Добавил:
Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:

книги / Нанодисперсные и гранулированные материалы, полученные в импульсной плазме

..pdf
Скачиваний:
2
Добавлен:
19.11.2023
Размер:
29.29 Mб
Скачать

левидных отходов, образующихся при заточке твердосплавного инструмента. В этих отходах содержится иногда до 9 % вольфрама. Поэтому извлечение дефи­ цитного для промышленности вольфрама из пылевидных отходов является весьма актуальной проблемой, в связи с чем проводятся работы по извлечению вольфрама с применением низкотемпературной плазмы.

Весьма целенаправленно и в большом объеме велись работы по исследова­ нию процессов восстановления в условиях низкотемпературной плазмы сот­ рудниками лаборатории физико-химических основ металлургии цветных и ред­ ких металлов Института металлургии АН СССР им. А. А. Байкова.

Наряду с такими основополагающими вопросами, как классификация плаз­ мохимических процессов [3.2, 3.3], в этой лаборатории исследовались законо­ мерности восстановления от ряда технологических параметров, изучались воп­ росы, связанные с взаимодействием частиц с потоком плазмы, процессы тепло­ обмена. Предложена математическая модель описания поведения частиц кон­ денсированной твердой фазы в плазменной струе и поставлена задача изучить зависимость степени испарения твердого материала в плазменной струе.

С. А. Панфилов и Ю. В. Цветков в работе [3.21] уделили значительное вни­ мание установлению зависимостей, характеризующих поведение конденсиро­ ванного вещества, вводимого в струю плазмы. Авторы показали динамику из­ менения температуры частиц и газа, их скорости, коэффициента теплопереда­ чи, радиуса частицы и степени испарения вещества в зависимости от начальной температуры струи, размера частиц, их расхода и теплофизических свойств плазмообразующего газа и обрабатываемого вещества. Расчет проводили для порошка карбида вольфрама в аргоновой плазменной струе. Для упрощения расчета авторы сделали ряд допущений. Было установлено, что основными па­ раметрами, влияющими на скорость нагрева частиц порошка, можно считать начальную температуру струи и размер частиц.

В работе Д.И. Чижикова, Ю.В. Цветкова и др. [3.22] для некоторых условий сделана оценка возможности восстановления в гетерогенном и гомогенном ре­ жиме, и на основе этого устанавливается лимитирующая стадия процесса плаз­ менного восстановления. Сделанные авторами выводы приводятся на основе расчетов зависимости от времени изменения температуры струи и частиц, ра­ диуса частиц, степени испарения, скоростей газа и частиц, коэффициента теп­ лоотдачи. Утверждается, что недостаточное время контакта частицы и плазмен­ ной струи приводит к невозможности протекания гетерогенного процесса и тогда лимитирующую роль в плазменных восстановительных процессах играет переход материалов в газовую фазу.

Ю. В. Цветков, С. С. Дейнека и др. [3.23] изучали процесс восстановления вольфрама в плазменной струе. Авторы считают, что восстановление соедине­ ния в плазменной струе с последующей регулируемой конденсацией является

т

перспективным способом получения ультратонких порошков. Отмечается принципиальная возможность получения порошков малых размеров, близких к критическому зародышу. В этой работе авторы достаточно подробно излагают условия и методику получения ультратонких порошков вольфрама восстанов­ лением триоксида вольфрама в аргоноводородной плазме.

В результате восстановления в аргоноводородной плазме получались мелко­ дисперсные порошки, обладающие повышенной химической активностью. Во избежание их самовозгорания при контакте с атмосферой применяли продувку пассивирующим газом, состоящим из азотно-кислородной смеси, оксида угле­ рода. После извлечения порошка из установки проводили анализ на кислород примерно через 20 ч. Таким образом анализировали порошки, прошедшие ес­ тественную пассивацию окислением кислородом воздуха.

При рассмотрении процесса восстановления триоксида вольфрама в аргоно­ водородной плазменной струе авторы считают возможным восстановление до металла без образования промежуточных оксидов. Теплофизические расчеты, проведенные авторами, показали, что в условиях экспериментов обеспечивал­ ся нагрев частицы оксида до температуры струи даже при пребывании в зоне высоких температур в течение 3-10-5 с.

Ссылаясь на данные термодинамического анализа, авторы считают, что процесс диссоциации W03 при температурах ~ 4000 К имеет значительное развитие, а при 6000 К степень диссоциации W03 становится равной единице, и поэтому при таких температурах вряд ли возможно восстановление по стехиометрическим реакциям. Основываясь на таких соображениях, авторы полагают, что основной целью в ус­ ловиях проведенных экспериментов является предотвращение обратных процес­ сов при выходе частицы металла из зоны высоких температур. Процесс проводили таким образом, чтобы можно было регулировать объемную конденсацию металла. Проведение резкой закалки при малом парциальном давлении паров вольфрама обеспечивало образование большого числа зародышей. Были получены порошки вольфрама глобулярной формы с удельной поверхностью 6...8 м2/г. Содержание кислорода составляло 5...7 % масс. Значительное содержание кислорода в металле относят к процессу окисления вольфрама на воздухе. Как указывают авторы, со­ держание кислорода в порошке, прошедшем водородную обработку и последую­ щую длительную выдержку на воздухе, составляет около 0,5 %.

Д. М. Чижиков, Ю. В. Цветков, И. К. Тагиров [3.24] подводят итоги резуль­ татов экспериментов в сравнении с математической моделью поведения триок­ сида вольфрама и вольфрама в плазменной струе. Решалась система уравнений о поведении конденсированного вещества в плазменной струе. При этом был сделан ряд упрощающих допущений. В целом анализ результатов показал, что при прочих равных условиях степень обработки определяется размером частиц и начальной температурой струи.

Ж

Сравнение расчетных данных по степени испарения частиц размером 10 мкм с экспериментальными данными показало, что полное испарение и восстанов­ ление имеют место при начальной температуре струи 6000 К за время около 100 мкс. При понижении температуры соответствие экспериментальных данных расчетным ухудшается. Авторы считают, что использованная ими модель явля­ ется достаточно корректной, поскольку она подтверждается эксперименталь­ ными результатами. Это позволило высказать следующие соображения о воз­ можном протекании процесса в плазменной струе.

При введении частицы в струю плазмы происходит быстрое нагревание ее до температуры кипения. В зависимости от размера частиц, температуры газа и времени пребывания в струе достигается определенная степень испарения. Для протекания гетерогенных процессов времени пребывания частицы в плазме не­ достаточно, поэтому химические превращения протекают в процессе перехода в газовую фазу и непосредственно в газовой фазе с выделением паров металлов.

Авторы отмечают, что преобладающим процессом является диссоциация ок­ сида на составные элементы. На стадии выделения металла водород связывает кислород, предупреждая тем самым протекание обратного окисления.

Кинетика восстановления частиц твердого вещества в струе низкотемпера­ турной плазмы определяется кинетикой процессов тепло- и массообмена меж­ ду веществом и плазмой и лимитируется степенью гомогенизации реагентов.

При рассмотрении плазмохимических процессов восстановления кислород­ ных соединений металлов следует рассматривать два случая, отличающиеся ус­ ловиями конденсации исходного и образующегося вещества [3.59].

В одном случае образующийся в плазме металл начинает конденсироваться из газовой фазы после конденсации недовосстановленного оксида, что приво­ дит к осложнению процесса восстановления. Это связано с тем, что не успев­ шая восстановиться большая часть оксида при конденсации выводится из зоны реакции. При этом возможно окисление паров элементов при обратных реак­ циях. Образовавшиеся частицы металла могут также конденсироваться на час­ тичках невосстановившегося оксида, что приводит к загрязнению целевого продукта. Условия восстановления таких материалов накладывают определен­ ные ограничения на крупность исходных материалов, параметры плазменной струи, скорость закалки. Это относится к таким металлам, как Са, Mg, Al, Si.

В другом случае образующийся металл конденсируется раньше оксидов, ко­ торые продолжают восстанавливаться. В таких условиях равновесие реакций из-за вывода продуктов из зоны реакции все время сдвинуто в сторону получе­ ния целевых продуктов и процесс может идти с большой степенью превраще­ ния. Протекание обратных реакций менее вероятно, поскольку их влияние ог­ раничено поверхностными слоями частиц металла. Это характерно для таких металлов, как W, Mo, V и др.

WS

Как следует из рассмотренных работ по восстановлению оксидов металлов в плазменной струе [3.2, 3.3, 3.21—3.25, 3.26], в основе предполагаемого механиз­ ма получения металла лежат два основных процесса: испарение и конденсация продуктов. Основная роль при этом отводится диссоциации оксида, восстано­ вители — водород и углерод —только взаимодействуют с кислородом при ох­ лаждении. Отмечается, что степень восстановления с введением сажистого уг­ лерода в плазменную струю невелика по сравнению с восстановлением водоро­ дом из-за трудности перевода углерода в газовую фазу.

Анализ публикаций по восстановлению оксидов металлов в дуге высокой ин­ тенсивности и в струе низкотемпературной плазмы выявил наряду с основными преимуществами, состоящими в возможности получения высоких температур, приводящих к высоким скоростям процессов, такие недостатки, как малое вре­ мя пребывания обрабатываемого вещества в плазме, использование для прове­ дения процессов мелкодисперсных материалов и получение целевых продуктов высокой дисперсности, обладающих повышенной активностью к окислению на воздухе. Указанные недостатки приводят к тому, что в результате получается це­ левой продукт —металл - со значительным содержанием кислорода.

Одним из направлений, позволяющих уменьшить роль указанных недостат­ ков, может быть увеличение времени пребывания реагирующих веществ в зоне реакции, в зоне высоких температур. Другой путь —это изменение условий наг­ рева и закалки продуктов реакции.

При реализации первого направления необходимо осуществлять неоднок­ ратную обработку исходных материалов, что можно проводить с применением кипящего или взвешенного слоя. Для этих целей могут быть использованы ре­ акторы со встречными струями [3.27], а также реакторы с кипящим слоем [3.28]. В работе [3.29] предлагается схема ВЧ-плазмотрона со взвешенным сло­ ем. В такой схеме струя высокочастотного плазмотрона используется в качест­ ве ожижающего агента в процессах со взвешенным слоем. Достоинством агре­ гатов такого типа является возможность высокочистой переработки порошков с одновременным увеличением времени контакта обрабатываемого материала с плазменной струей, во много раз большим, чем в струйных плазмотронах.

Однако к настоящему времени использование кипящего слоя в плазмохими­ ческих процессах не находит достаточного применения. В частности, в плазмо­ химических процессах обработки материалов с низкой теплопроводностью уве­ личение времени пребывания вещества в плазме является одним из основных условий полного протекания процесса. Для восстановления оксидов металлов использование реакторов с кипящим слоем создает условия более эффективно­ го теплообмена обрабатываемого вещества с плазмой.

В основу предлагаемого метода исследования процесса восстановления ок­ сидов металлов положена схема, впервые выдвинутая на кафедре высокотемпе-

ратурных материалов МИСиС В.С. Пеговым, А.В. Манухиным, Ю.А. Павло­ вым, К.А. Никитиным [3.30 —3.33] для обработки твердых дисперсных матери­ алов. Сущность предложенной схемы заключается в следующем. В реакторе создается кипящий (псевдоожиженый) слой оксида. Ожижающим агентом мо­ жет быть выбран один газ или смесь газов. В этой среде производится электри­ ческий импульсный разряд с накопителя электроэнергии (конденсаторной ба­ тареи) с напряжением от 1 до 50 кВ.

В предложенной схеме имеются преимущества по сравнению с рассмотрен­ ными выше методами плазмохимического восстановления оксидов металлов. Достоинством применения кипящего слоя для проведения различных химичес­ ких процессов является сколь угодно длительное поддержание веществ в состоя­ нии псевдоожижения. Преимущество импульсного разряда состоит в возмож­ ности введения больших количеств энергии в пространство между электродами за очень короткий промежуток времени (доли секунды), которое невозможно при использовании других видов электрических разрядов. В результате такого скоростного воздействия концентрированной энергии электрического разряда термические нагрузки на детали реактора должны быть весьма незначительными.

Кроме изложенных преимуществ в этом методе есть еще один аспект, связан­ ный с физической природой оксида, его электронно-ионным состоянием [3.34, 3.35]. Под воздействием мощного электромагнитного поля при создании им­ пульсного разряда в оксиде должны происходить изменения, связанные с шири­ ной запрещенной зоны и переходом электронов из заполненной зоны в зону проводимости. Это воздействие должно ускорять проходящие в оксидах элект­ ронные процессы. А это в свою очередь должно приводить к ускорению процес­ са восстановления при взаимодействии оксида с восстановителем. В результате такого комплексного воздействия импульсного разряда на систему оксид—газ или оксид—углерод будет интенсифицирован процесс получения металлов.

Свойства высоковольтного конденсаторного разряда и перспективы его применения для физико-химических процессов достаточно детально изложены в гл. 1 данной монографии.

3 .2 . Терм одинам ические особенности получения метиллов и т угоппявких соединений при вы соких температурок

При осуществлении металлургических восстановительных процессов при высоких температурах необходимо проводить термодинамические расчеты ве­ роятности протекания этих процессов. Как указывает Д.А. Франк-Каменецкий [3.36], в плотной среде столкновения между частицами приводят к быстрому ус­ тановлению равновесного состояния. Здесь имеется в виду низкотемператур­ ная плазма при атмосферном давлении. Плотная «холодная» и слабоионизиро-

ванная плазма, как правило, находится в состоянии теплового равновесия. По­ этому для описания свойств такой плазмы можно применять законы термоди­ намики и обычные методы расчета термодинамических свойств. Как указыва­ ется в работе [3.37], в настоящее время считается разработанным только метод расчета термодинамических свойств квазиидеальной плазмы в условиях полно­ го равновесия и локального термодинамического равновесия.

Вработе [3.38] даны методики расчета термодинамических свойств низко­ температурной плазмы. В основу методики положено представление о том, что плазму, состоящую из частиц, значительная часть которых является но­ сителями электрических зарядов, нельзя оценивать как смесь идеальных га­ зов, как это принято при определении термодинамических свойств газов, нагретых до высокой температуры традиционными способами. Для расчета термодинамических функций предложено учитывать электрические взаимо­ действия.

Авторы попытались практически рассчитать термодинамические свойства частично ионизированной холодной водородной плазмы при температурах 8000.. .25 000 К и давлениях МО3... МО7 Па и пришли к выводу о том, что нет не­ обходимости учитывать процессы ионизации в плазменных процессах с более низкими температурными параметрами.

Основные металлургические процессы с применением низкотемпературной плазмы в настоящее время протекают, как правило, в интервале температур 3000.. .6000 К и при давлениях, близких к атмосферному.

Вэтих условиях термодинамическую возможность протекания металлурги­ ческих процессов в низкотемпературной плазме можно оценить по изменению стандартного значения изобарно-изотермического потенциала или энергии 1иббса и величине константы равновесия реакций без учета процессов иониза­ ции и электрического взаимодействия:

Д(? °= д я £ - :г д $ ;

A G }=-RT\nK p.

Для оксидов вольфрама в настоящее время известны следующие конденси­ рованные фазы: [W03]; [W02]; [W02>9]; [W02>72]; [W20 5]. Наряду с конденсиро­ ванными фазами оксидов вольфрама найдены молекулы в парообразном состо­ янии, такие как (W03)„, где п = 1...4; (WO) и (W30 8).

Термодинамические характеристики этих оксидов имеются в справочниках [3.39, 3.40]. Для оценки термодинамической возможности протекания процес­ сов восстановления нет смысла рассматривать реакции со всеми существующи­ ми оксидами вольфрама. Реальную картину можно представить, рассматривая восстановление только оксидов W 03 и W 02, поскольку остальные оксиды по ве­ личине Дбу занимают промежуточные между ними положения.

На рис. 3.1 представлена зависимость энергии Гиббса оксидов вольфрама, во­ дяного пара, углекислого газа и диоксида углерода от температуры. Величины подсчитаны до 6000 К, а энергия Гиббса выражена в кДж/г-атом.

Рис. 3.1. Зависимость энергии Гкббса реакций образования оксидов вольфрама, водяного пара, углекислого газа и оксида углерода от температуры

Как видно из рис. 3.1, восстановление оксидов вольфрама водородом воз­ можно в интервале температур ниже 4300 К. Выше этой температуры водяной пар становится термодинамически нестабильным, так как идет реакция разло­ жения на водород и кислород, а следовательно, как атомарный, так и молеку­ лярный водород теряют свою восстановительную способность. Сродство водо­ рода к кислороду при температурах ниже 4000 К больше, чем у вольфрама во всех парообразных оксидах.

Как известно, углерод является весьма сильным восстановителем. При рас­ смотрении термодинамической возможности восстановления оксидов вольф­ рама углеродом видно, что он может восстанавливать их при более высоких температурах, чем водород.

Одним из прочных соединений при взаимодействии кислорода с углеродом при высоких температурах является СО, который обладает необычными термо­ динамическими свойствами, заключающимися в том, что СО один из немногих газообразных оксидов, у которого термодинамическая прочность растет с тем­ пературой. В связи с необычностью свойств СО углерод является восстановите­ лем для всех оксидов вольфрама при высоких температурах. При температуре выше 1000 К оксид углерода обладает более высоким значением энергии Гиб­ бса, чем все конденсированные и парообразные оксиды вольфрама. Из рис. 3.1 видно, что углерод обладает более эффективными восстановительными спо­ собностями, чем водород. Это определяется тем, что термодинамическая проч­ ность оксида углерода растет с температурой и он диссоциирует на составляю­ щие его элементы только при температурах, близких к 7500 К [3.41], а диоксид углерода диссоциирует на оксид углерода и кислород при температурах 3500...4000 К [3.42].

Результаты термодинамических расчетов по восстановлению оксидов вольфрама водородом приведены в табл. 3.1, где представлены значения энер­ гии Гиббса наиболее вероятных реакций восстановления оксидов вольфрама при температурах от 298 до 6000 К. Наибольшие отрицательные значения энер­ гии Гиббса при водородном восстановлении триоксида вольфрама имеют реак­ ции взаимодействия парообразных оксидов вольфрама с атомарным водородом до 4000 К (реакции 16—20, табл. 3.1).

При восстановлении вольфрамового ангидрида углеродом наибольшую тер­ модинамическую вероятность имеет реакция образования оксида углерода (СО) при взаимодействии паров оксида с парами углерода (реакция 8, табл. 3.2).

Из табл. 3.2 видно, что восстановление триоксида вольфрама метаном тер­ модинамически возможно до температуры 6000 К (реакции 9-12).

Парообразные молекулы оксидов вольфрама (W 02) и (WO) термодинамичес­ ки не стабильны ниже 4700 и 2000 К соответственно. Поэтому при нагреве ок­ сидов вольфрама до высоких температур, а затем их охлаждении (закалки) про-

№№

 

 

 

 

 

 

 

о

 

 

 

 

 

 

 

Реакция

 

 

 

Энергия Гиббса, Д и у , кДж/г-атом О , при температуре, К

 

 

пп.

 

298

500

1000

1500

2000

2500

3000

3500

4000

4500

5000

5500

6000

 

 

1

1/3[W 03] + Н2 - » 1/3W + Н20

25,9

18

2,51

"9,2

-18,81

-26,98 -34,69

-

-

2

1/2,96[W 02>%] + Н2 - »

1/2,96W + Н20

27,2

18,8

3,76

-8,36

-17,97 -26,75

-33,86

-

-

-

-

-

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

3

1/2,9[W 02>9] + Н2

1/2,9W + Н20

27,6

19,6

4,18

-7,94

-17,97

-26,33

-33,86

-

-

-

-

-

-

4

1/2,72[W 02i72] + Н2 -> 1/2,72W + Н20

32,2

23,4

7,52

"4,6

-15,47

-23,83

-31,77

-

-

-

-

-

-

5

1/2[W 02] + Н2 -> 1/2W + Н20

38,5

25,1

10,9

-3,34

-15,05

-25,1

-33,44

-

-

-

-

-

-

6

1/3[W 03] + 2Н —» 1/3W + Н20

-380

367,4

-328,1 -295,9 -232,4 -180,6

-127,1

-

-

-

-

-

-

7

1/2,96[W 02,%] + 2Н -> 1/2,96W + Н20

-379,1

-366,6 -327,3 -277,1 -231,6 -179,7

-126,2

-

-

-

-

-

8

1/2,9[W 02i9] + 2Н - »

1/2,9W + Н20

-378,3

-365,8

-326

-280,9 -231,6 -179,7

-126,2

-

-

-

-

-

-

9

1/2,72[W02>72] + 2Н —> 1/2,72W + Н20

- « 6

-153

-323,7

-277,6 -228,6 -177,2

-124,1

-

-

-

-

-

-

10

1/2[W 02] + 2Н —> 1/2W + Н20

-367,8

-344

-324

-276,3 -228,6 -178,5

-123,7

-

-

-

-

-

-

11

1/3(W 03) + Н2 -> 1/3W + Н20

-136,3

130,4

-113,3

-94,5

-74,82

-55,6

-36,37

-17,97

-0,84

15,88

31,76

48,1

61

12

1/6(W 03)2 + Н2 -> 1/3W + Н20

-47,7

-46,8

-40,5

-31,8

-22,15

-11,7

-16,72

8,78

17,56

25,4

33,44

4,18

46,8

13

1/9(W 03)3 + Н2 - »

1/3W + Н20

-20,9

-22,6

-23,4

-20,9

-17,55

-13,38

-9,2

-4,18

-2,51

-0,42

16,72

3,76

2,93

14

1/2(W 02) + Н2 -> 1/2W + Н20

-259,6

-245,4 -208,6

-171

-133,8

-96,56

-60,2

-25,08

-7,11

39,3

70,64

101,2

127,1

15

(WO) + Н2 -> W + Н20

-620,3

-614

-510,8 -432,6

-357

-282,2

-209

-137,1

-71,9

-7,52

55,18

117

170,1

16

1/3(W 03) + 2Н -> 1/3W + Н20

-542,6

-515,8 -443,9 -367,4 -288,4 -208,6

-128,7

-48,49

30,93

108,3

180

263,8

339

17

1/6(W03)2 + 2Н —> 1/3W + Н20

-358,2

-338,6 -294,3

-241,2 -191,4 -141,3

-90,7

-22,15

48,91

117,9

187,7

258

324,8

18

1/9(W03)3 + 2Н -+ 1/3W + Н20

-427,2

-416,7

-354

-293,4

-232

-166,8

-101,6 -36,37

28,84

92

155,5

219,9

280,9

19

1/2(W02) + 2Н -> 1/2W + Н20

-628,3

-631,2

-501,6 -443,9

-347

-249,5

-160,9 -51,83

38,87

132,1

246,2

317,3

405,5

20

(WO) + 2Н -> W + Н20

-569,3

536,7

-456,5

-377,5

-299,7

-222,4

-146,7 -72,31

-3,58

122,5

209,4

332,7

447,7

Реакция

 

 

 

Энергия Гиббса, AG®, кД ж /г-атом

О, при температуре, К

 

 

пп.

 

298

500

1000

1500

2000

2500

3000

3500

4000

4500

5000

5500

6000

 

 

 

 

 

1

1/3[W 03] +

1/2[С]

 

1/3W +

 

326,9

299,7

233,6

168,9

104,9

41,8

19,646

 

 

 

 

 

 

2

 

1 /2 С 0 2

 

117,5

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

1/3[W 03] +

[С]

 

1 / 3 W + с о

81,5

5,02

-88,2

-169,3

-248,3 -325,2

 

 

 

 

 

 

3

1/3(W 03) +

1/2[С]

-►

1/3W +

-101,2 -108,7 -118,7 -127,9 -137,5 -147,1 -157,2 -167,6 -179,3

179,7

-160,9 -136,3 -121,2

4

 

1/2С О г

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

1/3(W 03) +

[С] -> 1/3W + СО -40,96 -66,9 -120,8 -173,5 -212,8

-276,3 -327,3 -377,9 -429,3 -457,7 -445,2 -421,8 -409,6

5

l/3 tW 0 3] +

1/2(С ) -> 1/3W +

-278,0

-279,2 -282,2 -282,6 -281,7 -280,5 -278,0

 

 

 

 

 

 

6

 

1 /2 С 0 2

 

 

-566,8 -569,3 -572,2

-571

-566,4

-559,3 -550,5

 

 

 

 

 

 

1/3[W 03] +

(С )

 

1/3W + СО

 

 

 

 

 

 

7

1/3(W 03) +

1/2(С ) -> 1/3W +

-435,6 -427,6 -397,9

-372

-329,8 -329,8 -279,6 -251,2 -224,5

-186,0 -129,2

-6 6 ,0

-12,54

8

.

1 /2 С 0 2

 

 

-709,8 -704,3 -679,3

-653

-626,2 -599,0 -571,8 -545,1 -519,2 -460,6 -384,1 -281,3 -196,5

1/3(W 03) +

(С ) ^

1/3W + с о

9

1/3 [W 03] +

1/4С Н 4

1/3W +

72,73

49,32

-6,69

-59,4

-110,4

-159,7 -207,3

 

 

 

 

 

 

10

1 /4 С 0 2 +

1/2Н 20

90,3

50,16

-6,27

-60,2

-112,4

-163

-212,0

 

 

 

 

 

 

1/3 [W 03] +

1/ЗС Н 4 ^

1/3W +

 

 

 

 

 

 

11

1/ЗСО +

2/ЗН 20

 

-138,8 -160,9 -160,9 -173,1 -185,2

-197,3 -208,5 -209,4 -237,4 -253,3 -269,2 -286,0 -306,4

1/3(W 03) +

1/4С Н 4 -►

1/3W +

12

1 /4 С 0 2 +

1/2Н 20

-84,85 -98,23 -116,6 -145,5 -168,5 -191,0 -212,8 -236,6 -260,8 -285,5 -310,6 -335,2 -363,2

1/3(W 03) +

1/ЗС Н 4

1/3W +

 

1/ЗСО +

2/ЗН ?0

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

ПЛАЗМЕИМПУЛЬСНОЙ ВПОРОШКОВГРАНУЛИРОВАННЫХЩИУЧИНИК .3 Глава

/