 mri |
Hm |
rtlri |
|
n |
i |
ybj |
6* = y exp |
|
|
|
|
mc |
|
|
2 Ü % Hni |
[ ( |
||
|
n |
i |
|
|
|
tïlc 2 |
®XP ( C$cnlkT) |
|
|
|
n |
|
|
|
Y = ----------------------------------- |
|
|||
'Zmvi |
2 «P ( — %vin/kT) |
|
||
i |
|
n |
|
|
mTj \h v 0 — %g1
rmvi j kT У (4.66)
Коэффициент В учитывает различие эффективных масс электронов я дырок. Его значение в общем случае превышает 2.
Рис. 4.15. Спектр нелинейного поглоще ния при £(=10 (кривая 1) и 20 нм (кривая 2), Т=300К, a'=x\nlh\oç>kT. Пары цифр 11 и 22 указывают на пе реходы с участием подзон тяжелых ды рок с номером п=1 в 2 соответственно, цифры / '/' обозначают переходы с учас тием первой подзоны легких дырок
Согласно (4.66) а скачкообра зно изменяется, когда на частоте возбуждающего света становятся возможными переходы с участи
ем подзон с более высоким «вантовым числом. В промежуточной области спектра а уменьшается экспоненциально с увеличением vo и обратно пропорциональна Т. Резонансный пилообразный вид
спектра |
нелинейною |
поглощения — характерный результат раз |
мерного |
квантования |
(см. рис. 4.15). При оценках учитывались |
(4.3) и (4.45). С уменьшением d спектр нелинейного поглощения сдвигается в коротковолновую область, переходы через подзоны тяжелых и легких дырок разделяются более четче. При этом па раметр нелинейности на переходах 1'1' становится меньше, чем на переходах 11, поэтому насыщение поглощения четко проявляется на частоте, близкой к началу переходов через первую подзону тя желых дырок.
При толщине квантово-размерных слоев GaAs 10 нм в интер вале частот, соответствующих переходам 11, оценки для парамет ра нелинейности при т)л= 0 ,5 дают значения а /и — 20—90 см2*/МВт. Данные того же порядка получены экспериментально в режиме полного экранирования экситонов.
Решение уравнения (4.63) получено для двухзонной модели полупроводника с равными эффективными массами электронов и дырок. Начальный участок насыщения описывается линейной за висимостью К!Ко— 1—аои, где а о ^ а exp (&g/2kT). Д алее выполня ется (4.64) и параметр нелинейности задается (4.66), где В — 2 и нет суммирования по i. На участке полного насыщения поглоще ния должно быть К /К о^ 1/а«и, где аот по порядку величины близ ко к a'=i\nlhvopkT.
Однако в слое полупроводника имеются несовершенства кристаллической решетки, примеси, которые приводят к нарушениям правила отбора по волно вому вектору электрона. Поэтому, несмотря на ступенчатый характер плотно сти состояний (рис. 4.5), спектры поглощения и испускания сглаживаются (см. рис. 4.6). В частности, при нарушении правила отбора коэффициент поглощения
в термодинамическом равновесии задается согласно |
(4.51) функцией |
|||
|
2 . 4 ,2 |
2 |
2 mVi(hVo h vnî) Hni, |
(4.67) |
|
л2 h4 vpd2 |
n |
| |
|
где A прямо пропорционально квадрату матричного элемента дипольного пе |
||||
рехода |
который связан с |Мcv|2. |
|
||
172 |
|
|
|
|
При больцмановской функции заполнения подзон возбужденными носите лями получаем (4.64) с параметром нелинейности
Лл
а = hv0p X
ГV |
V |
|
( * |
|
h vni — й vo \ F |
I *$сп \ , |
|
I |
t |
f |
|
|
|
|
|
|
|
|
, |
2 2 |
% |
, ч |
X |
+ |
у |
* |
' А |
- ' Ш |
» 4 |
,4.68) |
|
- ------------ i ----- £ - Л |
------. |
||||||
X |
2n |
2i |
mVi (hv0 |
hv-ni) Hni |
|
Значение у» как и в (4.66), падает с уменьшением d и Г, а также отношения mjmvh. Лишь в частном случае двух зон, когда mc*=mVyу = 1. Результаты рас чета параметра нелинейности показывают, что спектр нелинейного поглощения гладкий, не имеет пиков, которые проявляются для прямых переходов в КЯ (см. рис. 4.15). В GaAs при толщинах 10—20 нм максимум параметра нели нейности приходится на область переходов ГГ, т. е. с участием 1-й подзоны легких дырок. При Г=300 К оценки дают в максимуме а/uæSO см2/мВт, С уменьшением температуры поглощение насыщается при меньших световых по токах, так как параметр нелинейности возрастает пропорционально Г2.
Таким образ-ом, размерное квантование приводит к резонанс ному спектру нелинейного поглощения для прямых переходов. Н а рушение правила отбора по волновому вектору электрона обус ловливает сглаживание спектра поглощения структур с КЯ.
4.8. ЭЛЕКТРООПТИЧЕСКАЯ |
МОДУЛЯЦИЯ В |
СТРУКТУРАХ |
|
С КВАНТОВЫМИ ЯМАМИ |
|
|
|
Физический принцип |
квантово-размерной электрооптичеокой |
||
модуляции (КРЭМ) проиллюстрируем -на примере отдельной |
КЯ |
||
без учета экситонных эффектов [71]. Д ля |
анализа влияния |
по |
стоянного электрического поля Е на край межэонного поглощения в КЯ GaAs рассмотрим, чем определяется край поглощения в от сутствие электрического доля. Как известно, минимум зоны про
водимости GaAs находится в центре |
зоны Бриллюэна при |
k = Q |
||||
(k — квазиимпульс). Закон дисперсии электронов в |
КЯ в прибли |
|||||
жении эффективной массы имеет вид |
|
|
|
|
||
< е) (fen) = |
#>(0) + |
ft2 k\l2m\. |
|
|
|
(4.69) |
Здесь дискретно |
меняющиеся значения & (е)п (0) |
зависят от |
||||
квантового |
числа п |
(п — целые числа) л определяют положение |
||||
дна каждой |
из квантово-размерных |
электронных подзон; |
т * е— |
|||
= 0,067; то — изотропная эффективная масса |
электрона в |
GaAs: |
||||
k и — квазиимпульс в плоскости слоя |
КЯ- В |
модели прямоуголь |
ной ямы (ПЯ) с бесконечно высокими стенками (ВВС) &{e>n (0) = = n2h 2n2/2m*ed2.
Валентная зона GaAs имеет сложную структуру. Минимум энергии дырок находится в точке k — 0 и с учетом спина четырех
кратно вырожден |
(зоны легких и тяжелых дырок соответственно |
с эффективными |
массами т * т и т * м ) . Поэтому даже в модели |
ПЯ с ВВС полное решение задачи о размерном квантовании ды рок .может быть получено только численными методами. Резуль таты таких расчетов следующие. 1. Понижение симметрии крис талла при переходе от массивного образца к КЯ приводит к сня тию вырождения зон при й = 0 и появлению двух наборов размер ных подзон, соответствующих легким и тяжелым дыркам. К аж дая подзона двукратно вырождена по спину. Выше по энергии (ближе к зоне проводимости) находится первая размерная под зона тяжелых дырок (ем. рис. 4.1). 2. Размерное квантование при
11\\ф0 перепутывает зоны легких и |
тяжелых дырок |
(при й ц = 0 |
|
зоны квантуются независимо). При |
этом эффективные .массы |
в |
|
размерных подзонах для движения |
в плоскости КЯ |
зависят |
от |
номера подзоны и становятся комбинациями эффективных масс легких и тяжелых дырок в массивном GaAs. Такое взаимодей ствие зон особенно велико вблизи точки & ц=0, что приводит к появлению в законах дисперсии отдельных подзон областей с от рицательной эффективной массой при малых значениях k\\. 3. При больших k\\ законы дисперсии дьгрок резко непарабодичны, одна ко .вблизи дна различных подзон, когда энергия продольного дви жения меньше расстояния между экстремумами подзон (малые
k), законы дисперсии дырок в каждой подзоне можно представить
ввиде (4.69). При этом .положение дна у различных дырочных подзон определяется значениями эффективных масс легких и тяж е лых дырок в массивном GaAs в .направлении оси квантования, тогда как продольные массы в подзонах даже для малых k ц слож
ным образом зависят от т*ш и тннТаким образом, из-за .появления нулевых энергий квантования
электронов и дырок край .межзонного поглощения в КЯ при £ = 0 сдвигается в коротковолновую сторону по сравнению с массивным
кристаллом. Минимальная энергия кванта света, |
поглощаемого |
|||
при таком переходе, ft«>min=^,g+ $ Y e)(0) + ^ i (/lh) (0), |
где < % (0 ) |
и |
||
& i(Wl>(0) — положения дна различных первых размерных |
подзон |
|||
соответственно электронов и тяжелых дырок. В модели |
ПЯ |
с |
||
ВВС |
|
|
|
|
|
|
|
(4.70) |
|
где т* гм = 0 ,4 5 т 0 — эффективная масса тяжелой дырки в |
мас |
|||
сивном |
GaAs в направлении z. При d — 10 нм сдвиг края |
погло |
||
щения, |
оцененный по (4.10), составляет 57 мэВ. Д ля ограничен |
ной высоты барьеров в КЯ эта величина уменьшается на несколь ко 1миллиэлектрон-вольт.
Рис. 4.16. Энергетический |
спекгр |
||||||
КЯ: |
|
£=0, Ъ. cûi — минималь |
|||||
а — при |
|||||||
ный |
квант |
света, |
поглощаемый |
||||
при |
межзонных |
переходах; |
б — |
||||
при £=^0; |
<е>(£) |
и |
(£) — |
||||
энергии |
нижних |
размерных |
под |
зон электроно'в и дырок в элек трическом поле. Распределение электронной и дырочной плотнос тей заштриховано
а) |
б) |
Сдвиг края и особенности .в зависимости коэффициента меж зонного поглощения от частоты света, инициированные ступенча тым характером плотности состояний в КЯ, впервые зарегистри рованы в квантово-размерных пленках InSb. Особенности в опти ческом поглощении, связанные с квантовым размерным эффектом, отчетливо регистрируются при -комнатных температурах (см. рис. 4.15).
Управлять энергетическим спектром в КЯ можно с помощью внешних воздействий. Так как в КЯ нулевые энергии размерного квантования частиц зависят от ширины их области локализации, то краем поглощения КЯ можно управлять, меняя ее форму и эф фективную ширину с помощью постоянного электрического поля, направленного по нормали к плоскости КЯ. Принцип КРЭМ про иллюстрирован на рис. 4.16. Кроме энергетического сдвига раз мерных подзон электрическое поле приводит одновременно к про странственному разделению электронной и дырочной плотностей в КЯ (см. рис. 4.16). При этом перекрытие волновых функций электронов <и дырок в координатном пространстве уменьшается, что (приводит к уменьшению коэффициента поглощения.
Для определения величины сдвига края поглощения необходимо найти спектр электронов и дырок в КЯ в электрическом поле, направленном по оси z. Электрическое поле можно считать при этом не за.висящим от координаты по двум причинам. Во-первых, малая концентрация тепловых носителей в GaAs
даже при комнатной температуре |
(<£g (294 К) =«1,435 эВ) слабо экранирует |
электрическое поле. Во-вторых, |
(Id — дебаевская длина экранирования). |
Поэтому уравнение Шрединге|ра для зависящей от г части волновой функции электрона имеет вид уравнения Эйри (е>»0)
Ь2 d? |
(z) |
(4.71) |
— Г - ~ nL i + kl Ez Wn(z)~%nVn (2). |
||
2me |
dz* |
|
Здесь ê?n — энергия, соответствующая дну /i-й размерной электронной подзо ны, отсчитываемая от дна зоны проводимости в массивном кристалле. Движе ние вдоль слоя КЯ свободно и описывается плоской волной. Уравнения, опре деляющие положение дна различных (&ц =0) размерных подзон легких и тя
желых дырок, так же имеют вид (4.71), но с соответствующими параметрами дырок.
В |
области слабых электрических полей, удовлетворяющих условию eFd |
|
|
и &1<ЛЧ для определения сдвига уровней можно воспользоваться те- |
|
орией |
возмущений. В результате оптическая ширина запрещенной зоны |
в КЯ |
в слабом электрическом поле в модели ПЯ с ВВС дается выражением |
[87] |
(4.72)
Из (4.72) следует, что при наложении слабого поперечного электрического поля край поглощения в КЯ сдвигается в длинноволновую сторону, причем сдвиг появляется во втором порядке теории возмущений и пропорционален квадра ту поля.
В |
случае сильных электрических |
полей, |
когда eEd порядка |
или |
больше <§i(e) и e y w , уравнение |
(4.71) |
для электронов и ана |
логичное уравнение для дырок решается численно по следующей схеме. Общее решение уравнения Эйри (4.71) имеет вид
Y„e) (2) = С\е) Ai (ZIP) + Cie) Bi ( й е)),
где Аг (Z) и B{ (Z) — функции Эйри;
(4.73)
Выбирая начало координат в середине КЯ и удовлетворяя в мо дели ПЯ с ВВС граничным условиям ^ e'>n (± df2) = 0 , получаем дисперсионное уравнение для нахождения положений дна раз личных размерных подзон в электрическом поле:
At ( Zÿ>) В, (Z<f>) - At (Z<?) Bi (Z<f>) = 0, |
|
|
где Z<e>+ |
и Z<e)_ соответствуют Z — ± d /2 |
в (4.73). Д ля каждого |
значения |
отношение постоянных СЩ |
и С2(е>имеет вид |
C[e)lC[e)= —At (zlp)lB i (Zÿ}) = - A i ( Z ie))lBi (zif’).
В реальной КЯ барьеры, ограничивающие движение электро нов и дырок, имеют конечную высоту. Это приводит к понижению энергии размерных подзон из-за туннельного проникновения вол новых функций частиц под барьеры. В присутствии электрическо го поля в КЯ с барьерами конечной высоты нет стационарных со стояний, так как потенциальная энергия электрона (4.71) стано вится отрицательной и большой по абсолютной величине для больших отрицательных значений г. При этом возможно туннели рование частиц из КЯ через барьер, пониженный электрическим полем. Однако если Е удовлетворяет неравенству [87]
eEdlq0 < haql/2m* d2, |
(4.74) |
где q0 - - характерный безразмерный волновой вектор
то состояния в КЯ можно считать 'нвазистапронарными. Выполне ние неравенства (4.74) означает, что волновая функция частицы затухает иод барьером таким образом, что ее амплитуда стано вится пренебрежимо малой в области, где понижение барьера под
действием |
поля значительно. В (4.75) U0 |
— высота |
барьера, |
— |
положение нижней размерной подзоны в |
КЯ. Для |
КЯ GaAs |
при |
|
d = 10 нм |
неравенство (4.74) выполняется |
вплоть до |
£ ^ 1 0 5 В/см. |
Чтобы «вазистационарными можно было считать состояние элек
тронов и дырок, неравенство должно |
выполняться одновременно |
||||
для iex и других |
частиц (при этом в |
(4.75) |
Uo= Ue, Uh, |
т * = т е, |
|
шгы*). |
|
|
|
|
и тя |
Положения нижних размерных подзон электронов |
|||||
желых дырок |
найденные |
из решений |
уравнений |
(4.71) с |
|
соответствующими |
граничными |
условиями, |
определяют |
оптиче |
скую ширину запрещенной зоны КЯ в поперечном электрическом поле:
Ь ю2 = - \e\EA + (Е) + »{«) (Е). (4.76)
Здесь энергии <ÜYe) и & i(hk^ отсчитываются от минимумов потен циальных ям электронов и дырок в электрическом поле (см. рис. 4.16,6). Расчет показывает, что край межзонного поглощения КЯ в поперечном электрическом ноле сдвигается в длинноволновую часть спектра (§ 4.7).
4.9. ЭКРАНИРОВАНИЕ В КВАНТОВОЙ ЯМЕ ПРИ ПЕРЕНОСЕ НОСИТЕЛЕЙ
В КЯ постоянство плотности состояний обеспечивает неизмен ность длины экранирования носителей La при заполнении отдель ной подзоны уровней. С заполнением вышележащих подзон дли на экранирования падает. Связанные состояния не образуются, когда длина экранирования становится сравнимой с боровским радиусом экситона. В' результате квазидвумерные экситоны су ществуют лишь при не очень сильном заполнении первых подзон электронов или дырок. Изучены изменения Le при различных па раметрах КЯ f74]. При наличии носителей одного типа, напри мер электронов, длина экранирования Ьэ связана с кинетическим параметром D/ц — отношением коэффициента диффузии D к по движности ц:
Le = LD |
- kT |
Здесь Ld = V ekT/4ite2n — длина экранирования Дебая. В обоб щенном виде отношение D/[i задается выражением e D l ^ n ( d t ildn),
где п — концентрация электронов; £ — химический .потенциал, рав ный <Sг —<§со-
При одномерном ограничении, когда, например, тонкий слой уз козонного 'полупроводника заключен между широкозонными эмит
терами |
(см. .рис. 4.1), отношение между D и р имеет вид |
||||
£ |
2 |
In ( 1 + |
ехр |
С -» * |
|
kT п |
V |
|
kT |
(4.77) |
|
|
|
|
|
|
|
Р |
|
1 + ехр %сп — £ \ 3 |
|||
|
2 |
( |
|
kT |
Г |
|
п |
\ |
|
|
При больцмановском заполнении состояний в зоне проводимости (4.77) дает (D/ц) =kT/e. С увеличением концентрации п значение Dfn при достаточно низких Т может уменьшиться в результате заполнения высоколежащих подзон. В частности, скачок П//р с за
полнением 2-й подзоны достигает в пределе величины |
(ё?С2—&с\) / |
||||
2е, которая зависит от толщины слоя d как d r2. |
|
|
|
||
В структурах типа квантовой проволоки, когда осуществляется |
|||||
двухмерное ограничение, выполняется |
|
|
|
||
£ |
2 F - m \(l-^cni)lkT\ |
|
|
|
|
kT n, I_________________ |
|
(4.78) |
|||
Р |
e 2 ï ^ M - V c n ù i m |
|
|||
|
|
|
|||
|
n, I |
|
|
|
|
Согласно (4.78) при низких |
Т с увеличением |
£ значение D]\i |
ос |
||
циллирует. Эти изменения D/ц связаны с характером |
зависимо |
||||
сти средней энергии электронов от концентрации и |
аналогичны |
||||
осцилляциям D/p. в квантующем магнитном |
поле. |
Предельный |
|||
скачок |
D/n при заполнении |
2-й подзоны составляет 2 (&'C2i—éfcii)/ |
|||
е, если структура в сечении |
имеет размеры W ^ d . |
|
|
||
Численные оценки проведены для слоя GaAs. Как видно |
из |
||||
рис. 4.17, аномальное поведение D/ц следует учитывать при Т ни |
|||||
же 80 К я концентрации электронов порядка |
1018 см-3. Осцилля- |
L3/Lg
Рис. 4.17. Зависимость отношения Dip, от положения уровня Ферми £ в зоне проводимости GaAs при d— —20 нм
Рис. 4.18. Изменение длины экрани рования La с заполнением зоны про водимости GaAs при d=20 нм
дни Df\i становятся сильно выраженными с понижением размер ности электронного газа. Реш ая уравнение Больцмана в прибли жении времени релаксации, удается установить функциональную зависимость подвижности 'носителей ц от толщины КЯ или сече ния квантовой проволоки. Поскольку частота рассеяния носите лей прямо пропорциональна плотности конечных состояний, то эффективное время релаксации т линейно связано с толщиной d.
Для квантовой проволоки имеем х ~ d W . При этом |
зависимость х |
||||
от Т ослабевает с понижением размерности |
электронного |
газа. |
|||
Когда, например, квадрат матричного элемента |
рассеяния |
на |
|||
фононах пропорционален Т, то т ~ 7 ’_9/2, где |
q — порядок размер |
||||
ности |
системы: q = 3 в объемном кристалле, |
q = 2 |
в тонком |
слое, |
|
q = 1 |
в квантовой |
проволоке. Хотя время релаксации т, а следо |
|||
вательно, и р ~ т |
падают с уменьшением толщины d, оценки дают, |
что подвижность электронов в слоях с d порядка 10 нм при упру гом рассеянии на акустических фононах остается существенно большой но сравнению с р, в объеме кристалла, где важно рассея ние электронов на примесях. При уменьшении в квантовой про волоке W до 10 нм значение р, все еще остается достаточно боль шим.
С заполнением подзон происходят осцилляции х и р,. В ряде случаев надо учитывать вклад других механизмов рассеяния. Однако в условиях статистического квазиравновесия это не отра зится на отношении D/ц и длине экранирования L3.
Как видно из рис. 4.18, при достаточно низких температурах в
изменении La проявляется ступенчатообразный характер |
плотно |
|||
сти состояний |
в КЯ. В предельном случае Т = 0 имеем |
>1э= |
||
= L q /V п с, где |
Lo= V e h 2d/4e2mc— длина |
экранирования |
при за |
|
полнении 1-й подзоны электронов, когда |
Ç > £ ciî пс— номер |
выс |
шей подзоны, начальный уровень которой пересек уровень Ферми. Если концентрация электронов задана, то значение Пс будет скач ком изменяться с изменением толщины слоя d, что вызовет ос цилляции длины экранирования L9 (рис. 4.19).
Вклад дырок в экранирование приводит к появлению дополни тельных осцилляций длины экранирования при заполнении подзон тяжелых и легких дырок. В условиях линейного экранирования
— = = = = = |
tJlyl |
(4.79) |
||
l / |
. |
m»h |
nvl |
|
у |
«С + |
-----nvh |
mc |
|
|
|
mc |
|
где nVh и nvi — значения высших заполненных подзон тяжелых и легких дырок соответственно.
Если боровский радиус экситона попадает в интервал, пере крывающийся с областью ступенчатообразного изменения длины •кранирования, то вариации толщины d, концентрации носителей Или температуры могут сопровождаться резким изменением энер гии связи экситона и экситонной полосы поглощения. Условия на-
1~д/Ц |
Рис. 4.19. Осцилляции длины экра |
|||||
нирования Ь9 с толщиной слоя d при |
||||||
|
различной |
концентрации |
электронов |
|||
|
в GaAs. |
|
|
|
|
|
|
Значения L.JLq в объеме GaAs показаны |
|||||
|
справа |
при |
Ь0=6,87 |
нм, |
8=12,5; |
d— |
|
=20 нм; т с=0,07те |
|
|
|
||
|
блюдения данного эффекта |
ог |
||||
|
раничены |
предельно |
низкими |
|||
|
температурами |
и |
толщиной |
|||
0'------j -----f0-----js 20 d, нг. |
слоя не менее 8 нм. |
|
|
|||
Таким |
образом, |
равномер |
||||
|
ное |
квантование |
приводит к |
осцилляциям отношения кинетических параметров: коэффициента диффузии D и подвижности ц. Аномальное поведение D/ц прояв ляется при Т ниже 80 К и вырожденном заполнении подзон. Со путствующее этому ступенчатое уменьшение длины экранирования может вызвать резкое изменение экситонной полосы поглощения.
4.10. РЕЗОНАНСНОЕ ТУННЕЛИРОВАНИЕ ЭЛЕКТРОНОВ ЧЕРЕЗ СИСТЕМУ БАРЬЕРОВ
В многослойной структуре с ограниченным числом слоев (пе риодов), каждый из которых меньше длины свободного пробега электрона, рассмотрим туннелирование электронов через систему барьеров [88]. Пусть многослойная структура расположена меж
ду слоями |
п+-полупроводника — омическими контактами |
(рис. |
||
4.20). Например, |
слои |
л+-полупроводника-/г+=СаА 8 с и |'« 1 0 17 |
||
см~3, |
0,005 |
эВ, |
а периодически расположенные |
слои |
Ga0,5Alo,5As создают барьеры высотой <рь~0,5 эВ. Протяженность структуры — I. Д ля туннелирования в многобарьерной структуре, используя аппроксимацию эффективной массы, уравнение Шре-
дингера для периодического потенциала U (x), где х взято |
в на |
правлении мультибарьеров, общую энергию электронов $ |
запи |
шем, как сумму продольных и поперечных энергий: |
|
% = Щ(и) + Ьг ку2пг* |
(4.80) |
Ряс. 4.20. Ход потенциала в СР длиной I: a) eU=0; 6) еЦф0