Добавил:
Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:

книги / Математические модели элементов интегральной электроники

..pdf
Скачиваний:
20
Добавлен:
12.11.2023
Размер:
14.39 Mб
Скачать

Диоды Д'о, Д'к и генераторы тока a'j/'к, a'jv/'э, а'п/'к моделируют активную область под площадкой эмит­ тера, а диод Д"к и генератор .а"п1"к—пассивную область вне этой площадки. -Параметры модели могут быть определены экспериментально или получены на основа­

нии

результатов

расчета

 

 

электрических полей в диф­

 

 

фузионных областях транзи­

 

 

стора

по

формулам,

приве­

 

 

денным в {76, 77]. В послед*

 

 

нем случае исходной инфор­

 

 

мацией являются геометри­

 

 

ческие размеры топологии и

 

 

параметры,

определяемые

 

 

профилем

 

распределения

 

 

примеси в транзисторе и не

 

 

зависящие в первом прибли­

 

 

жении от

топологии; коэф­

 

 

фициенты

переноса

носите­

 

 

лей заряда

a'jv, ari, a'n> a"n;

Рис.. 3.33. Эквивалентная

схе­

плотности

 

обратных

тепло­

 

ма двумерной нелинейной

мо­

вых

токов

р -п - переходов

дели Голубева—Кремлева.

 

Л ю ,

Л«о[А/см2] и удельные

 

 

поверхностные сопротивления активной и пассивной ооластей базы р 'б , р"с и коллектора р 7к, р " к [Ом/квадрат].

Достоинствами модели являются учет эффектов двумерности транзисторной структуры и возможность опре­ деления параметров по топологии и удельным харак­ теристикам р—л-переходов и диффузионных областей. Модель используется для описания транзисторов самой различной конфигурации.

Недостатком модели с точки зрения использования в автоматизированных программах анализа ИС являет­ ся сложность эквивалентной схемы рис. 3.33. Она содер­ жит на три внутренних узла больше, чем в моделях Эберса — Молла и IBIS, что неизбежно приводит к уве­ личению затрат машинного времени при обращении к блоку МОДЕЛЬ КОМПОНЕНТА в программах ана­ лиза ИС.

3.3. Разновидности биполярных элементов интегральных схем

Торцевой (горизонтальный) р—л—р-транзистор. Ис­ пользование дополняющих рпр-транзисторов в иите-

тральной электронике открывает благоприятные пер­ спективы в решении ряда схемотехнических задач. На­ ряду с традиционным использованием горизонтальных транзисторов в комплементарных структурах ЛИС, эти транзисторы нашли широкое применение в новых пер­ спективных элементах логических схем с инжекционным питанием, с эмиттерными повторителями, с пере­ хватом тока [78, 79].

Рис. 3.34. Физическая структура (а)

эквивалентная схема (б)

торцевого рп—р-транзистора.

 

Физические процессы в структуре горизонтального транзистора рис. 3.34 моделируются тремя транзистора­ ми: собственно торцевым рп—р-транзистором, обра­ зованным эмиттером, базой, коллектором; вертикальным

Рис. 3.35. Эквивалентная электрическая схема модели торцевого р—л—р-транзистора ИС.

паразитным транзистором, образованным эмиттером, ба­ зой, подложкой; вертикальным паразитным р—л—р-тран­ зистором, образованным коллектором, базой, подлож­ кой.

При работе торцевого транзистора в активной обла­ сти паразитный транзистор эмиттер — база — подложка также работает в активной области.

Эквивалентная схема торцевого транзистора приве­ дена на рис. 3.3-5. Система уравнения, соответствующая эквивалентной схеме, имеет вид

1

 

—<Xl2

—*1*

/'•

/к =

—*21

1

*23

/'к

/п

—«31

*J2

1

/' п

 

 

 

 

dU9

 

 

Сэ

о

о

dt

 

 

dUK

(3.110)

+

О

Ск

о

dt

*

 

о

о

с„

dUn

 

 

 

 

 

 

dt

где aiz, a2i — инверсный и нормальный коэффициенты передачи по току для торцевого транзистора эмиттер — база — коллектор; ai3, аз1—для паразитного вертикаль­ ного транзистора эмиттер — база — подложка; агз> a# — для паразитного вертикального транзистора коллектор — база — подложка; 1 \— ток, инжектируемый р—л-пере-

ходом и определяемый по формуле (3.22);

—емкость

перехода, являющаяся суммой барьерной

(3.23) и диф­

фузионной (3.24) составляющих;

К, П.

За исключением некоторой разницы в матрице коэф­ фициентов передачи ац, модель торцевого транзистора описывается той же системой параметров, что и модель обычного интегрального транзистора, рассмотренная в § 3.2. Методы электрических измерений параметров модели рассмотрены в § 3.4.

При проектировании ИС, содержащих горизонталь­ ные р—л—р-транзисторы, возникает необходимость, исходя из. заданных физико-топологических параметров прибора, оценить значения параметров электрической модели, описываемой выражениями (3.110). Очевидно, что наибольший интерес представляют параметры актив­ ного транзистора, образованного эмиттером, базой и

коллектором (a2i, aiz, /0о, /ко, Мэфг, ^к ф т), описывающие усилительные свойства и ВАХ р—/г-переходов.

Для структуры горизонтального транзистора (рис.'3.5) параметры электрической модели могут быть с приемлемой точностью определены из соотношений, полученных в [80].

Многоэмиттерный транзистор (МЭТ). МЭТ инте­ гральной схемы изготавливается в процессе того же

Рис.

3.36.

Структура многоэмиттер-

иого

транзистора:

2 — области эмит­

/ _ область

коллектора;

теров;

3— контакт эмиттера;

4 — контак­

ты базы; 5 — область

базы;

6 — контакт

коллектора.

 

 

 

технологического цикла, что и обычные планарные тран­ зисторы. Главная структурная особенность МЭТ заклю­ чается в наличии нескольких эмиттерных диффузионных областей в одной и той же области базы (рис. 3.36). Специфической особенностью МЭТ, отличающей его от системы полностью изолированных друг от друга обыч­ ных транзисторов, является наличие паразитного тран­ зистора эмиттер — база — эмиттер. Действие паразитно­ го межэмиттерного транзистора существенно для струк­ тур, у которых расстояние между эмиттерами соизмери­ мо с расстоянием от эмиттера до коллектора. Коэффи­ циенты передачи тока между соседними эмиттерами должны быть минимальными для уменьшения взаимно­ го паразитного влияния.

Математическая модель МЭТ является обобщением ранее рассмотренной модели обычного транзистора на систему из нескольких эмиттерных переходов, образо­ ванных на общей базе [29, 81—85].

Помимо эффектов, характерных для обычного тран­ зистора, модель МЭТ учитывает эффекты, обусловлен­

ные взаимным влиянием эмиттеров

(паразитные тран­

зисторы эмиттер — база — эмиттер).

Полная эквива­

лентная схема МЭТ приведена на рис. 3.37.

Эквивалентная схема описывается следующими вы­ ражениями:

п

I ai =

I ' s l

Я ц 1 ' к

a - ijl'a j 4" C i i

(3.111)

 

 

(/Й1

 

 

 

 

п

 

 

1ц — =

/ ' к

— ^ a m ^ ai ~~ a p i ^ tt 4“

(^Л12)

 

/,,— г и — ърыг к с п

(3.113)

 

 

 

 

(3.114)

где i= 1........п\ 1=Эи К> П\ /г — число эмиттеров; t73i — напряжение на i эмиттерном переходе; /'0{ —ток, инжек­ тируемый i эмиттерным переходом; ат, ал — нормаль­ ный и инверсный коэффициенты передачи по току для

Рис. 3.37. Эквивалентная схема многоэмиттерного транзистора.

транзистора i эмиттер—база—коллектор; C3i — емкость i эмиттерного перехода, являющаяся суммой барьерной и диффузионной составляющих; — коэффициент пе­ редачи по току паразитной транзисторной структуры / эмиттер —база — i эмиттер.

Очевидно, что вследствие рекомбинации неосновных носителей в базе имеют место следующие соотношения:

пп

£ • „ < 1 ;

2 « //< 1 .

i =

i - л .

 

i=I

 

 

 

 

 

Схема измерений коэффициентов

a*j

приведена

на

рис. 3.38. С помощью

источника Еъх

в

базовую

цепь

МЭТ задается ток /б.

Для заданного

тока /б произво­

л е . 3.38. Схема измерения коэффициентов передачи по току пара­ зитных транзисторных структур / эмиттер—база—i эмиттер.

дится снятие показаний приборов в схеме рис. 3.38 и ац определяется по формуле аг-;=/эг//э.ь где /э^-=/э» Остальные параметры в выражениях (3.111)—(3.114) имеют тот же смысл, что и для обычного транзистора (§ 3.2). Методика их измерений не отличается от мето­ дики, используемой для обычного транзистора.

Модель многоколлекторных транзисторных структур, используемых в элементах биполярных логических .схем с инжекционным питанием (ИИЛ) и с перехватом тока (ПТЛ), строится аналогично модели МЭТ. Для этого необходимо в выражениях (3.111)— (3.114) поменять местами индексы Э и К.

Транзистор Шоттки. В биполярных транзисторах, работающих в режиме насыщения, скорость выключе­ ния ограничена временем рассасывания избыточного заряда базы и коллектора. Обычно в схемах для умень­ шения времени рассасывания переход коллектор —база транзистора шунтируется диодом Шоттки, чем предот­ вращается смещение этого перехода в прямом направ­ лении.

Рис. 3.39. Транзистор с

диодом Шоттки в коллекторном перехо­

де (а) и его символическое обозначение (б).

Метаппиъация

<t5

Рис. ЗАО. Диффузионная структура транзистора Шоттки с расши­ ренным электродом (а) и с защитным кольцом (6).

Комбинация из интегрального пр—/г-транзистора, полученного обычными методами планарной технологии и включенного параллельно переходу коллектор — база диода Шоттки с переходом алюминий — кремний, назы­ вается транзистором Шоттки. Базовый контакт транзи­

стора служит металлическим контактом диода, а кол­

лекторная область транзистора — п-областыо диода. Такая структура является единым полупроводниковым прибором и обозначается специальным символом (рис. 3.39). Физическая структура транзистора с барье­ ром Шоттки приведена на рис. 3.40.

Рассмотрим модель транзистора Шоттки, учитываю­ щую накопление заряда в эмиттерной, базовой и коллек­ торной областях [86]. Эквивалентная схема модели без учета изолирующего р-/г-перехода приведена на рис. 3.41.

Токи через выводы транзистора определяются следу­ ющими выражениями *>:

/ з ^ / 'з - а У 'к + С'э

/K= /' K- f / " K- a '

гг я**'

+ С К dt

d ’J 6,

э ,

/-*//

d U ^B

d t

" г и »

d t

д Л

 

 

 

1 Г

 

^ д ш

,

"Гь ДШ

d t

“Г

,(#?»э

+d t

« W . d t +

d Q n к . d t

(3.115)

(3.116)

\ = ЭКК', К"> ДШ;

С'а и С',«— емкости активных областей эмиттера и кол­

лектора;

С"а,

С",«— емкость боковых

стенок

эмит­

тера и

емкость пассивной

области

коллекторного

перехода**!; /'к, /"< —токи, инжектируемые

активной и

пассивной областями

коллекторного

перехода

(можно

приближенно

считать,

что

емкости

и токи

инжекции

активной и пассивных областей распределяются пропор­ ционально площадям этих областей); Q90= XDQI'B, Q K K = —Ткк(/,и + /,/к) — заряды, накопленные в диффузионных областях эмиттера и коллектора. На эквивалентной схеме рис. 3.41 ток, обусловленный этими зарядами, учи­ тывается с помощью элементов накопления 5Э и 5К; Тээ, Ткк— постоянные времени, связывающие избыточный заряд с токами, инжектированными соответствующими областями [86].

Высокое быстродействие, малое рассеяние мощности (поскольку в транзисторах не накапливается заряд но­

*5 Величины, относящиеся к активной и пассивной областям транзистора, помечены в формулах (3.115), (3.116) одним и двумя штрихами соответственно.

**) Емкости являются суммами барьерных и диффузионных со­ ставляющих.

сителей), высокая температурная стабильность парамет­ ров, возможность получить на общем кристалле совер­ шенно необычные сочетания схемных элементов и совместимость технологии формирования диода Шоттки с обычными процессами изготовления ИС открывают перед транзисторами Шоттки широкие перспективы в области интегральной схемотехники (78, 87].

Ь З

Рис. 3.41. Эквивалентная схема транзистора Шоттки.

Транзистор с инжекторным р—я-переходом. Биполяр­ ный транзистор, имеющий специальный инжекторный р—n-переход, является основным компонентом инжекционной интегральной логики — одного из перспективных направлений создания полупроводниковых БИС [100,

101].

Структура транзистора с инжекторным р -п -перехо­ дом приведена на рис. 3.42.

В этой структуре можно выделить два транзистора — обычный вертикальный п2—pz—ягтранзнстор и горизон­ тальный piHi—/^-транзистор. Поскольку некоторые области пр -п - и р—п—р-транзисторов совмещены, то инжекционную структуру рис. 3.42 в некоторых слу­ чаях называют «совмещенной».

Если инжекторный переход смещен в прямом направ­ лении, то часть дырок, инжектированных данным пере­ ходом, попадает в область р2. и нарушает элек­ тронейтральность базы вертикального п2р2—^-тран­ зистора. В результате через эмиттерный переход

этого транзистора начинает протекать ток, смещающий его в прямом направлении. Таким образом, транзистор с инжекторным р—л-переходом, используемый в ключе­ вом режиме с общим эмиттером, без всяких дополни­ тельных элементов выполняет функцию инвертора.

Рис. 3,42. Структура многоколлекторного транзистора с инжектор­ ным р - п -переходом

Рассмотрим модель многоколлекторного транзистора с инжекторным р—/г-переходом. Токи через инжектор­ ный, эмиттерный и «-коллекторный переходы описывают­ ся следующими выражениями:

где /и —ток инжектора; /б —ток базы; — ток «-го коллектора; ащ, ац — нормальный и инверсный коэффи­ циенты передачи тока между эмиттером и «-коллектором вертикального л—р—л-транзистора; арю aPi — нормаль­

ный и инверсный коэффициенты

передачи тока между

инжектором и базой; a

— коэффициенты передачи тока

от /-го в «-й коллектор;

л — число

коллекторов.

Токи инжекторного, эмиттерного и «-го коллекторного

переходов при нулевых

напряжениях на остальных

Соседние файлы в папке книги