Добавил:
Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:

книги / Микроструктуры интегральной электроники

..pdf
Скачиваний:
2
Добавлен:
12.11.2023
Размер:
20.63 Mб
Скачать

структур на GaAs проанализируем изменение параметра нели­ нейности в зависимости от толщины слоя с КЯ, температуры, час­ тоты света и уровня оптического возбуждения [74].

Если в зоне проводимости и валентной зоне устанавливается квазиравновесие при оптическом возбуждении на частоте vo, то связь между коэффициентом поглощения K = K (vo) и плотностью поглощаемого излучения и задается уравнением

- - £ ) ] •

(4-63)

Здесь принимается, что спектр испускания

достаточно узок по

сравнению с hvo^kT . Дополнительным уравнением, связывающим <3V и &h, служит условие электронейтральности или равенства концентраций возбужденных электронов и дырок.

При больцмайовском распределении электронов и дырок по

уровням и Ь Ж > кТ насыщение поглощения, определяемое

реком­

бинацией, описывается зависимостью

 

+ аы

(4.64)

где Ко — начальный коэффициент поглощения; а — параметр не­ линейности. Учет отклонений от больцмановского распределения носителей важен при сильной оптической накачке, а также при наличии протяженных хвостов плотности состояний. Начальный участок насыщения, когда bJS<Z.kT, приближенно описывается фор­ мулой вида K IK o ^ i—aoU, где а<> не совпадает со значением а.

Д ля рассматриваемого механизма оптических переходов в КЯ находим согласно (4.46)

К0 =

- т г г т т '

2

T,mr iH nl.

(4.65)

 

я Ь2 Vр d

п

i

нелинейности составляет

Когда

выполняется

(4.64), параметр

а =

Ил

hv0pkT

где

 

в* 2

2«гГя*1

 

 

п

i

 

2

2

^ / î exP

hvо — hvni

kT

n

i

 

 

2

2 mri

Hm

rtlri

n

i

ybj

6* = y exp

 

 

 

mc

 

2 Ü % Hni

[ (

 

n

i

 

 

 

tïlc 2

®XP ( C$cnlkT)

 

 

n

 

 

 

Y = -----------------------------------

 

'Zmvi

2 «P ( — %vin/kT)

 

i

 

n

 

 

mTj \h v 0 — %g1

rmvi j kT У (4.66)

Коэффициент В учитывает различие эффективных масс электронов я дырок. Его значение в общем случае превышает 2.

Рис. 4.15. Спектр нелинейного поглоще­ ния при £(=10 (кривая 1) и 20 нм (кривая 2), Т=300К, a'=x\nlh\oç>kT. Пары цифр 11 и 22 указывают на пе­ реходы с участием подзон тяжелых ды­ рок с номером п=1 в 2 соответственно, цифры / '/' обозначают переходы с учас­ тием первой подзоны легких дырок

Согласно (4.66) а скачкообра­ зно изменяется, когда на частоте возбуждающего света становятся возможными переходы с участи­

ем подзон с более высоким «вантовым числом. В промежуточной области спектра а уменьшается экспоненциально с увеличением vo и обратно пропорциональна Т. Резонансный пилообразный вид

спектра

нелинейною

поглощения — характерный результат раз­

мерного

квантования

(см. рис. 4.15). При оценках учитывались

(4.3) и (4.45). С уменьшением d спектр нелинейного поглощения сдвигается в коротковолновую область, переходы через подзоны тяжелых и легких дырок разделяются более четче. При этом па­ раметр нелинейности на переходах 1'1' становится меньше, чем на переходах 11, поэтому насыщение поглощения четко проявляется на частоте, близкой к началу переходов через первую подзону тя­ желых дырок.

При толщине квантово-размерных слоев GaAs 10 нм в интер­ вале частот, соответствующих переходам 11, оценки для парамет­ ра нелинейности при т)л= 0 ,5 дают значения а /и — 20—90 см2*/МВт. Данные того же порядка получены экспериментально в режиме полного экранирования экситонов.

Решение уравнения (4.63) получено для двухзонной модели полупроводника с равными эффективными массами электронов и дырок. Начальный участок насыщения описывается линейной за­ висимостью К!Ко— 1—аои, где а о ^ а exp (&g/2kT). Д алее выполня­ ется (4.64) и параметр нелинейности задается (4.66), где В — 2 и нет суммирования по i. На участке полного насыщения поглоще­ ния должно быть К /К о^ 1/а«и, где аот по порядку величины близ­ ко к a'=i\nlhvopkT.

Однако в слое полупроводника имеются несовершенства кристаллической решетки, примеси, которые приводят к нарушениям правила отбора по волно­ вому вектору электрона. Поэтому, несмотря на ступенчатый характер плотно­ сти состояний (рис. 4.5), спектры поглощения и испускания сглаживаются (см. рис. 4.6). В частности, при нарушении правила отбора коэффициент поглощения

в термодинамическом равновесии задается согласно

(4.51) функцией

 

2 . 4 ,2

2

2 mVi(hVo h vnî) Hni,

(4.67)

 

л2 h4 vpd2

n

|

 

где A прямо пропорционально квадрату матричного элемента дипольного пе­

рехода

который связан с |Мcv|2.

 

172

 

 

 

 

При больцмановской функции заполнения подзон возбужденными носите­ лями получаем (4.64) с параметром нелинейности

Лл

а = hv0p X

ГV

V

 

( *

 

h vni — й vo \ F

I *$сп \ ,

I

t

f

 

 

 

 

 

 

 

 

,

2 2

%

, ч

X

+

у

*

' А

- ' Ш

» 4

,4.68)

- ------------ i ----- £ - Л

------.

X

2n

2i

mVi (hv0

hv-ni) Hni

 

Значение у» как и в (4.66), падает с уменьшением d и Г, а также отношения mjmvh. Лишь в частном случае двух зон, когда mc*=mVyу = 1. Результаты рас­ чета параметра нелинейности показывают, что спектр нелинейного поглощения гладкий, не имеет пиков, которые проявляются для прямых переходов в КЯ (см. рис. 4.15). В GaAs при толщинах 10—20 нм максимум параметра нели­ нейности приходится на область переходов ГГ, т. е. с участием 1-й подзоны легких дырок. При Г=300 К оценки дают в максимуме а/uæSO см2/мВт, С уменьшением температуры поглощение насыщается при меньших световых по­ токах, так как параметр нелинейности возрастает пропорционально Г2.

Таким образ-ом, размерное квантование приводит к резонанс­ ному спектру нелинейного поглощения для прямых переходов. Н а­ рушение правила отбора по волновому вектору электрона обус­ ловливает сглаживание спектра поглощения структур с КЯ.

4.8. ЭЛЕКТРООПТИЧЕСКАЯ

МОДУЛЯЦИЯ В

СТРУКТУРАХ

 

С КВАНТОВЫМИ ЯМАМИ

 

 

 

Физический принцип

квантово-размерной электрооптичеокой

модуляции (КРЭМ) проиллюстрируем -на примере отдельной

КЯ

без учета экситонных эффектов [71]. Д ля

анализа влияния

по­

стоянного электрического поля Е на край межэонного поглощения в КЯ GaAs рассмотрим, чем определяется край поглощения в от­ сутствие электрического доля. Как известно, минимум зоны про­

водимости GaAs находится в центре

зоны Бриллюэна при

k = Q

(k — квазиимпульс). Закон дисперсии электронов в

КЯ в прибли­

жении эффективной массы имеет вид

 

 

 

 

< е) (fen) =

#>(0) +

ft2 k\l2m\.

 

 

 

(4.69)

Здесь дискретно

меняющиеся значения & (е)п (0)

зависят от

квантового

числа п

(п — целые числа) л определяют положение

дна каждой

из квантово-размерных

электронных подзон;

т * е—

= 0,067; то — изотропная эффективная масса

электрона в

GaAs:

k и — квазиимпульс в плоскости слоя

КЯ- В

модели прямоуголь­

ной ямы (ПЯ) с бесконечно высокими стенками (ВВС) &{e>n (0) = = n2h 2n2/2m*ed2.

Валентная зона GaAs имеет сложную структуру. Минимум энергии дырок находится в точке k — 0 и с учетом спина четырех­

кратно вырожден

(зоны легких и тяжелых дырок соответственно

с эффективными

массами т * т и т * м ) . Поэтому даже в модели

ПЯ с ВВС полное решение задачи о размерном квантовании ды­ рок .может быть получено только численными методами. Резуль­ таты таких расчетов следующие. 1. Понижение симметрии крис­ талла при переходе от массивного образца к КЯ приводит к сня­ тию вырождения зон при й = 0 и появлению двух наборов размер­ ных подзон, соответствующих легким и тяжелым дыркам. К аж ­ дая подзона двукратно вырождена по спину. Выше по энергии (ближе к зоне проводимости) находится первая размерная под­ зона тяжелых дырок (ем. рис. 4.1). 2. Размерное квантование при

11\\ф0 перепутывает зоны легких и

тяжелых дырок

(при й ц = 0

зоны квантуются независимо). При

этом эффективные .массы

в

размерных подзонах для движения

в плоскости КЯ

зависят

от

номера подзоны и становятся комбинациями эффективных масс легких и тяжелых дырок в массивном GaAs. Такое взаимодей­ ствие зон особенно велико вблизи точки & ц=0, что приводит к появлению в законах дисперсии отдельных подзон областей с от­ рицательной эффективной массой при малых значениях k\\. 3. При больших k\\ законы дисперсии дьгрок резко непарабодичны, одна­ ко .вблизи дна различных подзон, когда энергия продольного дви­ жения меньше расстояния между экстремумами подзон (малые

k), законы дисперсии дырок в каждой подзоне можно представить

ввиде (4.69). При этом .положение дна у различных дырочных подзон определяется значениями эффективных масс легких и тяж е­ лых дырок в массивном GaAs в .направлении оси квантования, тогда как продольные массы в подзонах даже для малых k ц слож ­

ным образом зависят от т*ш и тннТаким образом, из-за .появления нулевых энергий квантования

электронов и дырок край .межзонного поглощения в КЯ при £ = 0 сдвигается в коротковолновую сторону по сравнению с массивным

кристаллом. Минимальная энергия кванта света,

поглощаемого

при таком переходе, ft«>min=^,g+ $ Y e)(0) + ^ i (/lh) (0),

где < % (0 )

и

& i(Wl>(0) — положения дна различных первых размерных

подзон

соответственно электронов и тяжелых дырок. В модели

ПЯ

с

ВВС

 

 

 

 

 

 

 

(4.70)

где т* гм = 0 ,4 5 т 0 — эффективная масса тяжелой дырки в

мас­

сивном

GaAs в направлении z. При d — 10 нм сдвиг края

погло­

щения,

оцененный по (4.10), составляет 57 мэВ. Д ля ограничен­

ной высоты барьеров в КЯ эта величина уменьшается на несколь­ ко 1миллиэлектрон-вольт.

Рис. 4.16. Энергетический

спекгр

КЯ:

 

£=0, Ъ. cûi — минималь­

а — при

ный

квант

света,

поглощаемый

при

межзонных

переходах;

б —

при £=^0;

<е>(£)

и

(£) —

энергии

нижних

размерных

под­

зон электроно'в и дырок в элек­ трическом поле. Распределение электронной и дырочной плотнос­ тей заштриховано

а)

б)

Сдвиг края и особенности .в зависимости коэффициента меж­ зонного поглощения от частоты света, инициированные ступенча­ тым характером плотности состояний в КЯ, впервые зарегистри­ рованы в квантово-размерных пленках InSb. Особенности в опти­ ческом поглощении, связанные с квантовым размерным эффектом, отчетливо регистрируются при -комнатных температурах (см. рис. 4.15).

Управлять энергетическим спектром в КЯ можно с помощью внешних воздействий. Так как в КЯ нулевые энергии размерного квантования частиц зависят от ширины их области локализации, то краем поглощения КЯ можно управлять, меняя ее форму и эф­ фективную ширину с помощью постоянного электрического поля, направленного по нормали к плоскости КЯ. Принцип КРЭМ про­ иллюстрирован на рис. 4.16. Кроме энергетического сдвига раз­ мерных подзон электрическое поле приводит одновременно к про­ странственному разделению электронной и дырочной плотностей в КЯ (см. рис. 4.16). При этом перекрытие волновых функций электронов <и дырок в координатном пространстве уменьшается, что (приводит к уменьшению коэффициента поглощения.

Для определения величины сдвига края поглощения необходимо найти спектр электронов и дырок в КЯ в электрическом поле, направленном по оси z. Электрическое поле можно считать при этом не за.висящим от координаты по двум причинам. Во-первых, малая концентрация тепловых носителей в GaAs

даже при комнатной температуре

(<£g (294 К) =«1,435 эВ) слабо экранирует

электрическое поле. Во-вторых,

(Id — дебаевская длина экранирования).

Поэтому уравнение Шрединге|ра для зависящей от г части волновой функции электрона имеет вид уравнения Эйри (е>»0)

Ь2 d?

(z)

(4.71)

— Г - ~ nL i + kl Ez Wn(z)~%nVn (2).

2me

dz*

 

Здесь ê?n — энергия, соответствующая дну /i-й размерной электронной подзо­ ны, отсчитываемая от дна зоны проводимости в массивном кристалле. Движе­ ние вдоль слоя КЯ свободно и описывается плоской волной. Уравнения, опре­ деляющие положение дна различных (&ц =0) размерных подзон легких и тя­

желых дырок, так же имеют вид (4.71), но с соответствующими параметрами дырок.

В

области слабых электрических полей, удовлетворяющих условию eFd

 

и &1<ЛЧ для определения сдвига уровней можно воспользоваться те-

орией

возмущений. В результате оптическая ширина запрещенной зоны

в КЯ

в слабом электрическом поле в модели ПЯ с ВВС дается выражением

[87]

(4.72)

Из (4.72) следует, что при наложении слабого поперечного электрического поля край поглощения в КЯ сдвигается в длинноволновую сторону, причем сдвиг появляется во втором порядке теории возмущений и пропорционален квадра­ ту поля.

В

случае сильных электрических

полей,

когда eEd порядка

или

больше <§i(e) и e y w , уравнение

(4.71)

для электронов и ана­

логичное уравнение для дырок решается численно по следующей схеме. Общее решение уравнения Эйри (4.71) имеет вид

Y„e) (2) = С\е) Ai (ZIP) + Cie) Bi ( й е)),

где Аг (Z) и B{ (Z) — функции Эйри;

(4.73)

Выбирая начало координат в середине КЯ и удовлетворяя в мо­ дели ПЯ с ВВС граничным условиям ^ e'>n (± df2) = 0 , получаем дисперсионное уравнение для нахождения положений дна раз­ личных размерных подзон в электрическом поле:

At ( Zÿ>) В, (Z<f>) - At (Z<?) Bi (Z<f>) = 0,

 

где Z<e>+

и Z<e)_ соответствуют Z — ± d /2

в (4.73). Д ля каждого

значения

отношение постоянных СЩ

и С2(е>имеет вид

C[e)lC[e)= —At (zlp)lB i (Zÿ}) = - A i ( Z ie))lBi (zif’).

В реальной КЯ барьеры, ограничивающие движение электро­ нов и дырок, имеют конечную высоту. Это приводит к понижению энергии размерных подзон из-за туннельного проникновения вол­ новых функций частиц под барьеры. В присутствии электрическо­ го поля в КЯ с барьерами конечной высоты нет стационарных со­ стояний, так как потенциальная энергия электрона (4.71) стано­ вится отрицательной и большой по абсолютной величине для больших отрицательных значений г. При этом возможно туннели­ рование частиц из КЯ через барьер, пониженный электрическим полем. Однако если Е удовлетворяет неравенству [87]

eEdlq0 < haql/2m* d2,

(4.74)

где q0 - - характерный безразмерный волновой вектор

то состояния в КЯ можно считать 'нвазистапронарными. Выполне­ ние неравенства (4.74) означает, что волновая функция частицы затухает иод барьером таким образом, что ее амплитуда стано­ вится пренебрежимо малой в области, где понижение барьера под

действием

поля значительно. В (4.75) U0

— высота

барьера,

положение нижней размерной подзоны в

КЯ. Для

КЯ GaAs

при

d = 10 нм

неравенство (4.74) выполняется

вплоть до

£ ^ 1 0 5 В/см.

Чтобы «вазистационарными можно было считать состояние элек­

тронов и дырок, неравенство должно

выполняться одновременно

для iex и других

частиц (при этом в

(4.75)

Uo= Ue, Uh,

т * = т е,

шгы*).

 

 

 

 

и тя ­

Положения нижних размерных подзон электронов

желых дырок

найденные

из решений

уравнений

(4.71) с

соответствующими

граничными

условиями,

определяют

оптиче­

скую ширину запрещенной зоны КЯ в поперечном электрическом поле:

Ь ю2 = - \e\EA + (Е) + »{«) (Е). (4.76)

Здесь энергии <ÜYe) и & i(hk^ отсчитываются от минимумов потен­ циальных ям электронов и дырок в электрическом поле (см. рис. 4.16,6). Расчет показывает, что край межзонного поглощения КЯ в поперечном электрическом ноле сдвигается в длинноволновую часть спектра (§ 4.7).

4.9. ЭКРАНИРОВАНИЕ В КВАНТОВОЙ ЯМЕ ПРИ ПЕРЕНОСЕ НОСИТЕЛЕЙ

В КЯ постоянство плотности состояний обеспечивает неизмен­ ность длины экранирования носителей La при заполнении отдель­ ной подзоны уровней. С заполнением вышележащих подзон дли­ на экранирования падает. Связанные состояния не образуются, когда длина экранирования становится сравнимой с боровским радиусом экситона. В' результате квазидвумерные экситоны су­ ществуют лишь при не очень сильном заполнении первых подзон электронов или дырок. Изучены изменения Le при различных па­ раметрах КЯ f74]. При наличии носителей одного типа, напри­ мер электронов, длина экранирования Ьэ связана с кинетическим параметром D/ц — отношением коэффициента диффузии D к по­ движности ц:

Le = LD

- kT

Здесь Ld = V ekT/4ite2n — длина экранирования Дебая. В обоб­ щенном виде отношение D/[i задается выражением e D l ^ n ( d t ildn),

где п — концентрация электронов; £ — химический .потенциал, рав­ ный <Sг —<§со-

При одномерном ограничении, когда, например, тонкий слой уз­ козонного 'полупроводника заключен между широкозонными эмит­

терами

(см. .рис. 4.1), отношение между D и р имеет вид

£

2

In ( 1 +

ехр

С -» *

kT п

V

 

kT

(4.77)

 

 

 

 

 

Р

 

1 + ехр %сп — £ \ 3

 

2

(

 

kT

Г

 

п

\

 

 

При больцмановском заполнении состояний в зоне проводимости (4.77) дает (D/ц) =kT/e. С увеличением концентрации п значение Dfn при достаточно низких Т может уменьшиться в результате заполнения высоколежащих подзон. В частности, скачок П//р с за ­

полнением 2-й подзоны достигает в пределе величины

(ё?С2—&с\) /

2е, которая зависит от толщины слоя d как d r2.

 

 

 

В структурах типа квантовой проволоки, когда осуществляется

двухмерное ограничение, выполняется

 

 

 

£

2 F - m \(l-^cni)lkT\

 

 

 

kT n, I_________________

 

(4.78)

Р

e 2 ï ^ M - V c n ù i m

 

 

 

 

 

n, I

 

 

 

 

Согласно (4.78) при низких

Т с увеличением

£ значение D]\i

ос­

циллирует. Эти изменения D/ц связаны с характером

зависимо­

сти средней энергии электронов от концентрации и

аналогичны

осцилляциям D/p. в квантующем магнитном

поле.

Предельный

скачок

D/n при заполнении

2-й подзоны составляет 2 (&'C2i—éfcii)/

е, если структура в сечении

имеет размеры W ^ d .

 

 

Численные оценки проведены для слоя GaAs. Как видно

из

рис. 4.17, аномальное поведение D/ц следует учитывать при Т ни­

же 80 К я концентрации электронов порядка

1018 см-3. Осцилля-

L3/Lg

Рис. 4.17. Зависимость отношения Dip, от положения уровня Ферми £ в зоне проводимости GaAs при d— —20 нм

Рис. 4.18. Изменение длины экрани­ рования La с заполнением зоны про­ водимости GaAs при d=20 нм

дни Df\i становятся сильно выраженными с понижением размер­ ности электронного газа. Реш ая уравнение Больцмана в прибли­ жении времени релаксации, удается установить функциональную зависимость подвижности 'носителей ц от толщины КЯ или сече­ ния квантовой проволоки. Поскольку частота рассеяния носите­ лей прямо пропорциональна плотности конечных состояний, то эффективное время релаксации т линейно связано с толщиной d.

Для квантовой проволоки имеем х ~ d W . При этом

зависимость х

от Т ослабевает с понижением размерности

электронного

газа.

Когда, например, квадрат матричного элемента

рассеяния

на

фононах пропорционален Т, то т ~ 7 ’_9/2, где

q — порядок размер­

ности

системы: q = 3 в объемном кристалле,

q = 2

в тонком

слое,

q = 1

в квантовой

проволоке. Хотя время релаксации т, а следо­

вательно, и р ~ т

падают с уменьшением толщины d, оценки дают,

что подвижность электронов в слоях с d порядка 10 нм при упру­ гом рассеянии на акустических фононах остается существенно большой но сравнению с р, в объеме кристалла, где важно рассея­ ние электронов на примесях. При уменьшении в квантовой про­ волоке W до 10 нм значение р, все еще остается достаточно боль­ шим.

С заполнением подзон происходят осцилляции х и р,. В ряде случаев надо учитывать вклад других механизмов рассеяния. Однако в условиях статистического квазиравновесия это не отра­ зится на отношении D/ц и длине экранирования L3.

Как видно из рис. 4.18, при достаточно низких температурах в

изменении La проявляется ступенчатообразный характер

плотно­

сти состояний

в КЯ. В предельном случае Т = 0 имеем

>1э=

= L q /V п с, где

Lo= V e h 2d/4e2mc— длина

экранирования

при за­

полнении 1-й подзоны электронов, когда

Ç > £ ciî пс— номер

выс­

шей подзоны, начальный уровень которой пересек уровень Ферми. Если концентрация электронов задана, то значение Пс будет скач­ ком изменяться с изменением толщины слоя d, что вызовет ос­ цилляции длины экранирования L9 (рис. 4.19).

Вклад дырок в экранирование приводит к появлению дополни­ тельных осцилляций длины экранирования при заполнении подзон тяжелых и легких дырок. В условиях линейного экранирования

— = = = = =

tJlyl

(4.79)

l /

.

m»h

nvl

у

«С +

-----nvh

mc

 

 

mc

 

где nVh и nvi — значения высших заполненных подзон тяжелых и легких дырок соответственно.

Если боровский радиус экситона попадает в интервал, пере­ крывающийся с областью ступенчатообразного изменения длины •кранирования, то вариации толщины d, концентрации носителей Или температуры могут сопровождаться резким изменением энер­ гии связи экситона и экситонной полосы поглощения. Условия на-

1~д/Ц

Рис. 4.19. Осцилляции длины экра­

нирования Ь9 с толщиной слоя d при

 

различной

концентрации

электронов

 

в GaAs.

 

 

 

 

 

Значения L.JLq в объеме GaAs показаны

 

справа

при

Ь0=6,87

нм,

8=12,5;

d—

 

=20 нм; т с=0,07те

 

 

 

 

блюдения данного эффекта

ог­

 

раничены

предельно

низкими

 

температурами

и

толщиной

0'------j -----f0-----js 20 d, нг.

слоя не менее 8 нм.

 

 

Таким

образом,

равномер­

 

ное

квантование

приводит к

осцилляциям отношения кинетических параметров: коэффициента диффузии D и подвижности ц. Аномальное поведение D/ц прояв­ ляется при Т ниже 80 К и вырожденном заполнении подзон. Со­ путствующее этому ступенчатое уменьшение длины экранирования может вызвать резкое изменение экситонной полосы поглощения.

4.10. РЕЗОНАНСНОЕ ТУННЕЛИРОВАНИЕ ЭЛЕКТРОНОВ ЧЕРЕЗ СИСТЕМУ БАРЬЕРОВ

В многослойной структуре с ограниченным числом слоев (пе­ риодов), каждый из которых меньше длины свободного пробега электрона, рассмотрим туннелирование электронов через систему барьеров [88]. Пусть многослойная структура расположена меж­

ду слоями

п+-полупроводника — омическими контактами

(рис.

4.20). Например,

слои

л+-полупроводника-/г+=СаА 8 с и |'« 1 0 17

см~3,

0,005

эВ,

а периодически расположенные

слои

Ga0,5Alo,5As создают барьеры высотой <рь~0,5 эВ. Протяженность структуры — I. Д ля туннелирования в многобарьерной структуре, используя аппроксимацию эффективной массы, уравнение Шре-

дингера для периодического потенциала U (x), где х взято

в на­

правлении мультибарьеров, общую энергию электронов $

запи­

шем, как сумму продольных и поперечных энергий:

 

% = Щ(и) + Ьг ку2пг*

(4.80)

Ряс. 4.20. Ход потенциала в СР длиной I: a) eU=0; 6) еЦф0

Соседние файлы в папке книги