книги / Математические модели элементов интегральной электроники
..pdfВнешние электрические характеристики и параметры прибора определяются из расчета эквивалентной схемы рис. 2.26, состоящей из конечного числа секций. Для этой цели используются автоматизи рованные программы анализа электрических цепей (34].
Таким образом, моделирование трехмерных полупроводниковых структур производится в два этапа [35].
1. Расчет удельных параметров р—«-переходов /ао, /ко, ль, т к,
/по, |
Сэ, Ск, Сп, поверхностных сопротивлений диффузионных |
слоев |
базы ра и коллектора ри (для активной, пассивной и перифе |
рийной областей) н коэффициентов переноса носителей через актив ную область базы a'jv и a'i. Все эти параметры вычисляются из •решения одномерной системы уравнений (2.1) — (2.7) с помощью чис ленных методов, рассмотренных в § 2.1. Исходной информацией для расчетов являются параметры профиля примеси и электрофизические характеристики материала.
щих распределение потенциалов в областях базы и коллектора.
2. Расчет внешних электрических характеристик на выводах ком понента. Решаются уравнения (2.99) — (2.103), описывающие распре
деления потенциалов в базе <рсэ(/Л z, t) и коллекторе |
фбк(у, z, t) |
с граничными условиями (2.104) — (2.108). Исходной |
информацией |
являются параметры, вычисленные на предыдущем этапе, и размеры топологии.
Рассмотренные в этой главе физико-топологические модели являются эффективным инструментом, с помо щью которого разработчик полупроводникового прибо ра или ИС выбирает материал с необходимыми элек трофизическими свойствами, определяет параметры про филя примеси, геометрические размеры и конфигурацию диффузионных областей и омических контактов.
Обобщая имеющийся опыт использования физико-то пологических моделей в практике проектирования полу проводниковых приборов и ИС, можно сделать следую щие выводы.
1. Моделирование интегральных транзисторов, у ко торых глубины залегания р—/i-переходов значительно меньше размеров топологии, осуществляется в два этапа:
— решение одномерных уравнений (2.1) —(2.7) для определения удельных электрических характеристик по лупроводниковой структуры;
— решение двумерных уравнений (2.99)—(2.103), описывающих распределения электрических потенциалов в диффузионных областях базы и коллектора, и опреде ление на основе полученных результатов выходных па раметров прибора.
На первом этапе для расчета переходных процессов в одномерных структурах используются неявные форму лы численного интегрирования (§ 2.2), Для нахождения статических решений эффективными являются итераци онные методы ньютоновского типа в сочетании с мето дом продолжения решения по параметру (§ 2.2).
На втором этапе численное интегрирование уравне ний (2.99) — (2.103), описывающих нестационарные про цессы, из-за большой размерности двумерной разност ной сетки может быть осуществлено лишь на ЭЦВМ с высоким быстродействием. Расчет статических распре делений потенциалов в плоскости кристалла целесообраз но проводить с помощью метода лоследовательной верх ней релаксации. Причем задача может быть реализована на ЭЦВМ как высокого, так и среднего быстродействия.
2. Расчет транзисторных структур, у которых суще ственную роль играет боковая инжекция р—п-перехо- дов, в частности, вертикальных транзисторов с глубина ми р—/г-переходов, соизмеримыми с размерами тополо гии, и горизонтальных р—п—р-транзисторов, необходимо
осуществлять с помощью двумерных |
моделей, описы |
ваемых уравнениями (2.84) — (2.88). |
К сожалению, су |
ществующие численные методы решения этих уравнений, рассмотренные в § 2.3, имеют ряд ограничений по общности решаемых задач и сходимости. В этой связи разработка эффективных алгоритмов решения двумер ных уравнений (2.84) —(2.88) является важной задачей.
3. При создании программ, предназначенных для расчета и оптимизации компонентов с помощью двух- и трехмерных моделей, следует ориентироваться на бы стродействующие ЭЦВМ типа БЭСМ-6 или ЕС-1040. Некоторые задачи, в основном задачи анализа одномер-
ИЫХ Структур, могут быть решены па ЭЦВМ среднего быстродействия МИНСК-32, М-220, ЕС-1020 и др.
4. В настоящее время в практике машинного проек тирования полупроводниковых приборов и ИС намети лась тенденция к созданию систем автоматического про ектирования. Максимальная интеграция программ в по добных системах может быть достигнута, если для реше ния основных уравнений физики полупроводников, опи сывающих компоненты, использовать методы теории электрических цепей в сочетании с автоматизированны ми программами анализа электронных схем.
В связи с ограниченным объемом книги в настоящей главе не представляется возможным рассмотреть вопро сы программной реализации физико-топологических мо делей на ЭЦВМ. Некоторые сведения по этим вопросам читатель найдет в [36—44].
Глава 3
БИПОЛЯРНЫЕ ЭЛЕМЕНТЫ. ЭЛЕКТРИЧЕСКИЕ МОДЕЛИ
Модели полупроводниковых приборов нашли одно из самых широких применений при машинном расчете электронных схем. Эти так называемые электрические модели должны удовлетворять ряду специфических тре бований.
Во-первых, необходимо, чтобы используемые уравне ния отображали связь между токами и напряжениями на выводах элемента; лишь при этом возможно приме нение модели в известных программах машинного ана лиза электронных схем.
Во-вторых, для облегчения решения схемотехниче ских задач на аналоговых и цифровых вычислительных машинах модели элементов желательно представлять в виде эквивалентных четырехполюсников, описываемых системой обыкновенных дифференциальных уравнений первого порядка.
В-третьих, в качестве параметров модели целесооб разно использовать электрические параметры прибора, такие, как коэффициент передачи по току, параметры вольт-амперных характеристик и емкости р—п-перехо дов, паразитные сопротивления диффузионных областей
ит. п. Эти параметры определяются из стандартных электрических измерений и достаточно хорошо знакомы
ипонятны разработчикам схем.
В-четвертых, должны удовлетворяться обычные тре
бования к точности, |
к «физичности» модели, а также |
к достаточно малым |
затратам машинного времени и |
объема памяти при расчетах.
Рассмотренные выше модели, использующие числен ное решение основных уравнений полупроводника, очень сложны, включают большое число параметров, требуют значительных затрат машинного времени и практически пригодны только для расчета отдельных элементов.
Модели, пригодные для эффективного машинного анализа ИС с большим числом элементов, могут быть синтезированы на базе уравнений переноса и непрерыв ности, выражений, описывающих объемный заряд н электрическое поле в различных областях транзисторной структуры. Различие между разными моделями заклю чается в характере используемых приближений и в ко личестве учитываемых физических эффектов в анализи руемых режимах (статический, динамический и т. п.).
С общих позиций модели транзистора можно разде лить на две большие группы — линейные для анализа переходных и частотных характеристик на малом сигна ле и нелинейные для анализа переходных процессов на большом сигнале и статических режимов.
К настоящему времени разработано достаточное ко личество моделей для анализа электронных схем (как линейные, так и нелинейных) с помощью ЭЦВМ, разли чающихся по точности, сложности, удобству перевода на машинный язык и т. д., а также накоплен определен ный опыт их использования в программах анализа инте гральных схем.
Разработчик ИС должен решить, какая из несколь ких моделей транзистора лучше всего подходит для его задач. Для этого ему приходиться разбираться в раз личных обозначениях, принятых в разных моделях, так как единой стандартной системы обозначений в настоя щее время не существует. Также следует решить, каким образом измерять параметры выбранной им модели, так как стандартных методов измерения параметров также не существует.
В главе рассмотрены модели биполярных транзисто ров, используемые в отечественных и зарубежных про граммах анализа электронных схем. Отмечены их преи мущества и недостатки, указаны области применения этих моделей.
Настоящая глава должна помочь разработчикам при выборе и описании конкретной модели, наиболее подхо дящей для их задач.
3.1. Малосигнальные модели транзистора
Гибридные П- и Т-образные эквивалентные схемы. В качестве моделей биполярного транзистора для ма шинного расчета частотных характеристик линейных ИС (ЛИС) очень широко используются гибридные П- и
а |
6 |
|
Рис. 3.1. Малосигнальные экви |
||
валентные схемы |
транзистора: |
|
а — гибридная |
П-образная; б — |
|
П-образная при аппроксимации |
||
коэффициента |
а |
двухполюсной |
функцией частоты; |
в-Т-образная. |
Т-образные эквивалентные схемы (рис. 3.1) [1]. Каждая эквивалентная схема состоит из компонентов типа R и С и одного управляемого источника тока и описывается
10параметрами:
Гб —сопротивление базы;
гэ=/7г0срт//о— дифференциальное сопротивление эмиттерного р—л-перехода;
Сэ = Сэ бар + (1/а)агэ) — емкость эмиттерного перехода,
состоящая из барьерной и диффузионной составляю щих;
К = (/Пкфг/^б) (dW6/dUK) — фактор модуляции тол щины базы;
гк—сопротивление тела коллектора;
Ск— барьерная емкость коллекторного перехода *>; $о=д1к/д1с —дифференциальное значение статиче
ского коэффициента передачи по току в схеме с ОЭ, которое связано с интегральным коэффициентом переда чи зависимостью
P/V(V£/K) |
(3.1) |
UI J h
‘h / дЬ
ша— граничная частота транзистора в схеме с ОБ; тл— фактор, учитывающий дополнительный сдвиг
фаз в выражении для аппроксимации коэффициента а от частоты:
“ СМ = |
г т ш |
ехР ( ~-£i) ; |
<3-2) |
Сп — барьерная |
емкость |
перехода коллектор — под |
|
ложка. |
|
|
|
В области частот, близких к с»а1 с целью повышения |
|
точности аппроксимации коэффициента а вместо выра
жения (3.2) |
используется двухполюсная функция |
|
|
« (/“») |
_________ССо_________ |
(3.3) |
|
(I -f-ycexji) (i -t-/w"2l) * |
|||
|
|
Тогда вместо параметра ти в модели используется па
раметр T2i и эквивалентная схема рис. 3.1,а преобра зуется к виду рис. 3.1,6.
Перечисленные параметры зависят от режима рабо ты транзистора по постоянному току и температуры. Формулы, учитывающие эти зависимости, приведены ниже.
При заданных распределении концентрации примеси и топологии транзистора параметры эквивалентных схем рис. 3.1 могут быть рассчитаны на ЭВМ -с использовани ем трехмерной физико-топологической модели (§ 2.4). При наличии тестовых образцов эти параметры опреде
ляются из результатов электрических |
измерений /i-, Y- |
|
*) |
Параллельно Ск включена еще емкость |
= Ак/юагэ. появление |
которой обусловлено эффектом Эрли. Однако, |
поскольку ^ < ^ 1 . вли |
|
янием |
обычно пренебрегают, |
|
или Z-параметров транзистора на различных частотах по методикам, описанным в § 3.4.
Точность моделей, эквивалентные схемы которых изо бражены на рис. 3.1, определяется сопоставлением изме ренных значений h-t У- или Z-параметров с соответст вующими параметрами, рассчитанными по эквивалент ным схемам. В частности, такое сравнение удобно про водить, если интегральный транзистор с изолирующим р—/г-лереходом описан обобщенной матрицей проводи мостей четвертого порядка
э |
э |
Б |
К |
я |
Уээ |
Y9б |
Уэ к |
Уэп |
|
б |
Убэ |
Убб |
Убк |
Убп |
к |
Укэ |
Укб |
Ук к |
Ук п |
п |
Упэ |
Упб |
Уп к |
Уп п |
в которой сумма коэффициентов |
в каждой строке и |
|||
в каждом столбце равна нулю. |
|
Обычные П- и Т-образные эквивалентные схемы обес печивают отличное совпадение с экспериментом на ча стотах со < 107 Гц. Следует отметить, что с ростом часто ты расхождение увеличивается в первую очередь для тех членов матрицы (3.4), которые имеют на низкой частоте малые значения вещественных составляющих, в частно сти, для Уоб и Укк. Для коэффициентов, имеющих боль шую величину действительной составляющей, например Уэо, Ук Ээ Ун в, хорошее совпадение с экспериментом име ет место до более высоких частот.
Малосигиальные модели транзистора широко исполь зуются для анализа частотных рсарактеристик с по мощью отечественных и зарубежных автоматизирован ных программ общего [2—4] и специализированного [5—7] назначения.
Для транзисторов, работающих в режиме малого сиг нала и при условии, что источник входного сигнала име ет достаточно низкий внутренний импеданс, существен ную роль играет эффект вытеснения переменного тока к периферии эмиттера. Этот эффект влияет в основном на входную проводимость транзистора Убб и проявляет ся тем сильнее, чем выше частота сигнала и значение сопротивления той части базы, которая находится под эмиттером.
Эквивалентная схема транзистора, учитывающая эффект вытеснения переменного тока,, приведена на
рис. 3.2. Входная проводимость в схеме включения с ОЭ выражается следующим образом [8]:
Yr= -щ -iho, о2= #б |"(1 — о!о) |
^ + / MC3| I (3.5) |
где а'о — коэффициент усиления активной области базы транзистора; RQ— сопротивление области базы, находя
щейся под эмиттером. Нетрудно видеть, что си
стема параметров модели пополнилась еще одним па раметром — сопротивлением Яб3 непосредственное изме рение которого не представ ляется возможным. Величи на Яб определяется расчет ным путем, для чего необ ходимо знать удельное со противление слоя базы под эмиттером и конфигурацию транзистора. Для упроще ния вычислений Yi вместо
выражения (3.5) для частот &<л/4ЯбСэ можно исполь зовать следующий степенной ряд:
— Л— т -[‘ - -ra-wc-)* 1 —
i I 1 + (* •< » ' - - i l r r ( ' « » • ] ■ Р.6)
Если величина о* очень велика и выполняется нера венство 0>1Д?бС0, то
Zt = (Кб/2шСэ)|/2 (1 — J). |
(3.7) |
При малых значениях сг модель, учитывающая эффект вытеснения переменного тока, упрощается и
Y1^[(l/rs)-j-j(oC3] ( l — а'о) при о—►0.
Заметим, что для больших значений статического то ка эмиттера и для приборов с очень малыми размерами диффузионных областей выражения (3.5)—(3.7) дают большую погрешность. В этих случаях при расчете вход ной проводимости Yi следует пользоваться формулами, приведенными в [9].
98
Эквивалентная схема Голубева — Малышева. На вы соких частотах (со>107 Гц) транзистор уже нельзя опи сать электрической схемой с сосредоточенными парамет рами. Распределенный характер эмиттерного и коллек торного р—n-переходов учитывается в эквивалентной схеме рис. 3.3, предложенной А. П. 'Голубевым и И. В. Малышевым .,[10, 11]. Эта схема имеет такое же
Рис. 3.3. Эквивалентная схема интегрального транзистора, учиты вающая распределенный характер р—/t-переходов.
число узлов, что и схема рис. 3.1,а, но в отличие от по следней содержит большее количество элементов и опи сывается 14 параметрами (а0, г0, г«, гс, ша, Сэсар, Ск, Сп,
б, V» h '0, Шt 0). Параметры а0, г0, ги, гс, ша, С0баР, Ск,
Сп имеют тот же смысл, что и для обычных моделей рис. 3.1. Безразмерные коэффициенты б, у, 0, р, и по стоянная времени то определяют соотношения между элементами эквивалентной схемы рис. 3.3
|
__ |
|
Сэ |
ОэI |
С Э1 |
Г32 |
|
Гэ |
Т92 ' |
Сэ2» Сэ2 |
Г31 * |
||||
ГЭ! * |
|||||||
|
СЭ1 = |
Сэ (1 -- 8), |
Ск -- СК1 -|- СК2» |
||||
|
Ск1 = |
Ск ^1---- » |
Сп ==Cni "4"Сп2» |
|
|||
СП1= |
Сп ^1----, |
То = J _J_ ^ |
[гб(С92 |
Ск2) -\- |
|||
+ в . - ^ - % - С кг] + |
г„(Ск + С„,), d = ( |
|
При заданных параметрах профиля примеси и токо логии транзистора параметры, описывающие модель
рис. 3.3, могут быть рассчитаны на ЭЦВМ с использо ванием физико-топологическом модели. При эксперимен тальном определении параметров модели значения ао, г8, СЭбар» Ск, Сп, находятся по известной методике. Ко
эффициенты б, у, 0, |л, I вычисляются на основании из мерений коэффициентов матрицы (3.4) на низкой часто те по формулам
|
й__ |
^э/^т |
Im [Ук к] — Cnw |
л |
1т[Упб] |
|
|
|
|
Re [Гз э] ’ |
Ск<о |
* |
|
Спсо |
• |
t _ |
1 |
I® I b s J |
____(Im [Убб]/®) + |
fa |
0 — »•)//■ ») — Сэ |
, |
|
' - |
1 |
|
»»-------------------- |
сП----------------- |
|
, _ L |
Постоянная времени т0 определяется по амплитудночастотной характеристике проводимости УКб. На часто
те fo=l/(2jtTo) модуль |Укб| уменьшается в Y 2 раз по сравнению со своим значением на низкой частоте.
Рис. ЗА. Малоснгналышя эквивалентная схема модели BIRD.
Рассмотренная модель справедлива в диапазоне ча стот со < 108 Гц.
Малосигнальная модель BIRD. Для интегральных транзисторов при соизмеримости линейных размеров активные областей с глубинами залегания р - п - перехо дов помимо ранее рассмотренных эффектов существен ную роль играют такие эффекты, как токи утечки по поверхности и влияние пассивных областей базы и кол лектора. Наиболее полно эти особенности двумерной структуры планарного транзистора учитываются в моде ли BIRD (рис. 3.4) [12].